Rozporządzenie Ministra Gospodarki z dnia 3 sierpnia 1998 r. w sprawie ustalenia wykazów towarów i technologii objętych szczególną kontrolą obrotu z zagranicą.

§ 1. Ustala się następujące wykazy towarów i tech nologii objętych szczególną kontrolą obrotu z zagrani cą w związku z porozumieniami i zobowiązaniami mi ę­

dzynarodowymi

1) "Lista eksportowo -tranzytowa" - wykaz towarów

i technologii o podwójnym zastosowaniu, wywo żonych za granicę i przewożonych p rzez terytorium

Rzeczypospolitej Polskiej. stan ow iący za tąc zn i k

nr 1 do rozporząd z enia ,

2) "Lista importowa" - wykaz towarów i technologii

o podwójnym zastosowaniu, przywożonych na terytorium Rzeczypospolitej Polskiej, stanowiący za łącznik nr 2 do rozporządzenia,

3) "Lista uzbrojenia" -

wyka z towarów i technologii

o przeznaczeniu wojskowym lub policyjnym, przywożonych, przewożonych i wywożonych z terytorium Rzeczypospolitej Polskiej. stanowiący zatącz ­

nik nr 3 do rozporządzenia.

Załącznik nr 1

LISTA EKSPORTOWO-TRANZYTOWA

WYKAZ TOWARÓW I TECHNOLOGII O PODWÓJNYM ZASTOSOWANIU WYWOŻONYCH ZA GRANICĘ

I PRZEWOŻONYCH PRZEZ TERYTORIUM RZECZYPOSPOLITEJ POLSKIEJ

Każda

z kategorii jest podzielona na następujące

grupy

A. Systemy, urządzenia i części

B. Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

C. Materiały

D. Oprogramowanie

E. Technologie

W cudzysłowach umieszczono terminy zdefiniowane w "słowniku", wspólnym dla Listy eksportowo-tranzytowej i importowej.

Nie są objęte kontrolą urządzenia specjalnie skonstruowane dla zastosowań medycznych, nawet jeśli zawierają elementy objęte szczególną kontrolą obrotu na

mocy niniejszego wykazu.

Uwaga Ogólna do technologii (czytać fącznie z grupą E kategorii od 1 do 9)

Eksport "technologii", która jest "niezbędna" do

"rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" towarów

wymienionych w kategoriach od 1 do 9, podlega kontroli na warunkach podanych w każdej z tych kategorii.

"Technologia", która jest "niezbędna" do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" towarów objętych

kontrolą, pozostaje pod taką samą kontrolą nawet wtedy, gdy może być stosowana do towarów taką kontrolą nie objętych.

Kontrolą eksportu nie obejmuje się minimalnej

"technologii" wymaganej do instalacji, działania,

utrzymania i naprawy towarów nie kontrolowanych

lub takich, które uzyskały odrębnie zgodę na eksport.

Uwaga: Powyższe nie dotyczy technologii napraw wyszczególnionych

w pozycjach 1E002.e.,

1E002.f., BE002.a. i BE002.b.

Kontrole transferu "technologii" nie mają zastosowania do informacji "będących własnością publiczną" ,

związanych z "podstawowymi badaniami naukowymi" lub koniecznych przy stosowaniu rozwiązań opatentowanych.

Uwaga do Technologii Jądrowej (czytać fącznie z grupą E kategorii O)

"Technologia" bezpośrednio związana z jakimikolwiek towarami wymienionymi w kategorii O objęta jest

kontrolą zgodnie z postanowieniami kategorii O.

"Technologia", która jest "niezbędna" do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" towarów objętych

kontrolą pozostaje pod taką samą kontrolą nawet wtedy, gdy może być stosowana do towarów taką kontrolą nie objętych.

Zgoda na eksport określonych towarów upoważnia

również do eksportu do tego samego użytkownika minimalnej "technologii" wymaganej dla instalacji, działania, utrzymania i naprawy tych towarów.

Kontrole transferu "technologii" nie mają zastosowania do informacji " będących własnością publiczną"

lub związanych z "podstawowymi badaniami naukowymi".

Uwaga Ogólna do oprogramowania

Niniejsza uwaga wyklucza jakąkolwiek kontrolę

"oprogramowania" wymienianego w grupie D kategorii od 1 do 9, które jest

a. ogólnie dostępne poprzez

1. sprzedaż gotowego oprogramowania w punktach sprzedaży detalicznej bez żadnych ograni czeń w wyniku

a. bezpośrednich transakcji sprzedaży

b. transakcji

pocztowe

realizowanych

na

zamówienie

c. transakcji realizowanych drogą telefoniczną i

2. przygotowanie do samodzielnej instalacji przez

użytkownika bez konieczności dalszej pomocy

sprzedawcy.

b. uznawane za "będące własnością publiczną".

-

KATEGORIA O -

OA

Poz. 915

4992-

MATERIAŁY, INSTALACJE I URZĄDZENIA JĄDROWE

i. Wymienniki ciepła (wytwornice pary) specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do

stosowania w obiegu pierwotnym "reaktora

Systemy, urządzenia i części

OA001 Następujące " reaktory jądrowe" oraz specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do użyt­

kowania z nimi urządzenia i podzespoły

jądrowego";

j. Aparatura do detekcji i pomiaru promieniowania neutronowego specjalnie zaprojektowana lub przystosowana do określenia poziomu strumienia neutronów wewnątrz

rdzenia "reaktora jądrowego".

a. "Reaktory jądrowe" zdolne do pracy w taki

sposób, żeby mogła w nich przebiegać kontrolowana, samo podtrzymująca się reakcja

łańcuchowa;

b. Metalowe zbiorniki lub główne części do

nich, także wykonane prototypowo w warsztatach, specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do umieszczania w nich rdzenia

"reaktora jądrowego", w tym górne pokrywy zbiornika ciśnieniowego reaktora;

c. Urządzenia manipulacyjne specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do załadunku

i wyładunku elementów paliwowych "reaktorów jądrowych";

d. Pręty regulacyjne specjalnie zaprojektowane

lub przystosowane do sterowania procesem

rozszczepienia w "reaktorze jądrowym", odpowiednie elementy nośne lub zawieszenia,

mechanizmy napędu oraz prowadnice rurowe do prętów regulacyjnych;

e. Przewody ciśnieniowe reaktora specjalnie

zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem na elementy paliwowe i chłodzi­

wo w "reaktorze jądrowym", wytrzymałe

na

ciśnienia

eksploatacyjne

powyżej

5,1 MPa;

OB

Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

OB001

Następujące instalacje do separacji izotopów

z "uranu naturalnego", "uranu zubożonego"

i "specjalnych materiałów rozszczepialnych"

oraz urządzenia specjalnie do nich zaprojektowane lub wykonane

a. Następujące instalacje specjalnie przeznaczone do separacji izotopów "uranu naturalnego", "uranu zubożonego" oraz "specjalnych materiałów rozszczep ialnych"

1. Instalacje do rozdzielania gazów metodą

wirowania;

2. Instalacje do dyfuzyjnego rozdzielania

gazów;

3. Instalacje do rozdzielania metodami aerodynamicznymi;

4. Instalacje do rozdzielania metodami wymiany chemicznej;

f. Cyrkon metaliczny lub jego stopy w postaci

rur lub zespołów rur specjalnie zaprojektowanych lub wykonanych z przeznaczeniem

do "reaktorów jądrowych", w których stosunek wagowy hafnu do cyrkonu wynosi poniżej 1:500;

5. Instalacje do rozdzielania techniką wymiany jonów;

g. Pompy pierwotnego obiegu specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do przetaczania chłodziwa w "reaktorach jądrowych";

7. Instalacje do rozdzielania izotopów za pomocą "laserów" molekularnych (MLlS);

h. "Zespoły wewnętrzne reaktora" specjalnie

zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do pracy w "reaktorze jądrowym",

w tym elementy nośne rdzenia, kanały paliwowe, osłony termiczne, przegrody, siatki

dystansujące rdzenia i płyty rozpraszające;

UWAGA: W pozycji OA001.h. "zespofy wewnętrzne reaktora" oznaczają dowolną większą strukturę wewnątrz

zbiornika

reaktora

wypefniającą

jedną lub więcej funkcji, takich jak

podtrzymywanie rdzenia, utrzymywanie osiowania elementów paliwowych, kierowanie przepfywem

chfodziwa w obiegu pierwotnym,

utrzymywanie osfon radiacyjnych

zbiornika reaktora i oprzyrządowa­

nia wewnątrzrdzeniowego;

6. Instalacje do rozdzielania izotopów za pomocą

"Iaserów" na parach metali

(AVLlS);

8. Instalacje do rozdzielania metodami plazmowymi;

9. Instalacje do rozdzielania metodami elektromag netycznym i;

b. Następujące wirówki gazowe oraz zespoły

i urządzenia, specjalnie zaprojektowane lub

wykonane do stosowania w procesach

wzbogacania metodą wirowania gazów;

'UWAGA: W pozycji OB001.b. "materiaf

o wysokim stosunku wytrzymafości mechanicznej do gęstości"

oznacza jeden z poniższych

a. stal maraging o wytrzymafości

na rozciąganie równej 2050 MPa

lub większej;

b. stopy aluminium o wytrzymafości na rozciąganie równej

460 MPa lub większej; lub

-

4993-

c." materiafy wfókniste lub wfókienkowe " o "module wfaściwym"

powyżej 3,18 x 1cf5 m i " wytrzymafości wfaściwej na rozciąga­

nie " powyżej 76,2 x 103 m;

1. Wirówki gazowe;

2. Kompletne zespoły rotorów;

3. Cylindryczne zespoły rotorów o grubości 12 mm lub mniejszej, średnicy od 75

do 400 mm, wykonane z "materiałów

o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości";

4. Pierścienie lub mieszki ze ściankami

o grubości 3 mm lub mniejszej i średni ­

cy od 75 mm do 400 mm przeznaczone

do lokalnego osadzenia cylindra wirnika

albo do połączenia ze sobą wielu cylin drów wirników, wykonane z "materiałów o wysokim stosunku wytrzymałości

mechanicznej do gęstości";

5. Deflektory o średnicy od 75 mm do

400 mm przeznaczone do instalowania

wewnątrz cylindra wirnika odśrodkowe­

go, wykonane z "materiałów o wysokim

stosunku wytrzymałości mechanicznej

do gęstości";

6. Pokrywy górne lub dolne o średnicy od

75 mm do 400 mm pasujące do końców

cylindra wirnika, wykonane z "materiałów o wysokim stosunku wytrzymałości

mechanicznej do gęstości";

7. Łożyska na poduszce magnetycznej skła­

dające się z pierścieniowego magnesu

zawieszonego w obudowie wykonanej

z "materiałów odpornych na korozyjne

działanie UF 6 " lub chronionej takimi

materiałami,

zawierającej

wewnątrz

czynnik tłumiący i posiadające magnes

sprzężony z nabiegunnikiem lub drugim

magnesem osadzonym w pokrywie górnej wirnika;

,

8. Specjalnie wykonane łożyska składające

się z zespołu czop-panewka osadzonego na amortyzatorze;

9. Pompy molekularne zawierające cylindry z wewnętrznymi, obrobionymi tech niką skrawania lub wytłoczonymi, spiralnymi rowkami i wewnętrznymi wywierconymi otworami;

10. Pierścieniowe stojany silników do wysokoobrotowych wielofazowych silników

histerezowych (lub reluktancyjnych) do

pracy synchronicznej w próżni z często ­

tliwością 600-2000 Hz i mocą od 50 do

1000 woltoamperów;

11. Obudowy (komory) wirówek, w których

znajdują się zespoły wirników cylindrycznych wirówki gazowej, składające

się ze sztywnego cylindra ze ściankami

o grubości do 30 mm z precyzyjnie ob-

Poz. 915

robionymi końcami i wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działa­

nie UF 6 " lub też zabezpieczone takimi

materiałami;

12. Zbieraki składające się z rurek o średni­

cy wewnętrznej do 12 mm, przeznaczone do ekstrahowania gazowego UF 6

z wirnika wirówki na zasadzie rurki Pitota, wykonane z "materiałów odpornych

na korozyjne działanie UF 6 " lub też zabezpieczone takimi materiałami;

13. Przemienniki częstotliwości (konwertory

lub inwentory) specjalnie przeznaczone

lub wykonane z przeznaczeniem do zasilania stojanów silników wirówek gazowych do wzbogacania, posiadające

wszystkie następujące cechy charakterystyczne, i specjalnie do nich przeznaczone podzespoły

a. Wyjście wielofazowe o częstotliwości

od 600 do 2000 Hz;

b. Regulacja częstotliwości z dokładno­

ścią lepszą niż 0,1%;

c. Zniekształcenia harmoniczne poniżej

2%; oraz

d. Sprawność powyżej 80%;

c. Następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do separacji metodą dyfuzji gazowej

1. Przegrody do dyfuzji gazowej wykonane

z porowatych metalowych, polimerowych lub ceramicznych "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6 ", posiadające pory o średnicach od 10 do

100 nm, grubość 5 mm lub mniejszą

oraz, w przypadku elementów cylindrycznych, średnicę 25 mm lub mniejszą;

2. Obudowy dyfuzorów gazowych wykonane lub chronione "materiałami odpornymi na korozyjne działanie UF 6 ";

3. Sprężarki (wyporowe, odśrodkowe i osiowe) lub dmuchawy do gazów, o objęto­

ściowej pojemności ssania UF 6 wynoszą­

cej 1 m 3jmin lub więcej oraz o ciśnieniu

wylotowym do 667,7 kPa, wykonane

z "materiałów odpornych na korozyjne

działanie UF 6 " albo chronione takimi materiałami;

4. Uszczelnienia wirujących wałów sprężarek

lub dmuchaw wymienionych w pozycji

OB001.c.3., skonstruowane w taki sposób,

żeby objętościowe natężenie przepływu

gazu buforowego przez

nieszczelności

wynosiło poniżej 1000 cm 3jmin;

5. Wymienniki ciepła wykonane z aluminium, miedzi , niklu lub jego stopów zawierających ponad 60% wagowych niklu

-

4994-

a. Kriogeniczne wymienniki ciepła i separatory zdolne do pracy w temperaturach 153 K (- 120°C) lub mniejszych;

b. Zamrażarki kriogeniczne zdolne do

wytwarzania temperatur

153 K (-120°C) lub niższych;

c. Dysze rozdzielające lub zespoły rurek

wirowych do oddzielania UF s od gazu nośnego;

d. Wymrażarki UF s zdolne do pracy

w temperaturach 253 K (- 20 OC) lub

albo z kombinacji tych metali, takich jak

rury platerowane, przeznaczone do pracy

w warunkach podciśnienia przy zachowaniu natężenia przepływu przez nieszczelności na takim poziomie, że ogranicza ono wzrost ciśnienia do mniej niż

10 Pa na godzinę przy różnicy ciśnień rzę­

du 100 kPa;

6. Zawory mieszkowe o średnicy od 40 do

1500 mm wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF s " albo chronione takimi materiałami;

d. Następujące urządzenia i podzespoły specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do aerodynamicznego wzbogacania materiałów

1. Dysze separujące składające się ze szczelinowych, zakrzywionych kanałów o promieniu krzywizny poniżej 1 mm, odporne

na korozyjne działanie UF s' zawierające

w środku ostre krawędzie rozdzielające

gaz płynący w dyszach na dwa strumienie;

2. Cylindryczne lub stożkowe rury napędza­

ne stycznym strumieniem wlotowym

(rurki wirowe) wykonane z "materiałów

odpornych na korozyjne działanie UFs "

lub też zabezpieczone takimi materiała­

mi, mające średnicę od 0,5 cm do 4 cm

i stosunek długości do średnicy 20:1 lub

mniejszy oraz jeden lub kilka stycznych

wlotów;

3. Sprężarki (wyporowe, odśrodkowe i osiowe) lub dmuchawy do gazów, o objęto­

ściowej pojemności ssania 2 m 3/min, wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF s " albo zabezpieczone takimi materiałami oraz wirujące

uszczelnienia wałów do nich;

4. Wymienniki ciepła wykonane z " materiałów odpornych na korozyjne działanie

UF s " lub zabezpieczone takimi materiała­

mi;

5. Obudowy aerodynamicznych elementów

rozdzielających , wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie

UF s" albo zabezpieczone takimi materiałami, przeznaczone na rurki wirowe lub

dysze rozdzielające;

6. Zawory mieszkowe wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie

UFs" albo zabezpieczone takimi materiałam i , mające średnicę od 40 do 1500 mm;

7. Instalacje przetwórcze do oddzielania UFs

od gazu nośnego (wodoru lub helu) do

zawartości 1 ppm UF s lub mniejszej,

wtym

niższych;

e.

Następujące urządzenia i podzespoły do

nich, specjalnie przeznaczone lub wykonane

z przeznaczeniem do wzbogacania materiałów techniką wymiany chemicznej

1. Cieczowo-cieczowe kolumny impulsowe

do szybkiej wymiany chemicznej z czasem przebywania czynnika w stopniu

urządzenia rzędu 30 sekund lub krótszym

oraz odporne na stężony kwas solny (np.

wykonane z odpowiednich tworzyw

sztucznych, takich jak polimery fIuorowę­

glowe lub szkło, albo pokryte takimi materiałami);

2. Cieczowo-cieczowe kontaktory odśrodko­

we do szybkiej wymiany chemicznej

z czasem przebywania czynnika w stopniu urządzenia rzędu 30 sekund lub krótszym oraz odporne na stężony kwas sol ny (np. wykonane z odpowiednich tworzyw sztucznych, takich jak polimery flu orowęglowe lub szkło, albo pokryte takimi materiałami);

3. Elektrochemiczne ogniwa redukcyjne,

odporne na działanie roztworów kwasu

solnego, do obniżania wartościowości

uranu;

4. Urządzenia do zasilania elektrochemicznych ogniw redukcyjnych, pobierające

U+4 ze strumieni substancji organicznych, wykonane w strefach kontaktu

z przetwarzanym strumieniem z odpowiednich materiałów lub chronione takimi materiałami (na przykład szkło, polimery fluorowęglowe , polisiarczan fenylu, polisulfon eteru i grafit nasycany ży­

wicą);

5. Urządzenia do sporządzania półproduk­

tów do wytwarzania roztworu chlorku

uranu o wysokiej czystości, składające

się z zespołów do rozpuszczania, ekstrakcji rozpuszczalnikowej i/lub wymiany jonowej, przeznaczone do oczyszczania,

oraz ogniwa elektrolityczne do redukowania

uranu

U+6 lub U+4 do

U+3;

6. Urządzenia do utleniania uranu ze stanu

U+3 do U+4;

-

4995-

f. Następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do wzbogacania materiałów

techniką wymiany jonów

1. Szybko reagujące żywice jonowymienne,

żywice błonkowate lub porowate makrosiatkowe, w których grupy chemiczne

biorące aktywny udział w wymianie znaj dują się wyłącznie w powłoce na powierzchni nieaktywnej porowatej struktury nośnej, oraz inne materiały kompozytowe w dowolnej stosownej formie,

w tym w postaci cząstek lub włókien, ze

średnicami rzędu 0,2 mm lub mniejszymi, odporne na stężony kwas solny i wykonane w taki sposób, że ich półczas wymiany wynosi poniżej 10 sekund, oraz

zdolne do pracy w temperaturach w zakresie od 373 K (100°C) do 473 K (200°C);

2. Kolumny jonitowe (cylindryczne) o śred­

nicy powyżej 1000 mm, wykonane z materiałów odpornych na stężony kwas solny lub chronione takimi materiałami (np.

tytan lub tworzywa fluorowęglowe)

i zdolne do pracy w temperaturach w zakresie od 373 K (100°C) do 473 K (200°C)

i przy ciśnieniach powyżej 0,7 MPa;

3. Jonitowe urządzenia zwrotne (urządzenia

do chemicznego lub elektrochemicznego

utleniania lub redukcji) przeznaczone do

regeneracji substancji do chemicznej redukcji lub utleniania, stosowanych w jonitowych kaskadach do wzbogacania

materiałów;

g. Następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do separacji izotopów za pomocą "Iaserów" na parach metali (AVUS)

1. Dużej mocy działa elektronowe wytwarzające strumień elektronów w reakcji

zdzierania albo skaningowe działa elektronowe o mocy wyjściowej powyżej

2,5 kW/cm, przeznaczone do urządzeń do

przeprowadzania uranu w stan pary;

2. Systemy manipulowania ciekłym uranem

metalicznym dla stopionego uranu lub

jego stopów, składające się z tygli wykonanych z materiałów odpornych na odpowiednie efekty korozyjne i ciepło (np.

tantal, grafit powlekany tlenkiem itrowym, grafit powlekany tlenkami innych

metali ziem rzadkich lub ich mieszanki)

lub chronionych takimi materiałami oraz

instalacji chłodniczych do tygli;

N.B. sprawdź także pozycję 2A225.

3. Urządzenia do gromadzenia produktów

lub frakcji końcowych, wykonane z materiałów odpornych na działanie cieplne

i korozyjne uranu w postaci pary lub cie-

czy, takich jak grafit powlekany tlenkiem

itru lub tantal lub wyłożone takimi materiałami;

4. Obudowy modułów urządzeń rozdzielają­

cych (zbiorniki cylindryczne lub prosto_ . padłościenne) przeznaczone na źródła

par uranu metalicznego, działa elektronowe oraz urządzenia do gromadzenia

produktu i frakcji końcowych;

5. "Lasery" lub systemy "Iaserów" do rozdzielania izotopów uranu wyposażone

w stabilizatory częstotliwości przystosowane do pracy przez dłuższe okresy czasu;

N.B. sprawdź także pozycje 6A005

i 6A205.

h. Następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do rozdzielania izotopów za pomocą "Iaserów" molekularnych (MUS) lub

reakcji chemicznej wywołanej selektywną

laserową aktywacją izotopów (CRISLA)

1. Naddźwiękowe dysze rozprężne do chło­

dzenia mieszanin UF 6 z gazem nośnym

do temperatur 150 K · (-123°C) lub niż ­

szych, wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF 6";

2. Urządzenia do gromadzenia pięciofluor­

ku uranu (UF 5 ), składające się z kolektorów filtracyjnych, udarowych lub cykl 0nowych lub ich kombinacji, wykonane

z "materiałów odpornych na korozyjne

działanie UFJUF6";

3. Sprężarki wykonane z "materiałów od pornych na korozyjne działanie UF6" albo zabezpieczone takimi materiałami

oraz wirujące uszczelnienia wałów do

nich;

4. Urządzenia do fluorowania UF 5 (stałego)

do UF 6 (gazowego);

5. Urządzenia przetwórcze do oddzielania

UF 6 od gazu nośnego (np. azotu lub argonu), wtym

a. Kriogeniczne wymienniki ciepła i separatory zdolne do pracy w temperaturach 153 K (-120°C) lub mniejszych;

b. Zamrażarki kriogeniczne zdolne do wytwarzania temperatur 153 K (-120°C)

lub niższych;

c. Wymrażarki UF 6 zdolne do pracy

w temperaturach 253 K (-20°C) lub

niższych;

6. "Lasery" lub systemy" laserów" do rozdzielania izotopów uranu wyposażone

w stabilizatory częstotliwości przystosowane do pracy przez dłuższe okresy czasu;

N.B. sprawdź

i 6A205.

także

pozycje

6A005

-

4996-

i. Następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do plazmowego rozdzielania

materiałów

1. Źródła mikrofal i anteny do wytwarzania

lub przyspieszania jonów, o częstotliwo ­

ści wyjściowej powyżej 30 GHz i średniej

mocy wyjściowej powyżej 50 kW;

2. Wysokoczęstotliwościowe cewki do

wzbudzania jonów pracujące w zakresie

częstotliwości powyżej 100 kHz i zdolne

do pracy w warunkach średniej mocy powyżej 40 kW;

3. Urządzenia do wytwarzania plazmy uranowej;

4. Systemy manipulowania ciekłym metalem dla stopionego uranu lub jego stopów, składające się z tygli wykonanych

z materiałów odpornych na odpowiednie

efekty korozyjne i ciepło (np. tantal, grafit powlekany tlenkiem itrowym, grafit

powlekany tlenkami innych metali ziem

rzadkich lub ich mieszanki) lub chronionych takimi materiałami oraz instalacji

chłodniczych do tygli;

N.B. sprawdź także pozycję 2A225.

5. Urządzenia do gromadzenia produktów

lub frakcji końcowych , wykonane z materiałów odpornych na działanie cieplne

i korozyjne par uranu, takich jak grafit powlekany tlenkiem itru lub tantal, lub zabezpieczone takimi materiałami;

6. Obudowy modułów separatorów (cylindryczne) na źródło plazmy uranowej,

cewki na prądy wysokiej częstotliwości

oraz kolektory do produktu i frakcji koń ­

cowych, wykonane z odpowiednich materiałów niemagnetycznych (np. ze stali

nierdzewnej).

Poz. 915

z materiałów niemagnetycznych (np.

z grafitu lub stali nierdzewnej) i skonstruowane z przeznaczeniem do pracy przy

ciśnieniach 0,1 Pa lub niższych;

4. Elementy biegunów magnesów o średni­

cy powyżej 2 m;

5. Wysokonapięciowe zasilacze do źródeł

jonów, posiadające wszystkie następują­

ce cechy charakterystyczne

a. Zdolne do pracy w trybie ciągłym ;

b. Napięcie wyjściowe 20 000 V lub więk­

sze;

c. Natężenie prądu na wyjściu lA lub

większe ; oraz

d. Regulacja napięcia z dokładnością lepszą niż 0,01% w ciągu 8 godzin;

N.B. sprawdź także pozycję 3A227.

6. Zasilacze magnesów (wysokiej mocy,

prądu stałego) mające wszystkie wymienione poniżej cechy charakterystyczne

a. Zdolność do pracy w trybie ciągłym

z prądem wyjściowym o natężeniu

500 A lub większym i napięciu

100 V lub większym; oraz

b. Regulacja natężenia lub napięcia prą­

du z dokładnością większą niż 0,01%

w ciągu 8 godzin.

N.B. sprawdź także pozycję 3A226.

OB002 Następujące specjalnie zaprojektowane lub wy-

konane pomocnicze instalacje, urządzenia

i podzespoły do instalacj i separacji izotopów

wymienionych w pozycji 08001, wykonane

z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF 6 " lub chronione materiałami tego typu

a. Autoklawy, piece lub instalacje do doprowadzania UF 6 do instalacj i do wzbogacania;

j . Następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do wzbogacania materiałów

metodami elektromagnetycznymi

b. Desublimatory lub wymrażarki do odprowadzania UF 6 z instalacji przetwórczych i dalszego jego transportu po ogrzaniu;

1. Źródła jonów, pojedyncze lub wielokrotne, składające się ze źródła pary, jonizatora oraz akceleratora wiązki wykonane

z odpowiednich materiałów niemagnetycznych (np. grafitu, stali nierdzewnej

lub miedzi) i zdolne do wytwarzania

wiązki jonów o całkowitym natężeniu

50 mA lub większym;

c. Instalacje do produktu lub frakcj i końcowych

do transportu UF 6 do zbiorników;

d. Instalacje do skraplania lub zestalania stosowane do usuwania UF 6 z procesu wzbogacania drogą sprężania i przetwarzania UF 6

w ciecz lub ciało stałe;

e. Instalacje rurociągowe i zbiorniki specjalnie

przeznaczone do transportu i manipulowania UF 6 w procesach rozdzielania izotopów

metodą dyfuzji, ultrawirowania lub kaskady

aerodynamicznej;

2. Płytkowe kolektory jonów do gromadzenia wzbogaconych lub zubożonych wią­

zek jonów uranu, składające się z dwóch

lub więcej szczelin i kieszeni i wykonane

z odpowiednich materiałów niemagnetycznych (np. grafitu lub stali nierdzewnej);

f. 1. Próżniowe instalacje rur rozgałęźnych lub

zbiorników o wydajności ssania wynoszą­

cej 5 m 3 na minutę lub więcej; lub

3. Obudowy próżniowe do elektromagnetycznych separatorów uranu wykonane

2. Pompy próżniowe specjalnie przeznaczone do pracy w atmosferze UF6 ;

-

g. Spektrometry masowe (źródła jonów), specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do bieźącego (on-line) pobierania próbek surowca, produktu lub frakcji

końcowych ze strumieni zawierających UF ,

6

posiadające wszystkie wymienione poniżej

cechy

1. Jednostkową rozdzielczość masy atomowej powyżej 320;

2. Źródła jonów wykonane lub powlekane

nichromem lub monelem albo niklowane;

3. Elektronowe źródła jonizacyjne; i

4. Wyposażone w kolektory umożliwiające

analizę izotopową.

08003

Następujące instalacje do przetwarzania uranu

i urządzenia specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do nich

a. Instalacje do przetwarzania koncentratów rudy uranowej na U0 3 ;

b. Instalacje do przetwarzania U0 3 na UF 6;

c. Instalacje do przetwarzania U0 3 na U0 2;

d. Instalacje do przetwarzania U0 2 na UF 4;

e. Instalacje do przetwarzania UF 4 na UF 6 ;

f. Instalacje do przetwarzania UF 4 na metaliczny uran;

g. Instalacje do przetwarzania UF 6 na U0 2;

h. Instalacje do przetwarzania UF 6 na UF 4'

08004

Poz. 915

4997-

Następujące instalacje do produkcji lub stęża­

nia ciężkiej wody, deuteru i związków deuteru

oraz specjalnie do nich zaprojektowane i wykonane urządzenia

a. Następujące instalacje do produkcji ciężkiej

wody, deuteru i związków deuteru oraz specjalnie do nich zaprojektowane i wykonane

urządzenia

1. Instalacje do produkcji metodą wymiany

woda - siarkowodór;

2. Instalacje do produkcji metodą wymiany

amoniak - wodór;

b. Następujące urządzenia i podzespoły

1. Kolumnowe wymienniki typu woda

siarkowodór, wykonane z oczyszczonej

stali węglowej (np. ASTM A516), mające

średnicę od 6 m do 9 m i zdolność do pracy przy ciśnieniach równych lub więk­

szych niż 2 MPa oraz posiadające naddatek korozyjny o wartości 6 mm lub więk­

szy;

2. Jednostopniowe, niskociśnieniowe (np.

0,2 MPa), odśrodkowe dmuchawy lub

kompresory wymuszające cyrkulację gazowego siarkowodoru (tj. gazu zawierającego więcej niż 70% H2S), o przepustowości równej lub większej niż 56 m 3/sekundę podczas pracy przy ciśnieniach za-

sysania równych lub większych niż

1,8 MPa, posiadające uszczelnienia

umożliwiające pracę w środowisku wilgotnego H2 S;

3. Kolumnowe wymienniki typu amoniakwodór o wysokości równej lub większej

niż 35 m i średnicy od 1,5 m do 2,5 m,

zdolne do pracy przy ciśnieniach więk­

szych niż 15 MPa;

4. Konstrukcje wewnętrzne kolumn włącz­

nie z kontaktorami stopniowymi i pom pami stopniowymi, w tym zanurzeniowymi, do produkcji ciężkiej wody w procesie wymiany amoniak - wodór;

5. Instalacje do krakowania amoniaku zdolne do pracy przy ciśnieniach równych lub

większych niż 3 MPa przy produkcji cięż­

kiej wody w procesie wymiany amoniak

-wodór;

6. Podczerwone analizatory absorpcyjne

zdolne do bieżącej (on-line) analizy stosunku wodoru do deuteru w warunkach,

w których stężenia deuteru są równe lub

większe niż 90%;

7. Palniki katalityczne do konwersji wzbogaconego deuteru w ciężką wodę przy uży­

ciu procesu wymiany amoniak - wodór;

8. Kompletne systemy wzbogacania ciężkiej

wody lub zaprojektowane dla nich kolumny, przeznaczone do zwiększania

koncentracji deuteru w ciężkiej wodzie

do poziomu reaktorowego.

08005 Instalacje specjalnie przeznaczone do wytwarzania elementów paliwowych do "reaktorów

jądrowych" oraz specjalnie dla nich zaprojektowane lub przystosowane urządzenia.

UWAGA: Instalacje do wytwarzania elementów paliwowych do "reaktorów ją­

drowych " są wyposażone w urządze­

nia, które

a. Pozostają w bezpośrednim kontakcie z materia/ami jądrowymi albo

bezpośrednio je przetwarzają lub

sterują procesem ich produkcji;

b. Uszczelniają materiaty jądrowe

wewnątrz ich koszulek;

c. Kontrolują szczelność koszulek;

lub

d. Kontrolują końcową obróbkę paliwa sta/ego.

08006 Instalacje do przerobu napromieniowanych

elementów paliwowych "reaktorów jądro­

wych" oraz specjalnie dla nich przeznaczone

lub wykonane urządzenia i podzespoły.

UWAGA: Pozycja 08006 obejmuje

a. Instalacje do przerobu napromieniowanych elementów paliwowych "reaktorów jądrowych",

r

-

4998-

Poz. 915

w tym urządzenia i podzespoty,

które zazwyczaj wchodzą w bezpośredni kontakt z materiatami jądro­

wymi, stużą do ich bezpośrednie­

go przetwarzania lub sterowania

ich przeptywem;

znaczeniem do konwersji azotanu

plutonu w tlenek plutonu;

g. Kompletne instalacje specjalnie

przeznaczone

lub

wykonane

z przeznaczeniem do produkcji

metalicznego plutonu;

b. Maszyny do rozdrabniania lub kruszenia elementów paliwowych, tj.

zdalnie sterowane urządzenia do

cięcia, rozdrabniania lub krojenia

napromieniowanych

zespotów,

wiązek lub prętów paliwowych

"reaktorów jądrowych ";

c. Urządzenia

do

rozpuszczania,

zbiorniki podkrytyczne (np. pierścieniowe lub pfaskie zbiorniki

o matych średnicach), specjalnie

przeznaczone

lub

wykonane

z przeznaczeniem do rozpuszczania napromieniowanego paliwa do

"reaktorów jądrowych ", odporne

na dziafanie gorących, silnie żrą­

cych, ptynów oraz przystosowane

do zdalnego zafadunku i obsfugi;

d. Ekstraktory

przeciwprądowe

i urządzenia do separacji metodą

wymiany jonów, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do przerobu napromieniowanego "uranu naturalnego ",

"uranu zubożonego " lub "specjalnych materiafów rozszczepialnych";

e. Zbiorniki technologiczne lub magazynowe, specjalnie zaprojektowane w taki sposób, że są podkrytyczne i odporne na żrące dziafanie

kwasu azotowego;

Uwaga: Zbiorniki technologiczne

lub magazynowe mogą

mieć następujące wfaści­

wości

1. ścianki

lub

struktury

wewnętrzne z co najmmej

dwuprocentowym ekwiwalentem borowym (obliczonym dla

wszystkich skfadowych

pierwiastków w sposób

zdefiniowany w uwadze

do pozycji OC004);

2. maksymalną średnicę

rzędu 175 mm w przypadku zbiorników cylin drycznych; lub

3. maksymalną szerokość

75 mm w przypadku

zbiorników pfytowych

lub pierścieniowych;

f. Kompletne

instalacje specjalnie

przeznaczone lub wykonane z prze-

h. Instrumenty do sterowania procesem przetwarzania, specjalnie

przeznaczone

lub

wykonane

z przeznaczeniem do monitorowania lub sterowania przerobem napromieniowanego " uranu naturalnego ", "uranu zubożonego " lub

" specjalnych materiafów rozszczepialnych " .

OC

Materiały

OC001

"Uran naturalny" lub "uran zubożony" lub tor

w formie metalu, stopu, związku chemicznego

lub koncentratu i dowolnego innego materiału

zawierającego jeden lub więcej z powyższych

materiałów.

UWAGA : Pozycja OC007 nie obejmuje kontrolą

a. Czterech gramów lub mniej "uranu naturalnego" lub "uranu zubożonego ", jeżeli znajduje się w czujnikach instrumentów pomiarowych;

b. " Uranu zubożonego" specjalnie

wyprodukowanego z przeznaczeniem do wyrobu następujących

produktów cywilnych spoza dziedziny jądrowej

7. Ostony;

2. Wypefnienia;

3. Balasty o masie nie przekraczającej 700 kg;

4. Przeciwwagi o masie nie przekraczającej 100 kg;

c. Stopów zawierających mniej niż

5% toru;

d. Produktów ceramicznych zawierających tor, ale wykonanych do zastosowań poza dziedziną jądrową.

OC002 " Specjalne materiały rozszczep ialne " .

UWAGA: Pozycja OC002 nie obejmuje kontrolą

czterech " gramów efektywnych " lub

mniej, w przypadku ich stosowania

w czujnikach instrumentów pomiarowych.

OC003 Deuter, ciężka woda (tlenek deuteru) i inne

związki deuteru oraz ich mieszaniny i roztwory,

w których stosunek liczby atomów deuteru do

atomów wodoru jest większy niż 1 : 5000.

-

4999-

OC004 Grafit klasy jądrowej. o stopniu zanieczyszczenia poniżej 5 części na milion " ekwiwalentu boru" oraz gęstości większej niż 1,50 g/cm 3 .

UWAGI: 1. Pozycja OC004 nie obejmuje kontrolą

a. wyrobów grafitowych o masie

mniejszej niż 1 kg, różnych od

specjalnie zaprojektowanych lub

przystosowanych do wykorzysta nia w reaktorach jądrowych,

b. proszku grafitowego.

2. W pozycji OC004 "ekwiwalent boru" (BE) zdefiniowany jest jako suma BEz dla domieszek (z pominięciem BEc dla węgla, ponieważ wę ­

giel nie jest uważany za domieszkę)

z uwzględnieniem boru, gdzie

BEz (ppm) = CF x stężenie pierwiastka Z określane w ppm (czę­

ściach na milion),

gdzie CF jest wspótczynnikiem

przeliczeniowym

CF = O"zAa

O"aAz

a O"a i 0"4 są przekrojami czynnymi

na wychwyt neutronów termicznych (w barnach) odpowiednio dla

boru pochodzenia naturalnego

i pierwiastka Z, a Aa i Az są masami

atomowymi odpowiednio boru naturalnego i pierwiastka Z.

OC005 Specjalnie wzbogacone związki lub proszki do

wyrobu przegród do dyfuzji gazowej, odporne

na korozyjne działanie UF 6 (np. nikiel lub stop

zawierający 60% wagowych lub więcej niklu,

tlenek aluminium i całkowicie fluorowane polimery węglowodorowe o procentowym stopniu czystości w proporcji wagowej 99,9 lub powyżej i średniej wielkości cząstek poniżej

10 mikrometrów, m ierzonej według normy

Amerykańskiego Towarzystwa Materiałoznaw­

czego (ASTM) 8330 i wysokim stopniu jednorodności wymiarowej cząstek.

00

Oprogramowanie

00001 "Oprogramowanie" specjaln ie opracowane

lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do "rozwoju", "produkcji" lub " użytkowania" towarów wymienionych w tej kategorii.

OE

OE001

Technologia

" Technologie " według Uwagi do Technologii

"rozwoju", "produkcji" lub

towarów wymienionych w tej

kategorii .

Jądrowej , do

"użytkowania "

KATEGORIA 1 - MATERIAŁY, SUBSTANCJE CHEMICZNE, "MIKROORGANIZMY" I "TOKSYNY"

1A

1A001

Systemy, urządzenia i części

kietowe i bezzatogowe systemy

obiektów latających w powietrzu.

Następujące elementy wykonane ze związków

fluorowych

a. Uszczelnienia, uszczelki, masy uszczelniają­

ce lub przepony w układach paliwowych,

przeznaczone dla przemysłu lotniczego lub

kosmicznego, w których ponad 50% zawartości wagowej stanowi jeden z materiałów

objętych

kontrolą

według

pozycji

1.C009.b lub1C009.c.;

b. Polimery i kopolimery piezoelektryczne wykonane z kopolimerów fluorku winylidenu,

wymienionych w pozycji 1C009.a

1A002 Wyroby albo laminaty "kompozytowe"

N.B. sprawdź

i9A110.

b. Posiadające "matrycę" metalową lub węglo­

wą i wykonane z

1. Węglowych " materiałów włóknistych lub

włókienkowych" o

a. "module właściwym" powyżej

10.15 x 106 m; i

2. o grubości większej od 200 mikrometrów;

UWAGA: W pozycji 1A001.c. "pocisk rakietowy" oznacza kompletne systemy ra-

pozycje 1A202, 9A010

a. Posiadające "matrycę" organiczną i wykonane z materiałów objętych kontrolą według

pozycji 1C010.c., 1C010.d. lub 1C010.e.; albo

1. w postaci arkuszy albo folii; i

c. Uszczelnien ia, uszczelki, gniazda zaworów,

przepony albo membrany wykonane z elastomerów fluorowych zawierających co najmniej jeden monomer eteru winylowego,

specjalnie opracowane do "samolotów", rakiet kosmicznych lub pocisków rakietowych.

także

b. " wytrzymałości właściwej na rozcią­

ganie" powyżej 17.7 x 10 4 m; lub

2.

Materiałów

wymien ionych w pozycji

1C010.c.

UWAGI: 1. Pozycja 1A002 nie dotyczy wyrobów kompozytowych ani laminatów wykonanych z żywic epoksydowych impregnowanych węglowymi

-

5000 -

" materiafami wfóknistymi lub wfókienkowymi", przeznaczonych do

naprawy elementów lub laminatów

samolotowych, pod warunkiem, że

ich wielkość nie przekracza 1 m 2 .

2. Pozycja 1A002 nie obejmuje kontro lą cafkowicie lub częściowo wykoń ­

czonych towarów, specjalnie przeznaczonych do następujących, wytącznie cywilnych zastosowań

a. sprzęt sportowy,

b. przemysf samochodowy,

c. przemyst obrabiarkowy,

d. zastosowania medyczne.

1A003 Wyroby z substancji po~imerowych nie fluorowanych, określonych w pozycji 1C008.a.3.,

w postaci folii, arkuszy, taśm lub wstęg

a. o grubości powyżej 0,254 mm ; lub

b. powlekane lub laminowane węglem , grafitem, metalami lub substancjami magnetycznymi.

UWAGA: Pozycja 1A003 nie obejmuje kontrolą

wyrobów powlekanych lub laminowanych miedzią, przeznaczonych do

produkcji elektronicznych ptytek drukowanych .

Poz. 915

b. Urządzeń i wyposażenia, ograniczonych projektowo lub funkcjonalnie do ochrony przed typowymi

cywilnymi zagrożeniami przemysfowymi, np. w górnictwie, przemyśle wydobywczym, rolnictwie,

przemyśle farmaceutycznym, medycynie, ochronie środowiska, zagospodarowaniu odpadów lub

w przemyśle spożywczym .

1A005 Kamizelki i okrycia kuloodporne oraz specjalnie zaprojektowane do nich części, różne od

wykonanych według norm lub technicznych

wymagań wojskowych oraz od ich odpowiednikówo porównywalnych parametrach.

N.B. sprawdź także Listę Uzbrojenia.

UWAGI: 1. Pozycja 1A005 nie obejmuje kontrolą indywidualnych okryć kuloodpornych ani akcesoriów do nich, kiedy

sfużą one ich użytkownikowi 'do

osobistej ochrony.

2. Pozycja 1A005 nie obejmuje kontrolą kamizelek kuloodpornych zaprojektowanych do ochrony czotowej

wytącznie zarówno przed odłamka­

mi, jak i wybuchami ładunków

i urządzeń niewojskowych.

N.B. sprawdź także pozycje 2B351 i 2B352.

1A102 Przesycane pirolizowane materiały typu wę­

giel-węgiel przeznaczone do kosmicznych pojazdów nośnych wymienionych w pozycji

9A0041ub do rakiet meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A 104.

a. maski przeciwgazowe, pochłaniacze i wyposażenie dekontaminacyjne do nich, przezna czone lub zmodyfikowane dla ochrony

przed czynnikami biologicznymi i materiała ­

mi promieniotwórczymi "przystosowanymi

do użycia w działaniach wojennych " lub

przed chemicznymi środkami bojowymi,

a także części specjalnie do nich zaprojektowane;

1A202 Elementy kompozytowe, różne od wymienionych w pozycji 1A002, w postaci rur o średnicy

wewnętrznej od 75 mm do 400 mm wykonane

z jednego z "materiałów włóknistych lub włó­

kienkowych"

wymienionych

w

pozycji

1C010.a., 1C010. b. albo 1C210.a. lub z materiałów węglowych wyspecyfikowanych w pozycji

lC210.c.

1A004 Następujące urządzenia , wyposażenie i części

ochronne i detekcyjne, różne od objętych kontrolą na podstawie Listy uzbrojenia

b. ubrania, rękawice i obuwie ochronne specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane

dla ochrony przed czynnikami biologicznymi i materiałami promieniotwórczymi

"przystosowanymi do użycia w działaniach

wojennych" lub przed chem icznym i środka ­

mi bojowymi;

c. jądrowe, biologiczne i chemiczne systemy

detekcji specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane dla wykrywania lub identyfikacji

czynników biologicznych i materiałów promieniotwórczych "przystosowanych do

użycia w działaniach wojennych" oraz chemicznych środków bojowych .

UWAGA: Pozycja 1A004 nie obejmuje kontrolą

a. Osobistych monitorujących dozymetrów promieniowania jądrowe­

go;

N.B. sprawdź także pozycje 9A010 i 9A110.

1A225 Katalizatory platynowe specjalnie opracowane

lub przygotowane do wspomagania reakcji

wymiany izotopów wodoru pomiędzy wodorem a wodą w celu separacji trytu z ciężkiej wody albo w celu produkcji ciężkiej wody.

1A226 Wyspecjalizowane wkłady do oddzielania cięż­

kiej wody od wody zwykłej, wykonane z siatek

z brązu fosforowego i przeznaczone do stosowania w próżniowych wieżach destylacyjnych.

1A227 Przeciwradiacyjne okna ochronne o wysokiej

gęstości (ze szkła ołowiowego lub podobnych

materiałów) o powierzchni w obszarze nieradioaktywnym powyżej 0,09 m 2 , gęstości powyżej

3 g/cm 3 i grubości 100 mm lub większej; oraz

specjalnie do nich skonstruowane ramy.

-

-

1B

1B001

- --

- --- ------------------------------------------

5001

Poz. 915

materiałów do prasowania laminatów zbrojo-

4. Urządzenia do przetwarzania za pomocą

obróbki cieplnej włókien macierzystych

zawierających aluminium we włókna

aluminiowe;

nych, preform lub "kompozytów" wymienionych w pozycji 1A002 lub 1C010 oraz specjalnie do nich skonstruowane elementy i akcesoria

e. Urządzenia do produkcji materiałów do prasowania laminatów zbrojonych, wymienionych w pozycji 1C010.e., metodą topienia

termicznego (hot melt);

N.B. sprawdź takźe pozycje 1B101 i 1B201.

f.

Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

Następujące urządzenia do produkcji włókien,

a. Maszyny nawojowe do włókien, z koordynowanymi i programowanymi w trzech lub

więcej osiach ruchami związanymi z ustawianiem, owijaniem i nawijaniem włókien,

specjalnie skonstruowane z przeznaczeniem

do produkcji wyrobów "kompozytowych"

lub laminatów z "materiałów włóknistych

lub włókienkowych";

b. Maszyny do układania taśm albo mat z włó­

kien, z koordynowanymi i programowanymi

w dwóch lub więcej osiach ruchami związa­

nymi z ustawianiem w odpowiednim poło­

żeniu i układaniem taśm, mat lub płyt, specjalnie skonstruowane z przeznaczeniem do

"kompozytowych" elementów konstrukcyjnych płatowca samolotu lub pocisku rakietowego;

rentgenowskiej i specjalnie skonstruowane

do materiałów "kompozytowych".

1B002 Systemy i elementy do nich, specjalnie zaprojektowane z zabezpieczeniami przed zanieczyszczeniami i skonstruowane z przeznaczeniem do produkcji stopów metali, proszków ze

stopów metali lub materiałów stopowych wymienionych w pozycjach 1C002.a.2., 1C002.b.

lub 1C002.c.

1B003

Narzędzia, matryce, formy lub osprzęt o specjalnej konstrukcji, do przetwarzania tytanu albo aluminium lub ich stopów w "stanie nadplastycznym" albo metodą "zgrzewania dyfuzyjnego" z przeznaczeniem do produkcji

a. Konstrukcji lotniczych i kosmicznych;

b. Silników lotniczych i kosmicznych; lub

c. Specjalnie skonstruowanych zespołów do

wspomnianych wyżej konstrukcji lub silni ków.

1B101

Następujące urządzenia, różne od wymienionych w pozycji 18001, do "produkcji" kompozytów konstrukcyjnych oraz specjalnie do nich

skonstruowane elementy i akcesoria

UWAGA: W pozycji 1800 1.b. "pocisk rakietowy" oznacza kompletne systemy

rakietowe i bezzatogowe systemy

obiektów latających w powietrzu.

c. Wielokierunkowe, wielowymiarowe maszyny tkackie albo maszyny do przeplatania,

włącznie z zestawami adaptacyjnymi i modyfikacyjnymi, przeznaczone do tkania,

przeplatania lub oplatania włókien w celu

wytworzenia

elementów

"kompozyt owych";

UWAGA: Pozycja 18001.c. nie obejmuje kontrolą maszyn tekstylnych nie zmodyfikowanych do wspomnianych

powyżej zastosowań końcowych;

d. Następujące urządzenia specjalnie skonstruowane albo przystosowane do produkcji

włókien wzmocnionych

1. Urządzenia do przetwarzania włókien polimerowych (takich jak poliakrylonitryl,

włókno z celulozy regenerowanej, pak albo polikarbosilan) we włókna węglowe

lub włókna węglika krzemu, włącznie ze

specjalnymi urządzeniami do naprężania

włókien podczas ogrzewania;

2. Urządzenia do chemicznego osadzania

par pierwiastków lub związków chemicznych na ogrzanych podłożach włókni­

stych w celu wyprodukowania włókien

z węglika krzemu;

3. Urządzenia

do

mokrego

przędzenia

ogniotrwałych materiałów ceramicznych

(takich jak tlenek aluminiowy);

Urządzenia do badań nieniszczących, umoż­

liwiające kontrolę wad w trzech wymiarach

metodą tomografii ultradźwiękowej albo

N.B. sprawdź także pozycję 1B201.

UWAGA: Do wymienionych w 18101 elementów i akcesoriów należą formy,

trzpienie, matryce, uchwyty i oprzyrządowanie do wstępnego prasowania, utrwalania, odlewania, spiekania

lub spajania elementów kompozyto wych, laminatów i wytworzonych

z nich wyrobów.

a. Maszyny nawojowe do włókien, z koordynowanymi i programowanymi w trzech lub

więcej osiach ruchami związanymi z ustawianiem, owijaniem i nawijaniem włókien,

specjalnie skonstruowane z przeznaczeniem

do produkcji wyrobów kompozytowych lub

laminatów z materiałów włóknistych lub

włókienkowych;

b. Maszyny do układania taśm z koordynowanymi i programowanymi w dwóch lub wię­

cej osiach ruchami związanymi z ustawianiem w odpowiednim położeniu i układa­

niem taśm, specjalnie skonstruowane

z przeznaczeniem do "kompozytowych" elementów konstrukcyjnych płatowca samolotu lub pocisku rakietowego;

-

b. Następujące podzespoły urządzeń lub instalacji do obróbki trytu

1. urządzenia do chłodzenia wodoru lub helu zdolne do chłodzenia do temperatury

23 K (-250°C) lub poniżej, o wydajności

odprowadzania ciepła powyżej 150 watów; lub

2. instalacje do magazynowania i oczyszczania izotopów wodoru za pomocą wodorków metali jako środków do magazynowania lub oczyszczania.

d. o średnicach wewnętrznych 1 m lub więk­

szych i długościach efektywnych 5 m lub

większych.

Uwaga techniczna

W pozycji 18228 "drobnoziarniste stale nierdzewne" oznaczają drobnoziarniste nierdzewne stale austenityczne o rozmiarze ziarna 5 lub

większym wedfug norm ASTM lub równoważ­

nych.

18229 Kolumny półkowe do wymiany typu wodasiarkowodór oraz kontaktory wewnętrzne do

nich, wykonane z drobnoziarnistej stali węglo­

wej o średnicy 1,8 m lub większej z przeznaczeniem do pracy przy ciśnieniu nominalnym

2 MPa lub wyższym.

UWAGI: 1. W przypadku kolumn specjalnie skonstruowanych lub spreparowanych do

produkcji ciężkiej wody patrz 08004.

18232

3. W pozycji 18229 "drobnoziarnista

stal węglowa" oznacza stal austenityczną o rozmiarze ziarna 5 lub

większym wg norm ASTM lub równoważnych.

4. W pozycji 18229 "materiafy odporne na korozję w wyniku dziafania

mieszanki siarkowodoru z wodą"

oznaczają stale nierdzewne o zawartości węgla 0,03% lub mniejszej.

18230 Pompy do przetłaczania roztworów katalizatora z amidku potasu rozcieńczonego lub stężo­

nego w ciekłym amoniaku (KNH 2/NH 3 ), posiadające wszystkie wymienione poniżej cechy

a. szczelność dla powietrza (tj. hermetycznie

zamknięte);

b. do stężonych roztworów amidku potasu

(1% lub powyżej) ciśnienie robocze

1,5-60 MPa (15-600 atmosfer); do rozcień­

czonych roztworów amidku potasu (poniżej

1%) ciśnienie robocze 20-60 MPa

(200-600 atmosfer); oraz

c. wydajność powyżej 8,5 m 3/godz.

Następujące urządzenia i instalacje do obróbki

trytu lub ich podzespoły

a. Urządzenia lub instalacje do produkcji, odzyskiwania, ekstrakcji, stężania lub manipulowania trytem;

Turborozprężarki

lub zestawy turborozprężar­

ka-sprężarka przeznaczone do działania poniżej 35 K (-238°C) i posiadające przepustowość

wodoru większą lub równą 1000 kg/godz.

18233

Następujące urządzenia i instalacje do separacji izotopów litu lub ich podzespoły

a. Urządzenia i instalacje do separacji izotopów

litu;

b. Następujące podzespoły do separacji izotopów litu

1. Kolumny z wypełnieniem do wymiany

cieczowo - cieczowej specjalnie przeznaczone do amalgamatów litu;

2. Pompy do pompowania rtęci oraz (lub)

amalgamatu litu;

3. Cele do elektrolizy amalgamatu litu;

4. Aparaty wyparne do zagęszczonych roztworów wodorotlenku litu.

1C

Materiały

2. Kontaktory wewnętrzne w kolumnach są segmentowymi pófkami

o zespofowej średnicy roboczej

1,8 m lub większej, skonstruowanymi w sposób ufatwiający kontakt

czynników w przepfywie przeciwprądowym, wykonanymi z materiafów odpornych na korozję w wyniku dziafania mieszanki siarkowodoru z wodą. Mogą one mieć postać

pófek sitowych, pófek zaworowych,

pófek dzwonowych lub rusztowych.

18231

Poz. 915

5003-

Uwaga techniczna

Metale i stopy

Jeżeli nie stwierdzono inaczej, terminy "metale" i "stopy" używane w pozycjach od 1C001

do 1C012 dotyczą następujących wyrobów surowych i póffabrykatów

Wyroby surowe

Anody, kule, pręty (fącznie z prętami karbowanymi i ciągnionymi), kęsy, bloki, bochny, brykiety, placki, katody, krysztafy, kostki, struktury,

ziarna, sztaby, bryty, pastylki, surówki, proszki,

podkfadki, śruty, pfyty, owale osadnicze, gąbki

i drążki;

PÓ tfa b ryka t y (zarówno powlekane, pokrywane

galwanicznie, wiercone i wykrawane, jak i nie

poddane żadnej z tych obróbek)

a. Przerobione plastycznie lub obrobione materiaty wyprodukowane poprzez walcowanie,

wyciąganie, wyttaczanie, prasowanie, granulowanie, rozpylanie, mielenie, tj.: kątow­

niki, ceowniki, kofa, tarcze, pyty, ptatki, folie,

odkuwki, ptyty, proszki, wytfoczki, wypraski,

wstęgi, pierścienie, pręty (w tym pręty spawalnicze, walcówki i druty walcowane),

ksztaftowniki, arkusze, taśmy, rury, rurki

(w tym rury bezszwowe, rury o przekroju

kwadratowym i tuleje rurowe), druty cią­

gnione i tfoczone.

t

-

5004 -

o częstotliwości centralnej i umieszczone w miejscu oddalonym od elementu wysyłającego fale elektromagnetyczne.

b. Ma teria f y odlewnicze produkowane przez

odlewanie w piasku, kokile, formy metalowe, gipsowe i inne, w tym odlewanie pod ciśnieniem, formy spiekane i formy wykonywane w metalurgii proszkowej.

2. Wytrzymafość na rozciąganie poniżej

7 x 1(J6 N/m 2; oraz

Przedmiot kontroli nie powinien być zwolniony

z kontroli przez eksport nie wymienionych form

uważanych za produkty finalne, ale będące

w rzeczywistości formami surowymi lub póffabrykatami.

1C001

3. Wytrzymafość na

14 x 1(J6 N/m 2;

N.B.: sprawdź także pozycję 1C101.

Materiały

pochłaniające

fale o

ściskanie

poniżej

d. Pochfaniaczy planarnych wykonanych

ze spieku ferrytowego, charakteryzują­

cego się

1. Ciężarem wfaściwym powyżej 4,4;

oraz

2. Maksymalną temperaturą roboczą

548 K (275°C);

Następujące materiały specjalnie opracowane

z przeznaczeniem na pochłaniacze fal elektromagnetycznych albo polimery przewodzące

samoistnie

a.

Poz. 915

2. Żadne sformufowanie w pozycji 1C007.a. nie

zwalnia materiafów magnetycznych używa­

nych jako pochfaniacze fal w farbach.

częstotli ­

wościach powyżej 2 x 108 Hz, ale poniżej

3 x 10 12 Hz.

UWAGI

b. Materiały pochłaniające fale o częstotliwo­

ściach w zakresie od 1,5 x 1014 Hz do

3,7 X 10 14 Hz i nie przezroczyste dla promieniowania widzialnego;

1. Pozycja 1C001.a. nie obejmuje kontrolą

a. Pochfaniaczy typu wfosowego, wykona nych z wfókien naturalnych albo syntetycznych, w których pochfanianie osiąga

się innym sposobem niż magnetyczny;

c. Materi a ły polimerowe przewodzące samoistnie, o objętościowej przewodności elektrycznej powyżej 10000 Sim (simensów na

metr) albo oporności powierzchniowej poniżej 100 omów1m 2 , których podstawowym

składnikiem jest jeden z następujących polimerów

b. Pochfaniaczy nie wykazujących strat magnetycznych oraz takich, których powierzchnia, na którą pada promieniowanie, nie jest planarna, w tym ostrosfupów, stożków, klinów i powierzchni zwichrowanych;

1. Polianilina;

c. Pochfaniaczy planarnych posiadających

wszystkie poniższe cechy

1. Wykonanie z jednego z poniższych

ma te ria fó w

a. ze spienionych tworzyw sztucznych

(elastycznych albo nieelastycznych)

wzmacnianych węglem, albo z materiafów organicznych, wfącznie

z materiafami wiążącymi, dających

więcej niż 5% echa w porównaniu

z metalami, w paśmie o szerokości

wyższej o ±15% od częstotliwości

centralnej padającej fali, i nieodpornych na temperatury przekraczające

450 K (17rC); lub

b. z materiafów ceramicznych dają ­

cych ponad 20% echa więcej w porównaniu z metalami, w paśmie

o szerokości wyższej o ± 15% od czę­

stotliwości centralnej padającej fali,

i nieodpornych na temperatury

przekraczające 800 K (527°C);

Uwaga techniczna

Próbki do badania stopnia pochłania­

nia

materiałów

wymienionych

w Uwadze 1.c.1. do pozycji 1C001.a.

powinny być kwadratami o boku równym co najmniej 5 długościom fali

2. Polipirol;

3. Politiofen;

4. Polifenylenowinylen; lub

5. Politienylenowinylen .

Uwaga techniczna

Objętościową przewodność elektryczną

oporność

powierzchniową

należy

oraz

określać

zgodnie z normą ASTM 0-257 albo jej odpowiednikami.

1C002

Następujące stopy metali, proszki stopów metali albo materiały stopowe

N.B.: sprawdź także pozycję 1C202.

UWAGA: Pozycja 1C002 nie obejmuje kontrolą

stopów metali, proszków stopów metali ani materiafów stopowych do

podfoży powlekanych.

a. Następujące stopy metali

1. Następujące stopy na osnowie niklu albo

tytanu w postaci przedstawionych poniżej glinków, w formie surowej albo pół­

przetworzonej

a. Glinki niklu zawierające od 15 do

38 procent wagowych aluminium

i przynajmniej jeden dodatek stopowy;

-

5005-

b. Glinki tytanu zawierające 10 procent

wagowych lub więcej aluminium

i przynajmniej jeden dodatek stopowy;

2.

2. Trwafość w próbie pefzania do zerwania powinna być określana wedfug normy ASTM

E-139 lub jej krajowych odpowiedników.

3. Trwafość w niskocyklowych badaniach zmę­

czeniowych należ y określać wedfug normy

ASTM E-606 "Zalecana metoda niskocyklowego badania zmęczeniowego przy stafej

amplitudzie " albo jej krajowych odpowiedników. Badania należy prowadzić przy obciążeniu skierowanym osiowo, przy średniej

wartości wspófczynnika asymetrii cyklu 1

oraz wartości wspófczynnika spiętrzenia naprężeń (Kt ) równej 1. Naprężenie średnie definiuje się jako różnicę naprężenia maksymalnego i minimalnego podzieloną przez

naprężenie maksymalne.

Następujące

stopy metali wykonane

z proszków stopów metali albo materiałów jednorodnych wymienionych w pozycji 1C002.b.

a. Stopy niklu o

1. Trwałości w próbie pełzania do zerwania wynoszącej 10000 lub wię­

cej

godzin, w

temperaturze

923 K (650°C) przy naprężeniach

676 MPa; lub

2. Trwałości w niskocyklowych badaniach zmęczeniowych wynoszącej

10000 lub więcej cykli w temperaturze 823 K (550°C) przy maksymalnym naprężeniu 1 095 MPa;

b. Stopy niobu o

1. Trwałości w próbie pełzania do

zerwania wynoszącej 10 000 lub

więcej godzin, w temperaturze

1 073 K (800°C) przy naprężeniach

400 MPa; lub

2. Trwałości w niskocyklowych badaniach zmęczeniowych wynoszącej

10000 lub więcej cykli w temperaturze 973 K (700°C) przy maksymalnym naprężeniu 700 MPa;

c. Stopy tytanu o

1. Trwałości w próbie pełzania do zerwania wynoszącej 10000 lub wię­

cej

godzin,

w

temperaturze

723 K (450°C) przy naprężeniu

200 MPa; lub

b. Następujące proszki stopu metalu albo materiału jednorodnego do wyrobu materiałów ujętych w pozycji 1C002.a.

1. Wykonane z dowolnego z podanych poniżej komponentów

Uwaga techniczna

W podanych niżej związkach X oznacza

jeden lub więcej skfadników stopu.

a. Stopów niklu (N i-Al-X, Ni-X-AI) przeznaczonych do wyrobu części albo

zespołów silników turbinowych, tj .

zawierających mniej niż 3 cząsteczki

niemetalowe (wprowadzone podczas procesu produkcji), o wielkości

przekraczającej 100 mikrometrów, na

109 cząsteczek stopu;

b. Stopów niobu (Nb-AI -X lub Nb-X-AI,

Nb-Si-X lub Nb-X-Si, Nb-li-X lub

Nb-X-li);

c. Stopów tytanu (li-AI -X lub li-X-AI);

d . Stopów aluminium (AI -Mg-X lub AI -X-Mg, AI -Zn-X lub AI-X-Zn, AI-Fe-X

lub AI -X-Fe); lub

2. Trwałości w niskocyklowych badaniach zmęczeniowych wynoszącej

10000 lub więcej cykli w temperaturze 723 K (450°C) przy maksymalnym naprężeniu 400 MPa;

d. Stopy aluminium o wytrzymałości na

e. Stopów magnezu (Mg -AI-X lub Mg-X-Al); ora z

2. Wyprodukowane w atmosferze o regulowanych parametrach jedną z następują­

cych metod

a. "Rozpylania próżniowego";

b. "Rozpylania gazowego" ;

c. "Rozpylania rotacyjnego " ;

d. "Chłodzenia ultraszybkiego";

rozciąganie

1.240 MPa lub większej w temperaturze 473 K (200°C); lub

2.415 MPa lub większej w tempera turze 298 K (25°C) ;

e. Stopy magnezu o wytrzymałości na

rozciąganie 345 MPa lub większej

i szybkości korozji w 3% wodnym

roztworze chlorku sodowego, mierzonej według normy ASTM G-31 albo jej krajowych odpowiedn ików;

wynoszącej poniżej 1 mm/rok;

e. "Przędzenia ze stopu" i "proszkowania";

f. "Ekstrakcji ze stopu" i "proszkowania " ; lub

g. "Stapian ia mechanicznego";

Uwagi techniczne

c. Materiały stopowe, w postaci niesproszkowanych płatków, wstążek lub cienkich pręci­

ków, produkowanych w atmosferze o regulowanych parametrach metodą "uItraszybkiego chłodzenia", " przędzenia ze stopu"

1. Do stopów metalu wedfug pozycji 1C002.a.

zalicza się takie, które zawierają wyższy procent wagowy danego metalu niż dowolnego

innego pierwiastka.

,

J

•

-

5006-

Poz. 915

lub "ekstrakcji ze stopu", używane do produkcji proszku stopu metali lub materiału

jednorodnego, ujęte w pozycji 1C002.b.

1. Osadzonych w "matrycy" różnej od miedzianej lub "matrycy" mieszanej na

osnowie miedzi; lub

1C003 Metale magnetyczne, bez względu na typ i postać, posiadające jedną z następujących cech

charakterystycznych

2. Mające pole przekroju poprzecznego poniżej 0,28 x 10-4 mm 2 (o średnicy 6 mikrometrów w przypadku włókien o przekroju kołowym);

a. Początkową względną przenikalność magnetyczną 120 000 lub wyższą i grubość

0,05 mm albo mniejszą;

b. "Nadprzewodzące" przewodniki "kompozytowe", w których skład wchodzi jedno albo

więcej włókien

Początkową względną przenikalność magnetyczną należy mierzyć na materiafach

całkowicie wyżarzonych.

nasycenia

2. Pole przekroju poprzecznego

0,28 x 10-4 mm 2 ; oraz

powyżej

c. Taśmy ze stopów amorficznych lub nanokrystalicznych mające wszystkie z poniższych

cech

2. Indukcję magnetyczną nasycenia

1,6 T lub wyższą, i

1C006

1. Syntetyczne oleje węglowodorowe lub

krzemowęglowodorowe mające wszystkie z poniższych właściwości

UWAGA: Dla celów pozycji 1C006.a. 1.

zakłada się, że oleje krzemowę­

glowodorowe zawierają wyfącznie krzem, wodór i węgiel.

a. Temperaturę

zapłonu

powyżej

477 K (204°C);

b. Temperaturę krzepnięcia 239 K

(- 34°C) lub niższą;

c. Wskaźnik lepkości 75 lub więcej; oraz

Uwaga techniczna

Przez pojęcie "stopy nanokrystaliczne"

w pozycji 1C003.c. rozumie się materiafy

o rozmiarze ziarna krystalicznego wynoszą­

cym 50 nm lub mniej, zmierzonym metodą

dyfrakcji promieniowania rentgenowskiego.

d. Stabilność termiczną wtemperaturze

616 K (343°C); lub

1C004 Stopy uranowotytanowe lub stopy wolframu

na "matrycy" z żelaza, niklu lub miedzi, posiadające wszystkie wymienione niżej właściwo ­

2. Chlorofluoropochodne węglowodorów

mające wszystkie z poniższych właściwo­

ści

ści

a. Gęstość powyżej 17,5 g/cm 3 ;

UWAGA: Dla celów pozycji 1C006.a.2.

b. Granicę sprężystości powyżej 1 250 MPa;

rozciąganie

zakłada się, że chlorofluoropo-

chodne węglowodorów zawierają wyfącznie węgiel, fluor

i chlor.

a. Brak temperatury zapłonu;

b. Temperaturę samozapłonu powyżej

977 K (704°C);

powyżej

d. Wydłużenie powyżej 8%.

1C005

Następujące ciecze i materiały smarne

a. Ciecze hydrauliczne zawierające jako skład­

niki podstawowe dowolny z następujących

związków chemicznych albo materiałów

(B s )

3. Jeden z poniższych parametrów

a. Grubość taśmy 0,02 mm lub mniejszą;

lub

b. Oporność właściwą 2 x 10-4 omów/cm

lub większą .

c. Wytrzymałość na

1 270 MPa; oraz

poniżej

3. Pozostawanie w stanie "nadprzewodności" w temperaturze 4,2 K (-268,96°C)

pod działaniem pola magnetycznego

równoważnego indukcji magnetycznej

12 T.

2. Współczynnik sprzężenia żyromagne­

tycznego (k) powyżej 0,8; lub

1. Skład minimum 75% wagowych żelaza,

kobaltu lub niklu; i

róż­

1. "Temperaturę krytyczną" przy zerowej indukcji

magnetycznej

powyżej

9,85

K

(-263,31 oC),

ale

poniżej

24 K (-249,16°C);

b. Stopy magnetostrykcyjne mające jedną z poniższych cech

1. Magnetostrykcję

5 x 10-4 ; lub

"nadprzewodzących"

nych od niobowo-tytanowych, mające

wszystkie z poniższych właściwości

Uwaga techniczna

Następujące "nadprzewodzące" przewodniki

"kompozytowe" o długości powyżej 100 m lub

masie powyżej 100 g

c. Temperaturę krzepnięcia 219 K (-54°C)

lub niższą;

d. Wskaźnik lepkości 80 lub więcej; oraz

e. Temperaturę wrzenia 473 K (200°C)

lub wyższą;

a. Wielowłókienkowe "nadprzewodzące" przewodniki "kompozytowe", w których skład

wchodzi jedno albo więcej włókien niobowo-tyta nowych

•

l

,

-

5007-

rdzewnej typu 317 o pojemności 46 mi,

w której znajdują się trzy kulki o średnicy

(nominalnej) 12,5 mm, jedna ze stali narzę­

dziowej M-1O, druga ze stali 52100 i trzecia

z mosiądzu morskiego dwufazowego

(60% Cu, 39% Zn, 0,75% Sn); następnie napefnić komorę azotem, zamknąć pod ciśnie­

niem atmosferycznym, podnieść temperaturę do 644 ± 6 K (371 ± 6°C) i utrzymać ją

na tym poziomie przez sześć godzin.

b. Materiały smarne zawierające jako skład ­

niki podstawowe dowolny z następują­

cych związków chemicznych albo materiałów

1. Etery albo tioetery fenylenowe lub alkilofenylenowe, albo ich mieszaniny, zawierające powyżej dwóch grup funkcyjnych

eteru lub tioeteru, lub ich mieszaninę;

lub

2. Fluorowe oleje silikonowe o lepkości

kinematycznej poniżej 5 000 mm 2/s

(5 000 centystokesów) mierzonej w temperaturze 298 K (25°C);

Próbkę uznaje się za stabilną termicznie, jeżeli po zakończeniu

badania spefnione są

wszystkie następujące warunki

1. Spadek wagi każdej z kulek jest mniejszy

niż 10 mg/mm 2 powierzchni kulki;

c. Ciecze zwilżające lub flotacyjne o czystości

powyżej 99,8%, zawierające mniej niż 25

cząstek o średnicy 200 mikrometrów lub

większej w 100 mi i wykonane co najmniej

w 85% z dowolnego z następujących związ­

ków chemicznych lub materiałów

2. Zmiana lepkości początkowej określonej

w temperaturze 311 K (38°C) jest mniejsza niż 25%; i

3. Cafkowita liczba kwasowa lub zasadowa

jest mniejsza niż 0,40;

1. Dibromotetrafluoroetanu;

2. Polichlorotrifluoroetylenu (tylko modyfikowanego olejem albo woskiem); lub

e. Temperaturę samozapfonu wyznacza się metodą opisaną

w normie ASTM E-659 albo

w jej krajowych odpowiednikach.

3. Polibromotrifluoroetylenu;

d . Fluorowęglowe elektroniczne płyny chłodzą­

ce posiadające wszystkie z poniższych cech

1. Zawartość wagową 85% lub więcej następujących związków lub ich mieszanin

a. Monomeryczne postaci perfluoropolialkiloeterotriazyn lub perfluoropolialkiloeterów;

b. Perfluoroalkiloaminy;

c. Perfluorocykloalkany; lub

d. Perfluoroalkany;

2. Gęstość przy 298 K (25°C)

1,5 g/cm 3 lub więcej;

wynoszącą

3. Stan ciekły w temperaturze 273 K (O°C);

oraz

4. Zawartość fluoru 60% wagowych lub więcej.

Uwaga techniczna

Dla celów pozycji 1C006

a.

Temperaturę zapfonu określa się metodą

Cleveland Open Cup Method (Otwartego

kubka) opisaną w normie ASTM 0-92 lub jej

krajowych odpowiednikach.

b. Temperaturę krzepnięcia określa się metodą

opisaną w normie ASTM 0-97 albo jej krajowych odpowiednikach.

c. Wskaźnik lepkości określa się metodą opisaną w

normie ASTM 0-2270 albo jej krajowych odpowiednikach.

d. Stabilność termiczną określa się wedfug

przedstawionej niżej procedury albo jej kra jowych odpowiedników: umieścić 20 mI

badanej cieczy w komorze ze stali nie-

Poz. 915

1C007

Następujące materiały na osnowie ceramicznej, niekompozytowe materiały ceramiczne,

"materiały kompozytowe" na "matrycy" ceramicznej oraz materiały macierzyste

N.B.: sprawdź także pozycję 1C107.

a. Materiały podłożowe z pojedynczych albo

złożonych borków tytanowych, w których

łączna ilość zanieczyszczeń metalicznych,

z wyłączeniem dodatków zamierzonych, wynosi poniżej 5 000 ppm (części na milion),

przeciętne wymiary cząstek są równe albo

mniejsze niż 5 mikrometrów oraz zawierają

nie więcej niż 10% cząstek o wielkości powyżej 10 mikrometrów;

b. Niekompozytowe

materiały

ceramiczne

w postaci nie przerobionej albo półprzetwo­

rzonej, złożone z borków tytanowych o gę­

stości stanowiącej 98% lub więcej gęstości

teoretycznej;

UWAGA: Pozycja

7C007. b.

nie obejmuje

kontrolą materiafów ściernych.

c. "Materiały kompozytowe" ceramiczno-ceramiczne na "matrycy" szkła albo tlenkowej,

wzmacniane włóknami wykonanymi z jednego z następujących komponentów

1. Si-N;

2. Si-C;

3. Si-AI-Q-N; lub

4. Si-Q-N;

mające" wytrzymałość właściwą na rozcią­

ganie" większą niż 12,7 x 103 m;

d. "Materiały kompozytowe" ceramiczno-ceramiczne, z fazą metaliczną o strukturze ciągłej

-

5008-

albo bez tej fazy, zawierające cząstki, wiskery

lub włókna, w których "matrycę" stanowią

węgliki albo azotki krzemu, cyrkonu lub boru;

2. Dowolny z następujących kwasów

a. Kwas tereftalowy;

b. Kwas 6-hydroksy-2 naftoesowy; lub

e. Następujące materiały macierzyste (tj. specjalne polimery albo materiały metaloorganiczne) do wytwarzania dowolnej fazy albo

faz materiałów ujętych w pozycji 1C007.c.

1. Polidiorganosilany (do produkcji węgliku

krzemu);

2. Polisilazany (do produkcji azotku krzemu);

3. Polikarbosilazany (do produkcji materiałów ceramicznych zawierających składni­

ki krzemowe, węglowe i azotowe);

c. Kwas 4-hydroksybenzoesowy;

c. Następujące poliketony arylenoeterowe

1. Poliketon eterowo-eterowy (PEEK);

2. Poliketon eterowo-ketonowy (PEKK);

3. Poliketon eterowy (PEK);

4. Poliketon

eterowo-ketonowo-eterowo-ketonowy (PEKEKK);

d. Poliketony arylenowe;

e. Polisiarczki arylenowe, w których grupą arylenową jest bifenylen, trifenylen albo ich

kombinacja;

f. "Materiały kompozytowe" ceramiczno-ceramiczne na "matrycy" szkła albo tlenkowej,

wzmacniane ciągłymi włóknami wykonanymi z jednego z następujących materiałów

1. A1 2 0 3 ; lub

2. Si-C-N.

UWAGA: Pozycja

f. Polisulfon bifenylenoeterowy.

1C009

1COO7.f. nie obejmuje

nie przetwarzane związki fluoro-

a. Kopolimery fluorku winylidenu posiadające

w 75%, albo więcej, strukturę beta krystaliczną bez rozciągania;

z wymienionych w niej materia-

b. Poliimidy fluorowane zawierające 10% wagowych albo więcej związanego fluoru;

fów, posiadające wytrzymałość na

rozciąganie mniejszą niż 700 MPa

przy temperaturze 1 273 K

(1000 OC) lub odporność na pefzanie większą niż 1% odksztafcenia

przy obciążeniu 100 MPa i temperaturze 1273 K (1 000 OC) w czasie

100 godzin.

c. Fluorowane elastomery fosfazenowe zawierające 30% wagowych albo więcej związa­

nego fluoru.

1C010

Następujące materiały polimerowe nie zawierające fluoru

a.

Następujące

we

kontrolą " ma te ria fó w kompozytowych" zawierających

wfókna

1C008

Poz. 915

Następujące "materiały włókniste lub włókien­

kowe", które można zastosować w materiałach

"kompozytowych" lub laminatach z "matrycą"

organiczną, metalową lub węglową

N.B.: sprawdź także pozycję 1C210.

1. Bismaleimidy;

2. Poliamidoimidy aromatyczne;

3. Poliimidy aromatyczne;

4. Polieteroimidy aromatyczne o temperaturze

zeszklenia

(Tg )

powyżej

513 K (240°C) mierzonej metodą suchą,

opisaną w ASTM D 3418;

a. Organiczne materiały "włókniste lub włó­

kienkowe", mające wszystkie z wymienionych właściwości

1. "Moduł właściwy" powyżej 12,7 x 106 m; i

2. "Wytrzymałość właściwą na rozciąganie"

powyżej 23,5 x 104 m;

UWAGA: Pozycja 1C010.a. nie obejmuje

kontrolą polietylenu.

UWAGA: Pozycja 1COOB.a. nie obejmuje

kontrolą nietopliwych proszków

do prasowania w formach ani

wytfoczek.

b. "Włókniste i włókienkowe" materiały węglo­

we, mające wszystkie z wymienionych wła­

ściwości

b. Ciekłe kryształy z kopolimerów termoplastycznych o temperaturze ugięcia pod obciążeniem powyżej 523 K (250°C) mierzonej

według normy ASTM D - 648, metodą A, albo jej krajowych odpowiedników, przy obciążeniu 1,82 N/mm 2 , w których skład wcho-

1. "Moduł właściwy" powyżej 12,7 x 106 m; i

2. "Wytrzymałość właściwą" na rozciąganie

powyżej 23,5 x 104 m;

Uwaga techniczna

Wfaściwości materiałów ujętych w pozycji

dzą

1C010.b. należy określać zalecanymi przez

Stowarzyszenie Dostawców Wysokojakościowych

Materiatów Kompozytowych

(SACMA) metodami SRM 12 do 17 albo

równoważnymi metodami badania wfókien, takimi jak Japońska Norma Przemystowa JIS-R-7601, paragraf 6.6.2., i oparty-

1. Jeden z następujących komponentów

a. Fenylen, bifenylen lub naftalen; lub

b. Fenylen, bifenylen lub naftalen

z podstawnikiem metylowym, trzeciorzędowym butylowym albo fenylowym;i

a

-

2. Wykonane z organicznych lub węglo­

wych "materiałów włóknistych lub włó­

kienkowych"

a. o "wytrzymałości właściwej na rozcią­

ganie" powyżej 17,7 x 10 4 m;

mi na badaniu przeciętnej próbki z partii

materiatu.

UWAGA: Pozycja 1C010.b. nie dotyczy kontroli tkanin wykonanych z "materiatów wtóknistych lub wtókienkowych" przeznaczonych do naprawy konstrukcji lotniczych ani laminatów, pod warunkiem że wymiary pojedynczych arkuszy materiatu nie przekraczają

wielkości

50 cm x 90 cm.

b. o "module właściwym" powyżej

10,15 x 106 m;

c. nie objęte kontrolą w pozycji 1C010.a.

lub 1C010.b.; i

d. w przypadku gdy są impregnowane

materiałami określonymi w pozycjach

1C008 lub 1C009.b., mającymi temperaturę

zeszklenia

(Tg)

powyżej

383 K (110°C), albo żyWicami fenolowymi lub epoksydowymi, mającymi

temperaturę zeszklenia (Tg ) powyżej

418 K (145°C) .

"materiały włókniste lub

włókienkowe", mające wszystkie z wymie-

c. Nieorganiczne

nionych właściwości

1. "Moduł właściwy" powyżej 2,54 x 106 m; i

2. Temperaturę topnienia, mięknienia, rozkładu lub sublimacji powyżej 1 922 K

(1 649°C) w środowisku obojętnym;

UWAGA: Pozycja 1C010.e. nie obejmuje

kontrolą

UWAGA: Pozycja 1C010.c. nie obejmuje

. kontrolą

1. impregnowanych żywicą epoksydową "matryc" z "materiatów wtóknistych lub wtókienkowych" (materiatów do prasowania laminatów zbrojonych)

przeznaczonych do naprawy

konstrukcji lotniczych ani laminatów, pod warunkiem że wymiary pojedynczych arkuszy

materiatu nie przekraczają wielkości 50 cm x 90 cm.

2. materiatów do prasowania laminatów zbrojonych, impregnowanych żywicami fenolowymi lub epoksydowymi, mającymi temperaturę zeszklenia

(Tg ) poniżej 4~3 K (1~Oo~.J i te~

peraturę slec/Owama mzszą mz

temperatura zeszklenia.

1. Nieciągtych, wielofazowych,

polikrystalicznych wtókien

aluminiowych w postaci

wtókien ciętych albo mat

o strukturze bezta dn ej, zawierających 3% wagowych

albo więcej krzemu i mają­

cych "modut wtaściwy" poniżej 10 x 1(J6m;

2. Wtókien molibdenowych i ze

stopów molibdenowych;

3. Wtókien borowych;

4. Nieciągfych wtókien ceramicznych o temperaturze

topnienia, mięknienia, rozktadu lub sublimacji poniżej

2043 K (1 770°C) w środowi­

sku obojętnym;

Uwaga techniczna

d. "Materiały włókniste albo włókienkowe"

1. Zawierające dowolny z

Poz. 915

5009-

Temperatura zeszklenia (Tg ) dla materiatów z pozycji 1C01O.e. określana jest przy

użyciu metody suchej, opisanej w normie

ASTM D 3418. Temperatura zeszklenia dla

żywic fenolowych i epoksydowych określana jest przy użyciu metody suchej, opisanej w normie ASTM D 4065, przy często­

tliwości 1 Hz i szybkości nagrzewania wynoszącej 2 K (OC) na minutę.

następujących

związków

a. Polieteroimidy określone w pozycji

1C008.a.; lub

b. Materiały ujęte w pozycjach 1C008.b.

do 1C008.f.; lub

2. Złożone z materiałów ujętych w pozycji

1C010.d.1.a. lub1C010.d.1.b. i "zmieszane" z innymi materiałami włóknistymi

ujętymi w pozycjach 1C010.a., 1C010.b.

lub 1C010.c.;

1C011

Następujące metale i związki

N.B.: sprawdź także Listę Uzbrojenia i pozycję

1C111.

e. Następujące włókna impregnowane żywicą

lub pakiem (materiały do prasowania laminatów zbrojonych), włókna powlekane metalem lub węglem (preformy) lub "preformy

a. Metale o rozmiarach ziarna mniejszych niż

60 mikronów, zarówno w postaci sferycznej,

rozpylanej, sferoidalnej, płatków, jak i zmielonej, wykonane z materiałów zawierają­

cych 99% lub więcej cyrkonu, magnezu lub

ich stopów;

włókien węglowych"

1. Wykonane z "materiałów włóknistych lub

włókienkowych" określonych w pozycji

1C010.a. 1C010.b. lub 1C010.c.;

UWAGA: Metale lub stopy wymienione

w pozycji 1C011.a. są objęte kon-

I

-

5010 -

trolą bez względu na to, czy są, czy

też nie, zamknięte w kapsułkach

a. Drobnoziarniste, rekrystalizowane materiały

grafitowe luzem o gęstości nasypowej co

najmniej 1,72 g/cm 3 lub większej, mierzonej

w temperaturze 288 K (15 OC) i o wymiarach

cząstek 100 mikrometrów lub mniejszych,

materiały grafitowe pirolityczne lub wzmacniane włóknami, używane do produkcji dysz

do rakiet i na przednie krawędzie zespołów

obiektów kosmicznych lądujących na ziemi.

z aluminium, magnezu lub berylu;

b. Bor i wegliki boru o czystości 85% lub więk­

szej oraz rozmiarach ziarna 60 mikronów lub

mniejszych;

UWAGA: Metale lub stopy wymienione

w pozycji 1C011.b. są objęte kontrolą bez względu na to, czy są, czy

też nie, zamknięte w kapsułkach

z aluminium, magnezu lub berylu;

b. Ceramiczne materiały kompozytowe (o stałej dielektrycznej poniżej 6 przy częstotliwo­

ściach od 100 Hz do 10000 MHz), nadające

się również do wyrobu kopułek anten radiolokatorów, oraz skrawalne, niepalne materiały ceramiczne wzmacniane włóknami

krzemo-węglowymi, używane do wyrobu

przednich krawędzi obiektów latających.

c. Azotan guanidyny.

1C012

Następujące

materiały

do jądrowych

źródeł

ciepła

a. Pluton w dowolnej postaci zawierajacy izotop pluton-238 w ilości powyżej 50% wagowych;

UWAGA: Pozycja

1C012.a.

nie obejmuje

kontrolą

1. Dostaw zawierających 1 gram

plutonu lub mniej;

2. Dostaw zawierających 3 "gramy

efektywne" lub mniej, w przypadku gdy znajduje się on

w czujnikach instrumentów pomiarowych;

b. Uprzednio separowany neptun-237 w dowolnej formie .

UWAGA: Pozycja

1C012.b. nie obejmuje

dostaw zawierających

neptun-237 w ilości 1 grama lub

mniejszej.

kontrolą

1C101 Materiały i urządzenia do obiektów o zmniejszonej wykrywalności za pomocą odbitych fal

radarowych, śladów w zakresie promieniowania nadfioletowego i (lub) podczerwonego

i śladów akustycznych, inne niż określone

w pozycji 1C001, w zastosowaniu do "pocisków rakietowych" i ich podsystemów.

UWAGI: 1. Pozycja 1C101 obejmuje

a. Materiały strukturalne i powłoki

specjalnie opracowane pod ką­

tem zmniejszenia ich echa radarowego;

b. Powłoki, w tym farby, specjalnie

opracowane pod kątem zmniejszenia ilości odbijanego lub emitowanego promieniowania z zakresu mikrofalowego, podczerwonego lub nadfioletowego promieniowania elektromagnetycznego;

2. Pozycja 1C101 nie dotyczy powłok,

pod warunkiem że są specjalnie

używane do regulacji temperatur

w satelitach.

1C107 Następujące materiały grafitowe i ceramiczne,

różne od wymienionych w pozycji 1C007

I

Poz. 915

1C111

Następujące substancje napędowe i związki

chemiczne do nich, różne od wymienionych

w pozycji 1C011

a. Substancje napędowe

1. Sferyczny proszek aluminiowy, różny od

wymienionego w Liście uzbrojenia, zło­

żony z cząstek o równomiernej średnicy

i wielkości poniżej 500 mikrometrów i zawartości aluminium rzędu 97% wagowych lub większej;

2. Paliwa metalowe, różne od ' wymienionych w Liście uzbrojenia, w postaci czą­

stek o średnicy poniżej 500 mikrometrów, w postaci sferycznej, zatomizowanej, sferoidalnej, płatków lub silnie rozdrobnionego proszku, zawierające 97%

wagowych lub więcej jednego z następu­

jących składników

a. cyrkonu;

b. berylu;

c. boru;

d. magnezu;

e. stopów metali określonych w pozycjach od a. do d. powyżej; lub

3. Następujące płynne utleniacze

a. tritlenek diazotu;

b. ditlenek azotu, tetratlenek diazotu;

c. pentatlenek diazotu;

b. Substancje polimerowe

1. polibutadien o łańcuchach zakończonych

grupą karboksylową (CTPB);

2. polibutadien o łańcuchach zakończonych

grupą hydroksylową (HTPB), różny od

wymienionego w Liście uzbrojenia;

3. kopolimer butadienu z kwasem akrylowym (PBAA);

4. kopolimer butadienu z kwasem akrylowym i akrylonitrylem (PBAN);

c. Inne dodatki i środki do paliw

-

1. Sprawdź Listę Uzbrojenia dla: butacenu;

2. diazotan

glikolu

trietylenowego

(TEGDN) (diazotan 3,6 dioksaoktano-1,8-diolu);

3. 2-nitrodifenyloamina;

4. triazotan trimetyloetanu (TMETN);

5. diazotan

(DEGDN);

glikolu

dietylenowego

6. pochodne ferrocenu różne od wymienionych w Liście Uzbrojenia.

UWAGA: Dla substancji napędowych i związ­

ków chemicznych do nich nie wymienionych w pozycji 1C111 sprawdź

także Listę Uzbrojenia.

1C116 Stale maraging (stale charakteryzujące się wysoką zawartością niklu, bardzo niską zawartością węgla i pewną zawartością składników zastępczych, umożliwiających utwardzanie wydzielinowe) o wytrzymałości na rozciąganie

1500 MPa lub większej, mierzonej w temperaturze 293 K (20°C), w postaci blach, płyt lub rur

o grubości ścianek rur lub grubości płyt równej

lub mniejszej niż 5 mm.

N.B.: sprawdź także pozycję 1C216.

1C117 Wolfram, molibden oraz stopy tych metali

w postaci regularnych kulek albo rozpylonych

cząstek o średnicy 500 mikrometrów lub mniejszej i czystości 97% lub wyższej, przeznaczone

do produkcji zespołów silników rakietowych, tj.

osłon termicznych, elementów dysz, gardzieli

dysz i powierzchni do sterowania wektorem

ciągu.

1C202

Następujące stopy, różne od określonych w po-

zycji 1C002.a.2.c. lub 1C002.a.2.d.

a. Stopy aluminium, które mogą uzyskać wytrzymałość na rozciąganie 460 MPa lub powyżej w temperaturze 293 K (20°C), w postaci rur lub cylindrycznych elementów litych

(w tym odkuwek) o średnicy zewnętrznej powyżej 75 mm;

b. Stopy tytanu, które mogą uzyskać wytrzymałość na rozciąganie 900 MPa lub powyżej

w temperaturze 293 K (20°C), w postaci rur

lub cylindrycznych elementów litych (w tym

odkuwek) o średnicy zewnętrznej powyżej

75mm.

Uwaga techniczna

Sformufowanie, "które mogą uzyskać", dotyczy stopów przed lub po obróbce cieplnej.

1C210 Następujące "materiały włókniste lub włókien ­

kowe", różne od określonych w pozycji

1C010.a., 1C010.b. lub 1C010.e.

a. Węglowe lub z poliamidu aromatycznego

"materiały włókniste lub włókienkowe"

o "module właściwym" 12,7 x 106 m lub

l

Poz. 915

5011

większym, lub "wytrzymałości właściwej na

rozciąganie" 23,5 x 103 m lub powyżej, z wyjątkiem

"materiałów włóknistych lub włókienko­

wych" z poliamidów aromatycznych, zawierających wagowo 0,25% lub więcej dowolnego modyfikatora powierzchni włókien

opartego na estrach;

b. Szklane "materiały włókniste lub włókienko­

we" o "module właściwym" 3,18 x 106 m

lub większym i "wytrzymałości właściwej

na rozciąganie" 76,2 x 103 m lub większej;

lub

c. Termoutwardzalne, impregnowane żywicą,

ciągłe "przędze", "roving'i", "kable" lub

"taśmy" o szerokości nie przekraczającej

15 mm (materiały do prasowania laminatów

zbrojonych), wykonane z węglowych lub

szklanych "materiałów włóknistych lub włó­

kienkowych" wymienionych w pozycji

1C210.a. lub 1C210.b.

Uwaga techniczna

Żywice tworzą matryce materiafów kompozytowych.

UWAGA: W pozycji 1C210 " ma te ria f y wfókniste lub wfókienkowe" ograniczone są

do ciągfych "wfókien elementarnych ", "przędz", "roving'ów", "kabli" lub "taśm".

1C216 Stal maraging, różna od określonej w pozycji

1C116, która może uzyskać wytrzymałość na

rozciąganie 2050 MPa lub większą, w temperaturze 293 K (20°C);

z wyjątkiem

elementów, w których żaden z wymiarów liniowych nie jest większy niż 75 mm.

Uwaga techniczna

Sformufowanie "stal maraging, która może

uzyskać", obejmuje stal maraging przed lub po

obróbce cieplnej.

1C225 Bor i związki boru, mieszanki i materiały obcią­

żone, w których zawartość izotopu boru-lO wynosi powyżej 20% wagowych całkowitej zawartości boru.

1C226 Wolfram w następujących postaciach: części

wykonanych z wolframu, węgliku wolframu

lub stopów wolframu (powyżej 90% wolframu)

o masie powyżej 20 kg i symetrii cylindrycznej

(w tym segmenty cylindryczne) o średnicy

wewnętrznej powyżej 100 mm, ale poniżej

300 mm;

z wyjątkiem

części skonstruowanych z przeznaczeniem specjalnie na odważniki lub na kolimatory promieniowania gamma.

1C227 Wapń (o wysokiej czystości) zawierający poniżej 1000 części wagowych na milion zanie-

l

-

UWAGA: Pozycja 1C234 dotyczy również odpa-

czyszczeń

metalowych różnych od magnezu

oraz poniżej 10 części na milion boru.

1C228 Magnez (o wysokiej czystości) zawierający poniżej 200 części wagowych na milion zanieczyszczeń metalowych różnych od wapnia oraz

poniżej 10 części na milion boru.

C229

Poz. 915

5012 -

Bizmut o wysokiej czystości (99,99% lub więk­

szej) z bardzo małą zawartością srebra (poniżej

10 części na milion).

1C230 Beryl metaliczny, stopy zawierające beryl w ilości powyżej 50% wagowych, związki berylu lub

wyroby z tych substancji;

z wyjątkiem

a. okienek metalowych do aparatury rentgenowskiej lub do urządzeń do monitorowania

odwiertów w trakcie prac wiertniczych;

b. profili tlenkowych w postaci przetworzonej

lub półprzetworzonej , skonstruowanych

specjalnie do elementów zespołów elektronicznych lub jako podłoża do obwodów

elektronicznych;

c. berylu (krzemianu berylu i aluminium) w postaci szmaragdów lub akwamarynów.

UWAGA: Pozycja 1C230 obejmuje również odpady i ztom zawierające beryl wokreślonych wyżej proporcjach.

dów i ztomu zawierającego cyrkon

w podanych tu proporcjach.

1C235 Tryt, związki trytu i mieszanki zawierające tryt,

w których stosunek atomów trytu do wodoru

wynosi 1 część na 1000, oraz wyroby lub urzą­

dzenia zawierające te materiały;

z wyjątkiem

wyrobu lub urządzenia zawierającego nie wię­

cej niż 1,48 x 103 GBq (40 Ci) trytu w dowolnej

postaci.

1C236 Radionuklidy emitujące cząstki alfa o okresie

połowicznego rozpadu 10 dni lub dłuższym, ale

poniżej 200 lat, związki lub mieszanki zawierające dowolny z radionuklidów tego typu o cał­

kowitej radioaktywności alfa 37 GBq/kg (1 kiur

na kilogram) lub większej oraz wyroby lub

urządzenia zawierające te materiały;

z wyjątkiem

wyrobów lub urządzeń zawierających radionuklidy o radioaktywności alfa poniżej 3,7 GBq

(100 milikiurów).

1C237 Rad-226, związki radu-226, mieszaniny zawierające rad-226 oraz wyroby lub urządzenia zawierające dowolny z tych materiałów;

z wyjątkiem

a. aplikatorów medycznych ;

1C231 Hafn metaliczny, stopy i związki zawierające

hafn w ilości powyżej 60% wagowych oraz wyroby z tych substancji.

1C232 Hel-3lub hel wzbogacony w izotop helu-3, mieszanki zawierające hel-3 lub wyroby i urządze­

nia zawierające dowolny z wyżej wymienionych produktów;

z wyjątkiem

b. wyrobów lub urządzeń zawierających nie

więcej niż 0,37 GBq (10 milikiurów) radu-226

w dowolnej postaci.

1C238 Trifluorek chloru (CIF 3 ).

1C239

Materiały wybuchowe kruszące, różne od wymienionych w Liście uzbrojenia, albo substancje lub mieszanki zawierające materiały tego

typu w ilości powyżej 2%, o gęstości krystalicznej powyżej 1,8 gm na cm 3 i mające prędkość

detonacji powyżej 8000 m/s.

1C240

Nastepujący nikiel w proszku lub porowaty nikiel metaliczny, różny od wymienionego w pozycji OC006

wyrobów lub urządzeń zawierających poniżej

1 g helu-3.

1C233 Ut wzbogacony w izotop (6U) do stężenia powyżej 7,5% udziału atomowego, stopy, związki

lub mieszaniny zawierające lit wzbogacony

w izotop 6, lub produkty albo urządzenia zawierające dowolny z wymienionych wyrobów;

z wyjątkiem

dozymetrów termol u mi nescencyj nych.

Uwaga techniczna

Udziat atomowy izotopu 6 w licie występują­

cym w przyrodzie wynosi 7,5%.

1C234 Cyrkon z zawartością wagową hafnu mniejszą

niż 1 część hafnu na 500 części cyrkonu , w postaci metalu, stopów zawierających wagowo

ponad 50% cyrkonu oraz jego związków lub

wyrobów z tych materiałów;

z wyjątkiem

cyrkonu w postaci folii o grubości nie większej

niż 0,10 mm.

(

l

a. Proszek o procentowym stopniu czystości

w proporcj i wagowej 99,9% lub powyżej

i średniej wielkości cząstek poniżej 10 mikronów, mierzonej według normy Amerykań­

skiego Towarzystwa Materiałoznawczego

(ASTM) B 330;

z wyjątk i em

włókienkowych proszków niklu;

b. Porowaty nikiel metaliczny wytwarzany

z materiałów wymienionych w pozycji

1C240.a.;

z wyjątkiem

pojedynczych porowatych blach o wielkości nie przekraczającej 1 000 cm 2 .

l

-

Dzienn ik Ustaw Nr 142

5013 Dla powyższego

Uzbrojenia.

UWAGA: Pozycja 1C240.b. odnosi się do porowatego metalu wytwarzanego

metodą zagęszczania lub spiekania materiafów wymienionych

w pozycji 1C240.a., tak aby otrzymać materiaf metaliczny o strukturze zawierającej drobne pory.

1C350

Poz. 915

związku sprawdź Listę

30. Fosforyn trietylu (122 -52-1)

31. Trichlorek arsenu (7784-34-1)

32. Kwas benzilowy (76-93-7)

33. Metylofosfinin dietylu (15715-41-0)

34. Etylofosfonian dimetylu (6163-75-3)

Następujące substancje chemiczne, które moż­

na stosować jako prekursory do wyrobu toksycznych zw i ązków chemicznych

35. Etylodifluorofosfina (430-78-4)

N.B.: sprawdź także Listę Uzbrojenia i pozycję

1 C450.

37. 3-chinuklidynon (3731 -38-2)

36. Difluoro(metylo)fosfina (753-59-3)

(Cyfry w nawiasach oznaczają numery CAS)

38. Pentachlorek fosforu (10026-13-8)

1. Tiodiglikol [sulfi d di!2-hydroksyetylowy)]

(111 - 48-8)

39. Pinakolon (75-97-8)

2. Tlenochlorek fosforu (10025-87-3)

41. Wodorodifluorek potasu (7789-29-9)

3. Metylofosfonian dimetylu (756-79-6)

42. Wodorodifluorek amonu (1341 -49-7)

4. Difluorek metylofosfonowy (676-99-3)

43. Fluorek sodu (7681-49-4)

40. Cyjanek potasu (151-50-8)

Dla tego związku sprawdź Listę uzbrojenia.

44. Wodorodifluorek sodu (1333-83-1)

5. Dichlorek metylofosfonowy (676-97-1)

45. Cyjanek sodu (143-33-9)

6. Fosfonian dimetylu (868-85-9)

46. Trietanoloamina (102-71-6)

7. Trichlorek fosforu (7719-12-2)

47. Pentasiarczek difosforu (1314-80-3)

8. Fosforyn trimetylu (121 -45-9)

48. Diizopropyloamina (108-18-9)

9. Chlorek tionylu (7719-09-7)

49. Dietyloaminoetanol (100-37-8)

10. 3-Hydroksy-l-metylopiperydyna (3554-74-3)

50. Siarczek sodu (1313-82-2)

11. N,N-diizopropyI0-2-chloroetyloamina

(96-79-7)

51. Dichlorek disiarki (10025-67 -9)

12.2-(N,N-diizopropyloamino)-etanotiol

(5842-07- 9)

53. Chlorowodorek trietanoloaminy (637-39-8)

13. 3-chinuklidynol (1619-34-7)

54. Chlorowodorek

N,N -diizopropyI0-2-chloroetyloaminy (4261-68-1).

,

52. Dichlorek siarki (10545-99-0)

14. Fluorek potasu (7789-23-3)

1C351 Substancje wywołujące choroby u ludzi, choroby przenoszone przez zwierzęta i "toksyny"

15. 2-Chloroetanol (107-07-3)

16. Dimetyloamina (124-40-3)

a. Następujące naturalne, wzmocnione lub

zmodyfikowane wirusy, w postaci "izolowanych żywych kultur" lub materiału zawierającego substancję żywą, który specjalnie zaszczepiono lub zakażono takimi

kulturami

17. Etylofosfonian dietylu (78-38-6)

18. N,N-dimetylofosforoamidan dietylu

(2404-03-7)

19. Fosfonian dietylu (762-04-9)

20. Chlorowodorek dimetyloam iny (506-59-2)

1. Wirus gorączki Chikungunya (Chikungunya virus)

21. Dichloro(etylo)fosfina (1498-40-4)

22. Dichlore k etyl ofosfonowy (1066-50-8)

2. Wirus gorączki krwotocznej kongijsko-krymskiej (Congo-Crimean haemorrhagic fever virus)

23. Difluorek etylofosfonowy (753-98-0)

24. Fluorowodó r (7664-39-3)

3. Wirus dengi (arbowirus grupy B) (Dengue fever virus)

25. Benzilan metylu (76-89-1)

26. Dichloro(metylo)fosfina (676-83-5)

4. Wirus wschodnioamerykańskiego koń­

skiego zapalenia mózgu (Eastern equine

encephalitis virus)

27. 2-(N,N-diizopropyloamino) etanol (96-80-0)

28. Alkohol pinakol inowy (3,3 -dimetyI0-2-butanol) (464-07 -3)

29 . O-etylometylofosfinin

noetylu (57856-11 -8)

J

J

5. Wirus Ebola

2-diizopropyloami-

6. Wirus Hantaan

ł

I

J

-

7. Wirus Junin (wirus

rączki krwotocznej)

argentyńskiej

5014-

Poz. 915

7. Pałeczka tularemii (Francisella tularen sis)

go-

8. Wirus gorączki Lassa (wirus Lassa)

8. Pałeczka nosacizny (Pseudomonas mallei)

9. Wirus limfocytowego zapalenia opon

mózgowych (Lymphocytic choriomeningitis virus)

9. Pałeczka melioidozy (nosacizny rzekomej) (Pseudomonas pseudomailei)

10. Pałeczka duru (Salmonella typhi)

10. Wirus Machupo (wirus boliwijskiej gorączki krwotocznej)

11. Wirus Marburg

11. Pałeczka czerwonki (Shigel/a dysenteriae)

12. Wirus ospy małp (Monkey pox virus)

12. Przecinkowiec cholery (Vibrio cholerae)

13. Pałeczka dżumy (Yersinia pestis).

13. Wirus gorączki doliny Rift (Rift Valley fever virus)

d. Następujące "toksyny" i ich "podjednostki

toksyn"

14. Wirus zapalenia mózgu przenoszony

przez kleszcze (wirus kleszczowego rosyjskiego zapalenia mózgu) (Tick-borne

encephalitis virus)

1. Toksyny jadu kiełbasianego (Botulinum

toxins)

2. Toksyny laseczki zgorzeli gazowej (Clostridium perfringens toxins)

15. Wirus ospy (Variola vi rus)

16. Wirus wenezuelskiego końskiego zapalenia mózgu i rdzenia (Venezuelan equine encephalitis virus)

3. Conotoksyna (Conotoxin)

4. Rycyna (toksyczne białko pochodzenia

roślinnego) (Ricin)

17. Wirus zachodnioamerykańskiego koń ­

skiego zapalenia mózgu i rdzenia (Western equine encephalitis virus)

5. Saksytoksyna (Saxitoxin)

6. Toksyna shiga (Shiga toxin)

18. Wirus ospówki (White pox)

7. Toksyny gronkowca złocistego (Staphylococcus aureus toxins)

19. Wirus żółtej gorączki (Yel/ow fever virus)

8. Tetrodotoksyna (Tetrodotoxin)

20. Wirus japońskiego zapalenia mózgu (Ja panese encephalitis fever).

9. Verotoksyna (Verotoxin)

b. Następujące naturalne, wzmocnione lub

zmodyfikowane riketsje w postaci "izolowanych żywych kultur" lub materiału zawierającego substancję żywą, który specjalnie zaszczepiono lub zakażono takimi kulturami

10. Torbielka (cyanginosin) (Microcystin)

11. Aflatoksyny,

z wyjątkiem

dowolnych

specyfików wymienionych

w pozycji 1C351, jeśli występują pod posta cią "szczepionek" lub "immunotoksyn".

1. Coxiella burnetii (drobnoustrój wywołu­

jący gorączkę Q)

2. Riketsja gorączki wołyńskiej (Rickettsia

quintana, Rochalimea quintana)

1C352 Następujące mikroorganizmy wywołujące choroby zwierząt

3. Riketsja duru wysypkowego (Rickettsia

a. Następujące naturalne, wzmocnione lub

zmodyfikowane wirusy, w postaci "izolowanych żywych kultur" lub materiału zawierającego substancję żywą, który specjalnie zaszczepiono lub zakażono takimi

kulturami

prowasecki)

4. Riketsja gorączki Gór Skalistych (Rickettsia rickettsii).

c. Następujące naturalne, wzmocnione lub

zmodyfikowane bakterie w postaci "izolowanych żywych kultur" lub materiału zawierającego substancję żywą, który specjalnie

zaszczepiono lub zakażono takimi kulturami

1. Wirus afrykańskiego pomoru świń (African swine fever virus);

2. Wirusy grypy ptaków (Avian influenza virus)

1. Laseczka wąglika (Bacil/us anthracis)

a. nie scharakteryzowane; lub

2. Pałeczka ronienia bydła (Brucella abortus bovis)

b. następujące wirusy określone w Dyrektywie EWG 92/40/EC (OJ No L 16

23.1.1992, s. 19) jako wirusy o silnych

właściwościach chorobotwórczych

3. Pałeczka maltańska (Brucel/a melitensis)

4. Pałeczka ronienia świń (Brucel/a abortus

suis)

1. wirusy typu A

(wskaźnik dożylnej zjadliwości

6. Laseczka jadu kiełbasianego (Clostridium botulinum)

"

posiadające

IVPI

wi rusa) dla kurczaków 6-tygodniowych powyżej 1,2; lub

5. Zarazek papuzicy (Chlamydia psittaci)

.

-

5015-

wanych żywych kultur" lub materiału zawierającego substancję żywą, który specjalnie

zaszczepiono lub zakażono takimi kulturami

2. wirusy typu A podtypu H5 lub H7,

dla których sekwencjonowanie nukleotydów wykazuje istnienie licznych aminokwasów zasadowych

w miejscu hydrolizy (=rozcięcia) hemaglutyniny;

1. Xantomonas albilineans;

2. Xantomonas campestris pv. citri zawierające szczepy określane jako Xantomonas

campestris pv. citri typy A, B, C, D, E lub

inaczej klasyfikowane jako Xantomonas

citri, Xantomonas campestris pv. auran tifolia lub Xantomonas campestris pv. ci trumelo;

3. Wirus choroby niebieskiego języka (Bluetongue virus);

4. Wirus pryszczycy (Foot and mouth disease virus);

5. Wirus ospy kóz (Goat pax virus);

b. Następujące naturalne, wzmocnione lub

zmodyfikowane grzyby w postaci "izolowanych żywych kultur" lub materiału zawierającego substancję żywą , który specjalnie zaszczepiono lub zakażono takimi kulturami

6. Wirus choroby Aujeszky'ego u SWIn

(Herpes virus, Aujeszky's disease);

7. Wirus pomoru świń (Hog cholera virus);

8. Wirus Lyssa;

9. Wirus rzekomego pomoru drobiu (Newcastle disease virus);

1. Colletotrichum coffeanum var. virulans

(Colletotrichum kahawae);

10. Wirus pomoru małych przeżuwaczy (Peste des petits ruminants virus);

2. Cochliobolus miyabeanus (Helminthosporium oryzae);

11. Enterowirus świński , typ 9 (Porcine enterovirus type 9, Swine vesicular disease virus);

3. Microcyclus ulei (synonim

ulei);

5. Puccinia striiformis (synonim Puccinia

glumarum);

13. Wirus ospy owczej (Sheep pax virus);

14. Wirus choroby cieszyńskiej (Teschen disease virus);

15. Wirus pęcherzykowego zapalenia jamy

ustnej (Vesicular stomatitis virus);

b. Naturalne, wzmocnione lub zmodyfikowane

mykoplazmy w postaci "izolowanych ży­

wych kultur" lub materiału zawierającego

substancję żywą, który specjalnie zaszczepiono lub zakażono takimi drobnoustrojami;

z wyjątkiem

dowolnych

specyfików

wymienionych

w pozycji 1C352, jeśli występują w postaci

"szczepionek" .

Następujące "mikroorganizmy" zmodyfikowa-

ne genetycznie

a. "mikroorganizmy" zmodyfikowane genetycznie lub elementy genetyczne zawierają­

ce sekwencje kwasów nukleinowych z wbudowanymi

sekwencjami

patogennymi

(= o charakterze chorobotwórczym) i pochodzące z organizmów ujętych w pozycjach

1C351 .a. do c. lub 1C352, lub 1C354;

b. "mikroorganizmy" zmodyfikowane genetycznie lub elementy genetyczne zawierają­

ce sekwencje kwasów nukleinowych kodujące jedną z "toksyn" ujętych w pozycji

1C351.d. lub odpowiednich do nich "podjednostek toksyn" .

1C354

Następujące szczepy chorobotwórcze

a. Następujące naturalne, wzmocnione lub

zmodyfikowane bakterie w postaci "izolo-

Doth idella

4. Puccinia graminis (synonim Puccinia graminis f. sp. tritici);

12. Wirus pomoru bydła (Rinderpest virus);

1C353

Poz. 915

6. Magnaporthe grisea (Pyricularia

sea/Pyricularia oryzae).

1C450

gri-

Następujące toksyczne

związki

chemiczne

i prekursory toksycznych związków chemicznych

N.B.: sprawdź także pozycje 1C350, 1C351.d.

i Listę Uzbrojenia.

a. Następujące toksyczne związki chemiczne

1. Amiton : fosforotiolan O,O-dietylo-S-[2-(dietyloamino)etylul i odpowiednie alkilowane lub protonowane sole (78-53-5)

2.

PFIB: 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(trifluorometylo)prop-1-en (382-21-8)

3. Sprawdź Listę Uzbrojenia dla BZ: Benzilan chinuklidyn-3-ylu (6581-06-2)

4. Fosgen: dichlorek karbonylu (75-44-5)

5. Chlorocyjan (506-77-4)

6. Cyjanowodór (74-90-8)

7. Chloropikryna

(76-06-2).

trichloronitrometan

b. Następujące prekursory toksycznych związ­

ków chemicznych

1. Związki chemiczne, różne od wymienionych w Liście uzbrojenia lub w pozycji

1C350, posiadające atom fosforu, z którym związana jest jedna grupa metylowa, etylowa, propylowa lub izopropylowa, lecz nie grupa licząca więcej atomów

węgla, z wyjątkiem

-

5016 -

Fonofosu: etylofosfonotionotionianu 0-etylo-S-fenylu (944-22-9),

2. Dihalogenki N,N-dialkilo (metylo, etylo,

propyl o lub izopropylo) fosforoamidowe,

3. N,N-dialkilo (metylo, etylo, propylo lub

izopropylo) fosforoamidany dialkilu (metylu, etylu, propylu lub izopropylu) różne

od N,N-dimetylofosforoamidanu dietylu

wymienionego w pozycji 1C350,

4. Chlorki 2-[N,N-dialkilo (metylo, etylo, propylo lub izopropylo) aminoletylu i odpowiednie protonowane sole, inne niż chlorek N,N-diizopropylo-(~)-aminoetylowy

lub chlorek chlorowodorku N,N-diizopropylo-(~)-aminoetylowego,

5. 2-[N,N-dialkilo (metylo, etylo, propylo lub

izopropylo) aminoletanole i odpowiednie protonowane sole różne od 2-(N,N-diizopropyloamino) etanolu (96-80-0)

i dietyloaminoetanolu (100-37-8), wymienionych w pozycji 1C350, z wyjąt­

kiem

a. N,N-dimetyloaminoetanolu (108-01-0)

i odpowiednich protonowanych soli

b. N,N-dietyloaminoetanolu (100-37-8)

i odpowiednich protonowanych soli,

6. 2-[N,N-dialkilo (metylo, etylo, propylo lub

izopropylo) aminoletanotiole i odpowiednie protonowane sole, inne niż N,N-diizopropylo-(~)-aminoetylotiol,

7. Etylodietanoloamina: bis(2-hydroksyetylo)etyloamina (139-87-7),

8. Metylodietanoloamina: bis(2-hydroksyetylo)metyloamina (105-59-9).

10

Oprogramowanie

10001 "Oprogramowanie" specjalnie opracowane albo zmodyfikowane z przeznaczeniem do "rozwoju", "produkcji" albo "użytkowania" wyrobów ujętych w pozycjach od 18001 do 18003.

10002 "Oprogramowanie" do "rozwoju" "matryc"

organicznych, metalowych lub węglowych do

laminatów lub "kompozytów".

10101 "Oprogramowanie" specjalnie opracowane do

"użytkowania" wyrobów ujętych w pozycji

18101.

10103 "Oprogramowanie" specjalnie opracowane

do analizy obiektów o zmniejszonej wykrywalności za pomocą odbitych fal radarowych, śla­

dów w zakresie promieniowania nadfioletowego i(lub) podczerwonego i śladów akustycznych.

J

I

Poz. 915

10201 "Oprogramowanie" specjalnie opracowane do

"użytkowania" wyrobów ujętych w pozycji

18201.

1 E Technologia

1E001 "Technologia" według Uwagi Ogólnej do Technologii do "rozwoju" lub "produkcji" urządzeń

lub materiałów ujętych w pozycji 1A001.b.,

1A001.c., 1A002. do 1A005., 18 lub 1C.

1E002

Następujące inne "technologie"

a. "Technologia" do "rozwoju" lub "produkcji"

polibenzotiazoli lub polibenzoksazoli;

b. "Technologia" do "rozwoju" lub "produkcji"

elastomerów fluorowych zawierających co

najmniej jeden monomer eteru winylowego;

c. "Technologia" do projektowania albo "produkcji" następujących materiałów podstawowych albo "niekompozytowych" materiałów ceramicznych

1. Materiałów podstawowych mających

wszystkie wymienione niżej cechy charakterystyczne

a. zawierających jeden z następujących

związków

1. pojedyncze albo kompleksowe

tlenki cyrkonu oraz kompleksowe

tlenki krzemu lub glinu;

2. pojedyncze azotki boru (w postaci

regularnych kryształów);

3. pojedyncze albo kompleksowe wę­

gliki krzemu lub boru; albo

4. pojedyncze albo kompleksowe

azotki krzemu;

b. o całkowitej zawartości zanieczyszczeń metalicznych, z wyłączeniem dodatków zamierzonych, mniejszej niż

1. 1 000 ppm (części na milion) w przypadku tlenków lub węglików pojedynczych; lub

2. 5 000 ppm w przypadku pojedynczych azotków lub związków kompleksowych; i

c. mających jedną z następujących cech

1. przeciętne wymiary cząsteczek równe albo mniejsze od 5 mikrometrów

i nie zawierających więcej niż 10%

cząstek

przekraczających

wielkość

10 mikrometrów; albo

UWAGA: D/a tlenku cyrkonowego

wartości te wynoszą odpowiednio 1 mikrometr

oraz 5 mikrometrów.

2. wszystkie z poniższych właściwo­

ści

-

5017 -

a. postać płytek o stosunku dłu ­

gości do grubości większym

niż 5;

b. postać wiskerów o stosunku

długości do średnicy większym

od 10 przy średnicach poniżej

2 mikrometrów; i

c. postać ciągłych albo pociętych

włókien

o średnicy poniżej

10 mikrometrów;

2. Niekompozytowych materiałów ceramicznych składających się z materiałów

wymienionych w pozycji 1E002 .c.l ;

UWAGA: Pozycja 1E002.c.2. nie obejmuje kontrolą technologii do

projektowania lub produkcji

materialów ściernych.

d. "Technologia" " produkcji" włókien z poliamidówaromatycznych;

18116, lC001, lCl0l , lCl07, lCl11 do lCl17,

10101 lub 10103.

1E102 "Technologia" według Uwagi Ogólnej do Tech nologii do "rozwoju" "oprogramowania" uję ­

tego w pozycjach 10001, 10101 lub 10103.

1E103 "Technologia" regulacji temperatur, ciśnień

lub atmosfery w autoklawach lub hydroklawach w przypadku jej stosowania do "produkcji" "kompozytów " lub "kompozytów" czę ­

ściowo przetworzonych.

1E104 "Technologia " dotycząca "produkcji" materiałów pochodzenia pirolitycznego wytwarzanych

w formie, na trzpieniu lub na innym podłożu

z gazów prekursorowych ulegających rozkła­

dowi w zakresie temperatur od 1573 K (1300°C)

do 3173 K (2900°C) przy ciśnieniach od 130 Pa

do 200 kPa.

UWAGA: Pozycja 1E104 obejmuje " technologię" do rozkladania gazów prekurso-

e. "Technologia" instalowania, konserwacji lub

naprawy materiałów ujętych w pozycji

lC001;

f . "Technologia" naprawy elementów "kompozytowych" , laminatów lub materiałów

ujętych w pozycji lA002, lC007.c. lub

lC007.d.

UWAGA: Pozycja 1E002.f. nie obejmuje "tech -

rowych oraz harmonogramów i parametrów natężeń przeplywu i sterowania przebiegiem procesu.

1E201

"Technologia" według Uwagi Ogólnej do

Technologii do "użytkowania" wyrobów uję ­

tych w pozycjach lA002, lA202, lA225 do

1A227,

18201,

18225

do

18233,

lC002 .a.2.c. lub d., lC010.b., lC202, lC210,

lC216, lC225 do lC240 lub 10201 .

nologii" do naprawy elementów "samolotów cywilnych" za pomocą wę ­

glowych "materialów wlóknistych

lub wlókienkowych" i żywic epoksydowych, wymienionych w instrukcjach obslugi wydawanych przez

producentów samolotów.

1E202 "Technologia" według Uwagi Ogólnej do Tech nologii do "rozwoju" lub "produkcji" wyrobów

ujętych w pozycjach lA202 lub lA225 do

lA227.

1E101 "Technologia" według Uwagi Ogólnej do Technologii do "użytkowania" wyrobów ujętych

w pozycjach lAl02, 18001, 18101, 18115,

1E203 "Technologia " według Uwagi Ogólnej do Tech nologii do "rozwoju" " oprogramowania" uję ­

tego w pozycji 10201 .

KATEGORIA 2 - PRZETWÓRSTWO MATERIAŁÓW

2A

Systemy, urządzenia i części.

(Dla lożysk bezglośnych sprawdź także Listę

uzbrojenia.)

powiedników) jako łożyska Klasy 4 lub wyż­

szej, i posiadające bieżn i e , kulki albo wałecz­

ki wykonane ze stopu Monela albo berylu;

UWAGA: Pozycja 2A001.a. nie obejmuje

2A001

Następujące

łożyska

toczne,

zespoły łożysk

i części do nich

UWAGA: Pozycja 2A001 nie obejmuje kontrolą

kulek o tolerancji określanej przez

producenta jako Klasy 5 lub gorszej

wedlug normy ISO 3290.

a. Łożyska kulkowe lub pełne wałeczkowe o tolerancjach określonych przez producenta

według norm A8EC 7, A8EC 7P, A8EC 7T lub

Normy ISO (albo według jej krajowych od-

kontrolą

lożysk

waleczkowych

stożkowych .

b. Inne łożyska kulkowe lub pełne wałeczkowe

o tolerancjach określonych przez producen- .

ta według norm A8EC 9, A8EC 9P lub Normy ISO (albo według jej krajowych odpowiedników) jako łożyska Klasy 2 lub wyższej;

UWAGA: Pozycja 2A001 .b. nie obejmuje

kontrolą

lożysk

waleczkowych

stożkowych.

ł

-

5018-

c. Aktywne zespoły łożysk magnetycznych wykorzystujące jeden z poniższych elementów

UWAGA: Osie obrotu nie muszą obracać

się o 3600. Oś obrotu może być

napędzana za pomocą urządze­

nia liniowego, np. śruby albo

mechanizmu zębatkowego.

2. Nazewnictwo osi powinno być zgodne

z Normą Międzynarodową ISO 841, "Maszyny Sterowane Numerycznie - Nazewnictwo Osi i Ruchów".

3. Dla potrzeb pozycji 28001 do 28009

"wrzeciono wahliwe" jest liczone jako oś

obrotowa.

4. Poziomy gwarantowanej doktadności pozycjonowania, zamiast indywidualnych

protokotów testów, mogą być stosowane

dla każdego modelu obrabiarki, jeśli byty ustalone przy zastosowaniu procedury

testów ISO.

5. Dla potrzeb pozycji od 28001 do 28009

dokfadność ustalania pofożenia obrabiarek "sterowanych numerycznie" powinna być określana i podawana wedfug

normy ISO 230/2.

1. Materiały o gęstości strumienia 2,0 T lub

większej i umownej granicy plastyczności przewyższającej 414 Mpa;

2. Całkowicie elektromagnetyczne jednakobiegunowe trójwymiarowe urządze­

nia odchylające dla siłowników;

3. Wysokotemperaturowe [450 K (17rC)

i powyżej] czujniki pozycji.

2A225

Następujące tygle wykonane z materiałów odpornych na płynne aktynowce

a. Tygle o pojemności od 150 mi do 8 litrów

i wykonane z jednego z następujących materiałów lub powlekane nim, o czystości 98%

lub wyższej

1. Fluorek wapniowy (CaF 2);

2. Cyrkonian

wapnia

(Ca 2Zr0 3);

3. Siarczek ceru (Ce 2S3);

(metacyrkonian)

4. Tlenek erbowy (Er20 3);

5. Tlenek hafnowy (Hf0 2);

6. Tlenek magnezowy (MgO);

7. Azotowany stop niobu z tytanem i wolframem (około 50% Nb, 30% li, 20% W);

8. Tlenek itrowy (Y203); lub

9. Tlenek cyrkonowy (Zr0 2);

b. Tygle o pojemności od 50 mi do 2 litrów wykonane z tantalu lub powlekane nim, mają­

cego czystość 99,9% lub wyższą;

c. Tygle o pojemności od 50 mi do 2 litrów wykonane z tantalu lub powlekane nim (mają­

cego czystość 98% lub wyższą), powlekane

węglikiem, azotkiem lub borkiem tantalu (albo materiałem stanowiącym dowolną ich

kombinację)·

2A226 Zawory o "wymiarze nominalnym" 5 mm lub

większym, z uszczelnieniami mieszkowymi,

wykonane w całości lub powlekane aluminium, stopem aluminium, niklem lub stopem

zawierającym 60% lub więcej niklu, regulowane ręcznie lub automatycznie.

UWAGA: Dla zaworów o różnych średnicach

otworu wlotowego i wylotowego pojęcie "wymiar nominalny" oznacza

mniejszą z tych średnic.

28

Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

Uwagi techniczne

1. Pomocnicze, równolegte osie konturowe,

np. oś "w" w wiertarkach poziomych albo

pomocnicza oś obrotu, której linia centralna

biegnie równolegle do gtównej osi obrotu,

nie są zaliczane do catkowitej liczby osi

ksztattowych.

J

Poz. 915

28001

Następujące obrabiarki i ich zestawy do skrawania (albo cięcia) metali, materiałów ceramicznych albo kompozytów, które według danych technicznych producenta, mogą być wyposażone w urządzenia elektroniczne do "sterowania numerycznego"

N.8.: sprawdź także pozycję 28201.

a. Tokarki mające wszystkie z poniżej wymienionych cech charakterystycznych

1. Dokładność

ustalania

położenia,

z uwzględnieniem wszystkich możliwych

kompensacji,

większą

(lepszą)

niż

6 ~m wzdłuż dowolnej osi liniowej (cał­

kowite ustalenie położenia); i

2. Dwie lub więcej osi, które można jednocześnie koordynować w celu "sterowania kształtowego";

UWAGA: Pozycja 28001.a. nie obejmuje

kontrolą

obrabiarek specjalnie

przeznaczonych do wytwarzania

soczewek kontaktowych.

b. Frezarki mające jedną z poniżej wymienionych cech charakterystycznych

1. Obie z poniższych właściwości

a. Dokładność

ustalania

położenia,

z uwzględnieniem wszystkich możli­

wych kompensacji, większą (lepszą)

niż 6 ~m wzdłuż dowolnej osi liniowej

(całkowite ustalenie położenia); i

b. Trzy osie liniowe plus jedna oś obrotowa, które można jednocześnie koordynować w celu "sterowania kształtowe­

go";

2. Pięć lub więcej osi, które można jednocześnie koordynować w celu "sterowania

kształtowego"; lub

,

-

5019 -

Poz. 915

3. Dokładność ustalania położenia dla wiertarek współrzędnościowych, z uwzględ­

nieniem wszystkich możliwych kompensacji, większą (lepszą) niż 4 !lm wzdłuż

dowolnej osi liniowej (całkowite ustalenie położenia);

d. Obrabiarki elektroerozyjne (EDM), niedrutowe, z dwiema albo więcej osiami obrotowymi równocześnie koordynowanymi w celu

"ste rowa n i a kształtowe g o" ;

e. Obrabiarki do obróbki metali, materiałów ceramicznych lub "kompozytowych";

c. Szlifierki mające jedną z poniżej wymienionych cech charakterystycznych

1. Za pomocą

a. Dysz wodnych lub dysz z innymi cieczami roboczymi, w tym z dyszami

z płynami zawierającymi substancje

1. Obie z poniższych właściwości

a. Dokładność

ustalania

położenia,

z uwzględnieniem wszystkich możliwych

kompensacji,

większą

(lepszą)

niż

4 !lm wzdłuż dowolnej osi liniowej (całko­

wite ustalenie położenia); oraz

ścierne;

b. Wiązki elektronów; lub

c. Wiązki" laserowej"; oraz

2. Z dwiema albo więcej osiami obrotowymi, które

a. Mogą być równocześnie koordynowane w celu "sterowania kształtowego";

i

b. Trzy lub więcej osi, które można jednocześnie koordynować w celu "sterowania kształtowego"; lub

2. Pięć lub więcej osi, które można jednocześnie koordynować w celu "sterowania

kształtowego" ;

b. Mają "dokładność ustalania położe­

nia" większą (lepszą) niż 0,003°;

f. Wiertarki do głębokich otworów i tokarki

zmodyfikowane tak, aby mogły służyć do

wiercenia głębokich otworów, mające maksymalną głębokość wiercenia przekraczają­

cą 5 000 mm oraz specjalnie do nich przeznaczone części.

UWAGA: Pozycja 2B001 .c.

nie obejmuje

kontrolą następujących obrabiarek do szlifowania

1. Szlifierek do zewnętrznego, wewnętrznego i zewnętrzno-we­

wnętrznego szlifowania cylindrów, posiadających wszystkie

wymienione poniżej cechy charakterystyczne

2B003

Następujące obrabiarki "sterowane numerycznie" albo ręcznie oraz specjalnie do nich

przeznaczone części, urządzenia sterujące

i oprzyrządowanie, specjalnie opracowane do

skrawania, obróbki, wykańczania, szlifowania

albo honowania hartowanych (Re = 40 lub

więcej) kół zębatych o zębach prostych, kół zę ­

batych śrubowych i daszkowych o średnicy

podziałowej powyżej 1 250 mm i szerokości

wieńca wynoszącej 15% średnicy podziałowej

albo większej, wykończone do jakości AGMA

14 albo wyższej (równoważna Klasie 3 według

normy ISO 1328).

2B004

Pracujące na gorąco "prasy izostatyczne " , mające wszystkie z poniższych cech charaktery-

a. Ograniczenie do szlifowania

powierzchni cylindrycznych;

b. Maksymalną

zewnętrzną

średnicę albo dtugość roboczą przedmiotu obrabianego

wynoszącą 150 mm.

2. Obrabiarek skonstruowanych

specjalnie jako szlifierki wspótrzędnościowe,

posiadających

jedną z wymienionych poniżej

cech charakterystycznych

a. Oś c jest wykorzystywana do

utrzymywania tarczy szlifierskiej w potożeniu normalnym do obrabianej powierzchni; lub

stycznych, oraz specjalnie opracowane do nich

matryce, formy, zespoły, akcesoria i urządzenia

sterujące

N.B.: sprawdź także pozycje 2B104 i 2B204.

a. Możliwość regulacji warunków termicznych

w zamkniętej formie oraz wyposażenie w komorę

formy o średnicy wewnętrznej

406 mm albo większej; oraz

b. Oś a jest sterowana w celu

szlifowania walcowych krzywek bębnowych.

obrabiających

lub

dostarczanych jako

kompletne systemy z "oprogramowaniem" specjalnie przeznaczonym do produkcji narzę­

dzi lub noży do obróbki.

3. Szlifierek

b. Posiadanie jednej z poniższych właściwości

tnących

1. Maksymalne ciśnienie robocze powyżej

207 MPa;

2. Możliwość regulacji warunków termicznych powyżej 1 773 K (1500°C); lub

4. Szlifierek do watów korbowych

i rozrządczych.

3. Możliwość nasycania węglowodorami

i usuwania powstających gazowych produktów rozkładu;

5. Szlifierek do ptaszczyzn.

i

l

-

mów w strumieniu odparowanego czynnika, umożliwiający sterowanie wydajnością osadzania powłok składających

się z dwóch lub więcej pierwiastków;

Uwaga techniczna

Wewnętrzny wymiar komory jest to wymiar ko-

2B005

mory, w której zostały osiągnięte zarówno temperatura robocza, jak i ciśnienie robocze, i nie

obejmuje osprzętu. Jest to mniejszy z dwóch

wymiarów: wewnętrznej średnicy komory ciśnieniowej lub wewnętrznej średnicy izolowanej komory piecowej, w zależności od tego,

która z komór jest umieszczona wewnątrz drugiej.

d. Urządzenia produkcyjne do napylania plazmowego ze "sterowaniem zaprogramowanym w pamięci" posiadające jedną z nastę­

pujących cech charakterystycznych

Następujące urządzenia specjalnie opracowane do osadzania, przetwarzania i automatycznej kontroli czynnej pokryć i powłok nieorganicznych oraz modyfikacji warstw powierzch niowych, z przeznaczeniem do wytwarzania

podłoży nieelektronicznych, technikami wymienionymi w Tabeli i Uwagach załączonych

po pozycji 2E003.f. i specjalnie do nich opracowane zautomatyzowane zespoły do manipulacji, ustalania położenia, przenoszenia i sterowania

2. Wyposażenie we wbudowane urządzenia

do sterowania grubością powłoki;

1. Możliwość pracy w atmosferze o regulowanym niskim ciśnieniu (równym lub

mniejszym od 10 kPa, mierzonym powyżej i w zakresie 300 mm od wylotu dyszy

natryskowej) w komorze próżniowej,

w której przed rozpoczęciem napylania

można obniżyć ciśnienie do 0,01 Pa; lub

e. Urządzenia produkcyjne do napylania jonowego ze "sterowaniem zaprogramowanym

w pamięci", w których można osiągnąć prąd

o gęstości 0,1 mA/mm 2 lub wyższej przy wydajności napylania 15 mikrometrów na godzinę lub wyższej;

a. Urządzenia produkcyjne do osadzania chemicznego z pary (CVD) ze "sterowaniem zaprogramowanym w pamięci" posiadające

wszystkie następujące cechy charakterystyczne

1. Możliwość następujących

procesu

a. CVD pulsujące;

f. Urządzenia produkcyjne do napylania katodowego ze "sterowaniem zaprogramowanym w pamięci", w których skład wchodzi

zestaw elektromagnesów do sterowania łu­

kiem na katodzie;

modyfikacji

g. Urządzenia produkcyjne do powlekania jonowego ze "sterowaniem zaprogramowanym w pamięci", umożliwiające na miejscu

bieżący pomiar jednego z następujących parametrów

b. Rozkład termiczny z regulowanym zarodkowaniem (CNTD); albo

c. CVD intensyfikowane albo wspomagane plazmowo; i

1. Grubości powłoki na podłożu i regulację

wydajności procesu; lub

2. Posiadające jedną z następujących cech

charakterystycznych

a. Wyposażone w wysokopróżniowe

(równe lub mniejsze od 0,01 Pa)

uszczelnienia wirujące; lub

b. Wyposażone we wbudowane urządze­

nia do bieżącej regulacji grubości po-

2. Właściwości optycznych;

UWAGA: Pozycja 28005 nie obejmuje kontrolą

standardowych urządzeń do CVD, napylania katodowego, napylania jonowego, jonowego powlekania lub implantacji jonów specjalnie przeznaczonych dla narzędzi skrawających.

włoki;

b. Urządzenia produkcyjne do implantacji jonów ze "sterowaniem zaprogramowanym

w pamięci" o natężeniu wiązki 5 mA albo

większym;

c. Urządzenia produkcyjne do elektronowego

naparowywania próżniowego (EB-PVD) ze

"sterowaniem zaprogramowanym w pamięci" zaopatrzone we wszystkie z poniż­

szych podzespołów

1. Układy zasilania o mocy powyżej 80 kW;

2. "Laserowy" system regulacji poziomu

cieczy, umożliwiający precyzyjne sterowanie podawaniem materiału wsadowego; oraz

3. System sterowanej komputerowo kontroli wydajności, działający na zasadzie

fotoluminescencji zjonizowanych ato-

1

Poz. 915

5020-

,

2B006

Następujące systemy i urządzenia do kontroli

wymiarowej lub pomiarów

a. Sterowane komputerowo, "sterowane numerycznie" albo "ze sterowaniem zaprogramowanym w pamięci" urządzenia do

kontroli wymiarowej, mające "niepewność

pomiarową" wzdłuż trzech osi (objęto­

ściową) równą albo mniejszą (lepszą) niż

(1,7 + L/1 000) mikrometra, mierzoną czujnikiem o "dokładności" większej (lepszej) niż

0,2 mikrometra (L jest mierzoną długością

w mm), mierzoną zgodnie z normą

ISO 10360-2;

N.B.: sprawdź także pozycję 2B206.

b. Następujące przyrządy do pomiaru przemieszczenia liniowego i kątowego

-

5021

1. Przyrządy do pomiaru długości posiadające jedną z następujących cech charakterystycznych

wykraczają poza kryteria określone

dla funkcji obrabiarek lub funkcji

maszyny pomiarowej.

2. Obrabiarka opisana w pozycji

2B006 jest objęta kontrolą, jeżeli jej

parametry w jakimkolwiek zakresie

eksploatacji wykraczają poza warto ści graniczne dla maszyn objętych

a. Bezstykowe

układy

pomiarowe

o "rozdzielczości " równej lub mniejszej (lepszej) niż 0,2 mikrometra w zakresie pomiarowym do 0,2 mm;

b. Liniowe systemy przetworników napię­

ciowych posiadające obie wymienione

poniżej cechy charakterystyczne

1. " Liniowość " równą lub mniejszą

(lepszą) niż 0,1% w zakresie pomiarowym do 5 mm; oraz

kontrolą·

2B007

2. Niestabilność zera równą albo mniejszą (lepszą) niż 0,1% na dzień w standardowej temperaturze pomieszczenia pomiarowego ±1 K; lub

N.B.: sprawdź także pozycję 2B207.

a. Mające możliwość pełnego trójwymiarowego przetwarzania obrazów lub pełnej trójwymiarowej analizy obrazów w czasie rzeczywistym w celu utworzenia albo modyfikacji

"programów" albo w celu utworzenia lub

modyfikacji danych numerycznych do programu ;

c. Systemy pomiarowe posiadające

wszystkie następujące cechy charakterystyczne

1. Wyposażone w "laser" ; i

UWAGA: Ograniczenia dotyczące analizy

obrazów nie obejmują aproksymacji trzeciego wymiaru poprzez

rzutowanie pod zadanym kątem,

ani do stosowanego wograniczonym zakresie cieniowania wedfug

skali szarości, sfużącego do percepcji gfębi lub tekstury zaaprobowanych zadań (2 1/2 D).

2. Utrzymujące, co najmniej przez

12 godzin, przy temperaturze wzorcowej z dokładnością ± 1 K i przy ciśnien i u wzorcowym wszystkie z poniższych parametrów

a. "Rozdzielczość" w pełnym zakresie wynoszącą 0,1 mikrometra

lub mniejszą (lepszą) ; oraz

b. "Niepewność pomiarową" równą lub mniejszą (lepszą)

niż

(0,2 + LJ2 000) mikrometra (L jest

mierzoną długością w mm);

UWAGA: Pozycja 2B006.b. 1. nie obejmuje kontrolą interferometrycznych systemów pomiarowych

nie posiadających zamkniętej

lub otwartej pętli sprzężenia

zwrotnego, zawierającej "Iaser" do pomiaru bfędów ruchu

sań obrabiarek, urządzeń kontroli wymiarowej lub podobnego wyposażenia.

2. Przyrządy do pomiaru kąta o "odchyleniu położenia kątowego" równym lub

mniejszym (lepszym) niż 0,00025°;

UWAGA: Pozycja 2B006.b.2. nie obejmuje kontrolą przyrządów

optycznych, takich jak autokolimatory, w których do wykrywania odchylenia kątowego

zwierciadfa wykorzystywana

jest wiązka światfa o równolegfym biegu promieni.

c. Urządzenia do pomiaru nieregularności powierzchni poprzez pomiar rozproszenia

światła w funkcji kąta, posiadające czułość

0,5 nm lub większą (lepszą);

UWAGI: 1. Obrabiarki, które można wykorzystać do celów pomiarowych są objęte kontrolą, jeżeli spefniają albo

Następujące "roboty", mające jedną z poniż­

szych cech charakterystycznych, oraz specjal nie do nich opracowane urządzenia sterujące

i "mechanizmy robocze";

b. Specjalnie opracowane w taki sposób, że

spełniają wymagania krajowych norm bezpieczeństwa, stosowanych w miejscach,

w których znajdują się wybuchowe środki

bojowe; oraz

c. Specjalnie opracowane lub odpowiednio zabezpieczone przed promieniowaniem, aby

wytrzymać 5 x 103 Gy (Si) bez pogorszenia

parametrów działania; lub

d. Specjalnie opracowane do działania na wysokościach przekraczających 30 000 m .

2B008

Następujące zespoły, podzespoły lub wkładki

specjalnie przeznaczone do obrabiarek albo do

urządzeń ujętych w pozycji 2B006 lub 28007

a. Urządzenia ze sprzężeniem zwrotnym poło­

żenia liniowego (np. urządzenia typu indukcyjnego, z podziałką stopniową , urządzenia

na podczerwień lub urządzenia " laserowe")

o całkowitej "dokładności" większej (lepszej) niż [800 +(600 x L x 10-3 )] nm (L równa

się długości efektywnej w mm);

UWAGA: Dla

systemów

"Iaserowych "

do pozycji

sprawdź także uwagę

2B006.b.1.

b. Urządzenia ze sprzężeniem zwrotnym poło­

żenia obrotowego (np. urządzenia typu indukcyjnego, z podziałką stopniową, urzą­

dzenia na podczerwień lub urządzenia " laserowe") o "dokładności" większej (lepszej)

niż 0,00025°;

\

UWAGA: Dla

-

systemów

5022 -

a. według specyfikacji technicznej producenta,

mogą być wyposażone w zespoły do sterowania numerycznego lub komputerowego,

nawet wtedy, gdy nie są wyposażone w takie zespoły przy dostawie; oraz

" Iaserowych "

do pozycji

sp rawdź także uwagę

28006.b.1.

c. " Stoły obrotowo-przechylne", lub "wrzeciona wychylne ", umożliwiające (według danych technicznych producenta) poprawę parametrów obrabiarek do albo ponad poziom

określony w pozycjach 2B.

b. mają więcej niż dwie osie, mogące być równocześnie synchronizowane w celu "sterowania kształtowego".

Uwagi techniczne

2B009 Maszyny do wyoblania i tłoczenia kształtowe ­

go, które według specyfikacji technicznej producenta mogą być wyposażone w zespoły do

"sterowania numerycznego" lub komputerowego, mające wszystkie z poniższych cech charakterystycznych

1. Urządzenia lączące funkcje wyoblania i ttoczenia ksztaltowego są dla potrzeb pozycji

28109 traktowane jako urządzenia do ttoczenia ksztaltowego.

2. Pozycja 28109 nie obejmuje kontrolą maszyn

nie nadających się do produkcji elementów

i urządzeń systemu napędowego (np. oslon

silników)

do systemów wymienionych

w pozycji 9A005, 9A007.a. lub 9A 105.a.

N.B.: sprawdź także pozycje 2B109 i 2B209.

a. Dwie lub więcej sterowanych osi, z których

przynajmniej dwie mogą być równocześnie

koordynowane w celu " sterowania kształto­

wego "; oraz

2B116

Następujące urządzenia do testowania wibra-

b. Nacisk wałka większy niż 60 kN .

cyjnego i ich zespoły

Uwaga techniczna

a. Urządzenia do testowania wibracyjnego,

w których zastosowano techniki sprzężenia

zwrotnego lub techniki sterowania w ukła­

dzie zamkniętej pętli, wyposażone w sterowniki cyfrowe, przystosowane do wymuszania wibracji o średniej wartości kwadratowej 10 g lub większej w całym zakresie od

20Hz do 2000 Hz, i działające z siłami rzędu

50 kN (11,250 funtów), mierzonymi "stół bez

utwierdzenia", lub większymi;

Urządzenia lączące funkcje wyoblania i ttoczenia ksztattowego są dla potrzeb pozycji 28009

traktowane jako urządzenia do ttoczenia ksztattowego.

2B104 Środki do sterowania urządzeniami i przebiegiem procesu skonstruowane lub zmodyfikowane pod kątem zagęszczania i pirolizy dysz rakietowych z kompozytów strukturalnych oraz

końcówek na krawędziach natarcia pojazdów

kosmicznych lądujących na ziemi .

UWAGA: Jedynym i " prasami izostatycznymi"

i piecami ujętymi w pozycji 28104 są

a. " Prasy izostatyczne ", różne od uję­

tych w pozycji 28004, posiadające

wszystkie następujące cechy charakterystyczne

1. Maksymalne ciśnienie robocze

69 MPa lub większe;

2. Skonstruowane w taki sposób,

że są w stanie osiągnąć i utrzymać środowisko o regulowanych parametrach termicznych

rzędu 873 K (600 °C) lub więk­

szych; oraz

3. Posiadają komorę o średnicy

wewnętrznej 254 mm lub więk­

szej;

b. Piece do chemicznego osadzania

par, skonstruowane lub zmodyfikowane pod kątem zagęszczania

kompozytów węgiel- węgiel.

2B109 Maszyny do tłoczenia kształtowego różne od

wymienionych w pozycji 2B009 oraz specjalnie

opracowane do nich elementy, które

N.B.: sprawdź także pozycję 2B209.

l

Poz. 915

b. Sterowniki cyfrowe współpracujące ze specjalnie opracowanym oprogramowaniem

do badań wibracyjnych, cechujące się pasmem przenoszenia informacji w czasie rzeczywistym powyżej 5 kHz, opracowane pod

kątem zastosowania w wymienionych w pozycji 2Bl16.a. urządzeniach do badań wibracyjnych;

c. Mechanizmy

do

wymuszania

wibracji

(wstrząsarki) wyposażone, albo nie, wodpowiednie wzmacniacze, wymuszające siłę

50 kN (11 250 funtów), mierzoną "bez

utwierdzenia", lub większą, i używane w wymienionych w pozycji 2B116.a. urządze­

niach do badań wibracyjnych;

d. Elementy nośne do próbek badawczych

i urządzenia elektroniczne opracowane pod

kątem łączenia wielu wstrząsarek w kompletny system do wstrząsania, umożliwiają­

cy uzyskanie łącznej siły skutecznej 50 kN,

mierzonej " stół bez utwierdzenia", lub więk­

szej, i nadające się do stosowania we wspomnianych w pozycji 2Bl16.a. urządzeniach

do badań wibracyjnych.

UWAGA: W pozycji 28116 przez pojęcie "stóf

bez utwierdzenia" należy rozumieć

plaski stóf albo powierzchnię, bez

uchwytów i elementów mocują­

cych.

28201

-

5023-

Poz. 915

Następujące obrabiarki, rozne od wymienionych w pozycji 28001 , do skrawania lub cięcia

metali, materiatów ceramicznych lub " kompozytowych" , które wedtug specyfikacji techn icznej producenta mogą być wyposażone w urzą­

dzenia elektroniczne do jednoczesnego "sterowan ia ksztattowego " w dwóch lub więcej

osiach

korzystywana do utrzymywania

tarczy szlifierskiej w potożeniu

normalnym do obrabianej powierzchni, a oś a jest sterowana

w celu szlifowania walcowych

krzywek bębnowych.

c. Szlifierek obrabiających lub tną­

cych z " oprogramowaniem"

specjalnie przeznaczonym do

produkcji narzędzi lub noży do

obróbki.

a. Frezarki mające jedną z poniżej wymienionych cech charakterystycznych

1. "Doktadność

ustalania

potożenia",

z uwzględnieniem wszystkich możliwych

kompensacji,

większą

(lepszą)

niż

6 !lm wzdtuż dowolnej osi liniowej (catkowite ustalenie potożenia); lub

2. Dwie lub więcej konturowe osie obrotu;

UWAGA: Pozycja 28201 .a. nie obejmuje

kontrolą frezarek mających następujące cechy charakterystyczne

a. Roboczą dtugość osi x większa

niż 2 m; oraz

d. Szlifierek do watów korbowych

i rozrządczych.

28204 "Prasy izostatyczne", różne od ujętych w pozycjach 28004 lub 28104, zdolne do osiągnięcia

maksymalnego ciśnienia roboczego 69 MPa

lub większego i posiadające komorę o średnicy

wewnętrznej 152 mm oraz specjalnie do nich

skonstruowane matryce, formy i zespoty sterujące.

Uwaga techniczna

Wewnętrzny wymiar komory jest to wymiar komory, w której zostaty osiągnięte zarówno temperatura robocza, jak i ciśnienie robocze, i nie

obejmuje osprzętu. Jest to mniejszy z dwóch

wymiarów: wewnętrznej średnicy komory ciśnieniowej lub wewnętrznej średnicy izolowanej komory piecowej, w zależności od tego,

która z komór jest umieszczona wewnątrz drugiej.

b. Doktadność catkowitego ustalenia potożenia wzdtuż osi

x

większą

(gorszą)

niż

0,030 mm.

b. Szlifierki mające jedną z poniżej wym ienionych cech charakterystycznych

1. "Doktadność

ustalania

potożenia",

z uwzględnieniem wszystkich możliwych

kompensacji , większą

(lepszą)

niż

0,004 mm wzdtuż dowolnej osi liniowej

(catkowite ustalenie potożenia); lub

2. Dwie lub więcej konturowe osie obrotu;

UWAGA: Pozycja 28201.b. nie obejmuje

kontrolą następujących szlifierek

a. Szlifierek do zewnętrznego, wewnętrznego i zewnętrzno - we ­

wnętrznego szlifowania cylindrów, posiadających wszystkie

wymienione poniżej cechy charakterystyczne

1. Ograniczenie do szlifowania

powierzchni cylindrycznych;

2. Maksymalną

zewnętrzną

średnicę albo dtugość roboczą przedmiotu obrabianego

wynoszącą 150 mm;

3. Posiadanie nie więcej niż

dwu osi , które mogą być jedkoordynowane

noczesme

w celu "sterowania ksztaftowego "; oraz

4. 8rak konturowej osi c.

b. Szlifierek

wspótrzędnościowych z osiami ograniczonymi

do x, y, c i a, gdzie oś c jest wy-

28206

Następujące maszyny, urządzenia lub systemy

do kontroli wymiarowej, różne od wymienionych w pozycji 28006

a. Sterowane komputerowo lub "sterowane

numerycznie" maszyny do kontroli wymia rowej posiadające obie z poniższych cech

charakterystycznych

1. Dwie lub więcej osi; oraz

2. "Niepewność pomiarową" wzdtuż jednej

z osi równą lub mniejszą (lepszą) niż

(1,25 + LJ1000) mikrometra, mierzoną

czujnikiem o "doktadności" mniejszej

(lepszej) niż 0,2 mikrometra ( L jest dtugością mierzoną w mm);

b. Systemy do jednoczesnej liniowo - kątowej

kontroli pótpowtok, posiadające obie z poniższych cech charakterystycznych

1. "Niepewność pomiarową" wzdtuż dowolnej osi liniowej mniejszą (lepszą) niż

3,5 mikrometra na 5 mm; oraz

2. "Odchylenie potożenia kątowego" równe

lub mniejsze niż 0,02°.

Uwaga techniczna

1. Obrabiarki, które można wykorzystać do celów pomiarowych, są objęte kontrolą, jeżeli

spetniają albo wykraczają poza kryteria

,

-

5024 -

określone dla funkcji obrabiarek lub funkcji

maszyny pomiarowej.

2. Maszyna opisana w pozycji 28206 jest obję ­

ta kontrolą, jeżeli jej parametry w jakimkolwiek zakresie eksploatacji wykraczają poza

wartości graniczne dla maszyn objętych

kontrolą·

3. Czujniki używane do określania "niepewno ści pomiarowej" systemów do kontroli wymiarowej są opisane w częściach 2, 3 i 4

VOINOE 2617.

28207 "Roboty" i "manipulatory" , różne od ujętych

w pozycji 28007, specjalnie skonstruowane

zgodnie z krajowymi normami bezpieczeństwa

stosowanymi do man ipulowania kruszącymi

materiałami wybuchowymi (na przykład speł­

niające warunki ujęte w przepisach elektrycznych stosowanych w odniesieniu do kruszą ­

cych materiałów wybuchowych) oraz specjal nie do nich skonstruowane sterowniki.

28209

gą one mieć sterowanie

mechaniczne oraz przez joystick lub klawiaturę.

28226 Piece indukcyjne próżniowe lub z regulowaną

atmosferą (gaz obojętny) zdolne do pracy

w temperaturach powyżej 1123 K (850°C) wyposażone w cewki indukcyjne o średnicy

600 mm lub mniejszej, charakteryzujące się poborem mocy 5 kW lub większym , oraz specjalnie skonstruowane instalacje do ich zasilania

o wydajności nominalnej 5 kW lub większej.

N.8.: sprawdź także pozycje 38.

UWAGA: Pozycja 28226 nie obejmuje kontrolą

pieców przeznaczonych do przetwarzania ptytek pófprzewodnikowych.

28227

a. lukowe piece do przetapiania i odlewania,

wyposażone w elektrodę topliwą, o pojemności od 1000 cm 3 do 20 000 cm 3 , zdolne do

pracy w temperaturach topnienia powyżej

1973 K (1700°C);

go lub maszyny do wyoblania kszta łtowego

mające możliwość realizacji funkcji tłoczenia

kształtowego, różne od wymienionych w pozycjach 28009 lub 28109, lub trzpienie

b. Piece do topienia wiązką elektronów oraz

plazmowe piece do atomizacji i topienia,

o mocy 50 kW lub większej, zdolne do pracy

w

temperaturach

topnienia

powyżej

1473 K (1200°C).

a. 1. Mające trzy lub więcej wałki (aktywne lub

prowadzące); oraz

2. Zgodnie ze specyfikacją techniczną produ -

b. Trzpienie do formowania wirników skonstruowane z przeznaczeniem do formowania

wirników o średnicy wewnętrz nej od 75 mm

do 400 mm

Uwaga techniczna

Pozycja 28209 obejmuje maszyny mające tylko

pojedynczy watek do deformowania metalu

oraz dwa pomocnicze watki podtrzymujące

trzpień, ale nie uczestniczące bezpośrednio

w procesie deformacji.

28225

Następujące zdalnie sterowane manipulatory,

które mogą być stosowane do zdalnego wykonywania prac podczas rozdzielania radiochemicznego oraz do wykonywania prac w komorach gorących

a. Posiadające możliwość wykonywania operacji przez śc i anę osłonową komory gorącej

o grubości 0,6 m lub więcej (dla operacji wykonywanych przez ścianę); lub

b. Posiadające możliwość wykonywania operacji ponad górną krawędzią ściany osłonowej

komory gorącej (tzw. mostkowania) o grubości 0,6 m lub większej (dla operacji wykonywanych ponad ścianą).

UWAGA: Zdalnie

sterowane

manipulatory

przeksztatcają dziatanie cztowieka na

ramię robocze i uchwyt końcowy. Mo-

Następujące piece metalurgiczne i odlewnicze,

próżniowe i z regulowaną atmosferą; oraz spe-

cjalnie do nich opracowane komputerowe instalacje do sterowania i śledzenia przebiegu procesów

Następujące maszyny do tłoczenia kształtowe ­

centa mogą być wyposażone w układy

" sterowania numerycznego " lub sterowania komputerowego;

Poz. 915

28228

Następujące urządzenia do wytwarzania i montażu wirników oraz trzpienie do formowania

mieszków i matryc

a. Urządzenia do montażu wirników przeznaczone do montażu elementów wirników gazowych wirówek odśrodkowych, kierownic

i pokryw, włącznie z precyzyjnymi trzpieniami, zaciskami i maszynami do pasowania

skurczowego.

b. Urządzenia do prostowania wirników przeznaczone do osiowania poszczególnych sekcji wirnika odśrodkowego na jednej wspólnej osi.

Uwaga techniczna

Zazwyczaj urządzenie tego typu posiada

bardzo dokfadne czujniki pomiarowe pofą­

czone z komputerem, który następnie steruje pracą, na przykfad, pneumatycznego bijaka stosowanego do pozycyjnego strojenia

poszczególnych sekcji wirnika.

c. Trzpienie i matryce do formowania mieszków oraz do wytwarzania mieszków jednozwojowych (mieszki wykonane z wysoko

wytrzymałych stopów aluminium, stali maraging lub wysoko wytrzymałych materiałów włókienkowych) . Mieszki te mają nastę­

pujące wszystkie wymiary

1. średnicę

400 mm;

,

wewnętrzną

od 75 mm do

-

5025-

2. długość 12,7 mm lub większą;

3. głębokość pojedynczego zwinięcia powyżej 2 mm .

28229

Następujące odśrodkowe maszyny do wielopłaszczyznowego wyważania , stałe lub przenośne, poziome lub pionowe

a. Wyważarki

odśrodkowe

przeznaczone do

wyważani e podatnych wirników o długości

600 mm lub większej i posiadające wszystkie

następujące cechy charakterystyczne

1. wychylenie lub średnicę czopa 75 mm lub

więcej;

2. zdolność do wyważania zespołów o masie od 0,9 do 23 kg; oraz

3. prędkość obrotową podczas wyważania

powyżej 5000 obrotów na minutę;

b. Wyważarki

odśrodkowe

przeznaczone do

wyważania cylindrycznych zespołów wirni ka i posiadające wszystkie następujące cechy charakterystyczne

1. średnicę czopa 75 mm lub więcej;

2. zdolność do wyważania z espołów o masie od 0,9 do 23 kg;

3. możliwość wyważania z niewyważeniem

szczątkowym rzędu 0,01 kg mm/kg w danej płaszczyźnie lub lepszym; oraz

Poz. 915

28232 Wielostopniowe wyrzutnie gazowe lub inne

urządzenia do wyrzucania obiektów z wysoką

prędkością (cewkowe, elektromagnetyczne,

elektrotermiczne lub inne nowoczesne systemy tego typu) zdolne do przyspieszania poci sków do prędkości 2 km/s lub większej.

28350

Następujące instalacje i urządzenia do produkcji substancji chemicznych

a. Zbiorniki reakcyjne lub reaktory, wyposażo­

ne w mieszadła lub bez nich, o całkowitej

pojemności wewnętrznej (geometrycznej)

powyżej 0,1 m 3 (100 litrów) i poniżej 20 m 3

(20 000 litrów), w których wszystkie powierzchnie stykające się bezpośredn i o z wytwarzanym lub znajdującym się w nich środ­

kiem chemicznym (lub środkami chemicznymi) są wykonane z jednego z następujących

materiałów

1. Stopów o zawartości powyżej 25% wagowych niklu i 20% wagowych chromu;

2. Polimerów fluorowych ;

3. Szkła (w tym materiałów powlekanych

substancjami ceramicznymi lub emaliowanych albo wykładanych szkłem);

4. Niklu lub stopów o zawartości niklu powyżej 40% wagowych ;

5. Tantalu lub stopów tantalu;

6. Tytanu lub stopów tytanu; albo

4. napęd pasowy.

28230 "Przetworniki ciśnienia" zdolne do pomiaru ci śnienia bezwzględnego w dowolnym punkcie

przedziału od O do 13 kPa, wyposażone w czuj niki ciśnień wykonane z niklu, stopów niklu

o zawartości wagowej niklu ponad 60%, aluminium lub stopów aluminium albo też zabezpieczone tymi materiałami , posiadające jedną

z poniższych cech charakterystycznych

a. Pełny zakres pomiarowy poniżej 13 kPa

i "dokładność" lepszą niż ±1% (w całym zakresie); lub

b. Pełny zakres pomiarowy od 13 kPa wzwyż

i "dokładność" lepszą niż ±130 kPa.

Uwaga techniczna

Dla potrzeb pozycji 28230 pojęcie " dokfadność" obejmuje nieliniowość, histerezę i powtarzalność w temperaturze otoczenia.

28231 Pompy próżniowe z gardzielą wlotową o śred ­

nicy 380 mm lub większej i wydajności pompowania 15000 litrów/s lub większej i zdolne do

wytwarzania próżni końcowej o ciśnieniu poni żej 13 MPa.

Uwagi techniczne

1. Próżnię końcową określa się na wlocie do

pompy po jego zatkaniu.

2. Wydajność pompowania określa się wykonując pomiar z użyciem azotu lub powietrza.

II

7. Cyrkonu lub st opów cyrkonu;

b. Mieszadła do zbiorników reakcyjnych lub reaktorów, w których wszystkie powierzchnie

stykające się bezpośrednio z wytwarzanym

lub znajdującym się w nich środkiem chemicznym (lub środkami chemicznymi) są

wykonane z jednego z następujących materiałów

1. Stopów o zawartości niklu powyżej 25%

wagowych i 20% wagowych chromu;

2. Polimerów fluorowych;

3. Szkła (w tym materiałów powlekanych

substancjami ceramicznymi lub emaliowanych albo wykładanych szkłem);

4. Niklu lub stopów o zawartości niklu powyżej 40% wagowych;

5. Tantalu lub stopów tantalu;

6. Tytanu lub stopów tytanu; albo

7. Cyrkonu lub stopów cyrkonu ;

c. Zbiorniki magazynowe, zasobniki lub odbiorniki o całkowitej pojemności wewnętrz­

nej (geometrycznej) powyżej 0,1 m 3 (100 litrów), w których wszystkie powierzchnie

stykające się bezpośrednio z wytwarzanym

lub znajdującym się w nich środkiem chemicznym (lub środkami chemicznymi) są

wykonane z jednego z następujących materiałów

-

5027-

mi) są wykonane z jednego z następujących

stwa Biologicznego Laboratoriów (Genewa,

materiałów

1983).

1. Stopów o zawartości niklu powyżej 25%

wagowych i 20% wagowych chromu ;

2. Materiałów ceramicznych;

3. Żelazokrzemu;

Uwaga techniczna

5. Szkła (w tym materiałów powlekanych

substancjami ceramicznymi lub emaliowanych albo wykładanych szkłem);

Do kadzi fermentacyjnych zalicza się bioreaktory, chemostaty oraz instalacje o przeptywie ciągtym.

7. Niklu lub stopów o zawartości niklu powyżej 40% wagowych;

8. Tantalu lub stopów tantalu;

9. Tytanu lub stopów tytanu; albo

10. Cyrkonu lub stopów cyrkonu;

j . Piece do spalania, przeznaczone do niszczenia substancji chemicznych wyspecyfikowanych w pozycji 1C350, wyposażone w specjalnie skonstruowane instalacje do doprowadzania odpadów, specjalne urządzenia

do manipulowania i komorę o przeciętnej

temperaturze spalania powyżej 1273 K

(1000°C), w których wszystkie powierzchnie

w instalacji do doprowadzania odpadów

stykające się bezpośrednio z odpadami są

wykonane z jednego z następujących materiałów lub nim wyłożone

1. Stopów o zawartości niklu powyż ej 25%

wagowych i 20% wagowych chromu;

2. Materiałów ceramicznych; lub

3. Niklu lub stopów o zawartości niklu powyżej 40% wagowych .

Następujące instalacje do monitorowania gazów toksycznych; oraz przeznaczone do nich

czujniki

a. Skonstruowane z przeznaczeniem do pracy

ciągłej i zdolne do wykrywania chemicznych

substancji bojowych, środków chemicznych

wyspecyfikowanych w pozycji 1C350 lub

substancji organicznych zawierających fosfor, siarkę , fluor lub chlor w stężeniach poni żej 0,3 mg/m 3 ; lub

b. Skonstruowane z przeznaczeniem do wykrywania aktywności wstrzymującej cholinoesterazę·

28352

b. Fermentory pozwalające na namnażanie patogennych "mikroorgani zmów" i wirusów

lub umożliwiające produkcję " toksyn ", bez

rozprzestrzeniania aerozoli , posiadające pojemność równą 100 litrów lub w i ęks z ą ;

4. Polimerów fluorowych;

6. Grafitu ;

28351

Poz. 915

Następujące urządzenia przeznaczone do użyt­

kowania przy postępowaniu z materiałami biologicznymi

a. Kompletne biologiczne obudowy zabezpieczające na poziomie P3, P4;

Uwaga techniczna

Poziomy zabezpieczenia P3 lub P4 (BL3,

BL4, L3, L4) wedtug specyfikacji zawartej

w instrukcji WHO w sprawie Bezpieczeń-

c. Separatory odśrodkowe, zdolne do ciągłego

oddzielania bez rozprzestrzeniania aerozoli ,

posiadające wszystkie n a stępujące cechy

charakterystyczne

1. Natężenie przepływu powyżej 100 litrów

na godzinę;

2. Elementy z polerowanej stali nierdzewnej

lub tytanu ;

' 3. Złącza z podwójnym lub w ielokrotnym

uszczelnieniem w obszarze występowa ­

nia pary wodnej; oraz

4. Zdolne do sterylizacji in situ w stanie za mkniętym ;

Uwaga techniczna

Do separatorów odśrodkowych zalicza się

również dekantery.

d. Urządzenia do fi lt rowani a typu cross-flow,

zdolne do ciągłego rozdzielania bez rozprzestrzen iania aerozoli, posiadające obie poniż­

sze cechy charakterystyczne

1. Pole powierzchni 5 m 2 lub w i ększe ; oraz

2. Zdolne do sterylizacji na miejscu;

e. Sterylizowane parą wodn ą urządzenia do liofilizacji o wydajności kondensatora w zakresie od 50 kg lodu w ciągu 24 godzin do

1000 kg lodu w ciągu 24 godzin ;

f. Następujące urządzenia zawierające obudowy ochronne kategori i P3 lub P4 lub w nich

zawarte

1. Pełne lub częściowe obudowy ochronne

z niezależną wentylacją ;

2. Komory bezpieczne pod względem biologicznym lub izolowane pojemniki , w których mo ż na pracować ręczn i e z zachowaniem

warunków

odpowiadających

ochronie biologicznej na poziomie Kla sy III;

UWAGA : W pozycji tej przez pojęcie pojem niki izolowane należy również rozumieć elastyczne pojemniki izolowane, komory suche, komory

anaerobowe oraz komory rękawo­

we.

g. Komory do testowania aerozoli zawierają­

cych " mikroorganizmy" lub "toksyny" i mające pojemność 1 m 3 lub w i ększą.

2C

-

5028-

lub "oprogramowania" ujętych w pozycjach 2A,

28 lub 2D.

Materiały

Żadne.

20

Oprogramowanie

20001 "Oprogramowanie" specjalnie opracowane albo zmodyfikowane z przeznaczeniem do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" urządzeń

ujętych w pozycjach 2AOOl lub 28001 do 28009.

20002

"Oprogramowanie" urządzeń elektronicznych, nawet rezydujące w elementach lub systemach elektronicznych, pozwalające im działać jako jednostki "sterowania numerycznego " , umożliwiające realizację jednej z poniż­

szych funkcji

a. Jednoczesną koordynację więcej niż czterech osi w celu "sterowania kształtowego";

lub

b. "Przetwarzanie w czasie rzeczywistym",

w jeden z poniższych sposobów, danych do

modyfikacji, w trakcie obróbki, ruchów narzędzia, szybkości posuwu i parametrów

pracy wrzeciona

1. Automatyczne obliczanie i modyfikacja

danych programu obróbki części do obróbki w dwóch lub więcej osiach za pomocą cykli pomiarowych i dostępu do

danych źródłowych; lub

2. "Sterowanie adaptacyjne" za pomocą

więcej niż jednej zmiennej fizycznej mierzonej i przetwarzanej za pomocą modelu obliczeniowego (strategia) w celu

zmiany jednej lub więcej instrukcji obróbkowych pod kątem optymalizacji procesu.

UWAGA: Pozycja 20002 nie obejmuje kontrolą

"oprogramowania" specjalnie opracowanego lub modyfikowanego do

obsfugi obrabiarek nie objętych kontrolą w Kategorii 2.

20101 "Oprogramowanie" specjalnie opracowane do

"użytkowania " urządzeń wyspecyfikowanych

w pozycjach 28104, 28109 lub 28116.

N.B.: sprawdź także pozycję 90004.

20201 "Oprogramowanie" specjalnie opracowane do

"użytkowania" urządzeń wyspecyfikowanych

w pozycjach 28204, 28206, 28207,28209,28227

lub 28229.

20202 "Oprogramowanie" specjalnie opracowane lub

zmodyfikowane do "rozwoju", "produkcji" lub

"użytkowania" urządzeń wyspecyfikowanych

w pozycji 28201.

2E

Technologia

2E001 "Technologie" według Uwagi Ogólnej do Technologii przeznaczone do "rozwoju" urządzeń

Poz. 915

2E002 "Technologie" według Uwagi Ogólnej do Technologii przeznaczone do "produkcji" urządzeń

ujętych w pozycjach 2A lub 28.

2E003

Następujące inne "technologie"

a. "Technologie" umożliwiające "rozwój" grafiki interakcyjnej, stanowiącej integralną

część urządzeń "sterowanych numerycznie", przeznaczonej do przygotowania lub

modyfikacji programów obróbki części;

b. Następujące produkcyjne "technologie" obróbki metali

1. Technologie projektowania

narzędzi,

form lub uchwytów specjalnie opracowane do jednego z następujących procesów

a. "Obróbki w stanie nadplastycznym";

b. "Zgrzewania dyfuzyjnego";

c. ,,8ezpośredniego tłoczenia hydraulicznego";

2. Dane techniczne, obejmujące metody lub

parametry procesu, stosowane do sterowania przebiegiem następujących procesów

a. "Obróbka w stanie nadplastycznym"

stopów aluminium, stopów tytanu lub

"nadstopów"

1. Przygotowanie powierzchni;

2. Właściwości plastyczne;

3. Temperatura;

4. Ciśnienie ;

b. "Zgrzewanie dyfuzyjne"

"nadstopów" lub stopów tytanu

1. Przygotowanie powierzchni;

2. Temperatura;

3. Ciśnienie;

,,8ezpośrednie tłoczenie hydrauliczne" stopów aluminium i stopów tytanu

1. Ciśnienie ;

2. Czas cyklu;

d. "Izostatyczne prasowanie na gorąco"

stopów tytanu, stopów aluminium lub

"nadstopów"

1. Temperatura;

2. Ciśnienie;

c.

3. Czas cyklu;

c. "Technologie" do "rozwoju" lub "produkcji"

obciągarek hydraulicznych i form do nich,

do wytwarzania struktur płatowca;

d. "Technologie" umożliwiające "rozwój" generatorów instrukcji dla obrabiarek (np. programów do obróbki części) na podstawie

danych

konstrukcyjnych

rezydujących

-

5029 -

modyfikowanych powierzchniowo (wymienionych w kolumnie 3 poniższej tabeli) na

podłoża

nieelektroniczne

(wymienione

w kolumnie 2 poniższej tabeli) za pomocą

procesów wymienionych w kolumnie 1 poniższej tabeli i zdefiniowanych w uwadze

technicznej;

w urządzeniach "sterowanych numerycznie";

e. "Technologie"

umożliwiające

"rozwój"

"oprogramowania" zintegrowanego do

wprowadzania systemów eksperckich, przeznaczonych do wspomagania procesu decyzyjnego podczas operacji warsztatowych,

do urządzeń "sterowanych numerycznie";

f.

"Technologie" do nakładania powłok nieorganicznych albo powłok nieorganicznych

(* Indeksy w nawiasach odnoszą się do uwag za-

mieszczonych pod tabelą.)

TABELA - TECHNIKI POWLEKANIA

1. Technika powlekania(1l*

2. Podłoże

3. Powłoka wynikowa

1

2

3

A. Osadzanie z pary lotnej (CVD)

"Nadstopy"

Materiały ceramiczne i szkło o małym

B. Termiczne naparowywanie

próżniowe (TE-PVD)

1. Naparowywanie próżniowe

(PVD)

Wiązką elektronów (EB-PVD)

Glinki na kanały wewnętrzne

Krzemki

współczynniku rozszerzalności

Węgliki

cieplnej (14)

Warstwy dielektryczne (15)

"Materiały kompozytowe" na

"matrycy" węgiel-węgiel, ceramicznej i metalowej

Węgliki

Krzemki

Metale ogniotrwałe

Mieszanki powyższych (4)

Warstwy dielektryczne (15)

Glinki

Glinki stopowe (2)

Spiekane węgliki wolframu (16),

Węgliki

węglik krzemu

Wolfram

Mieszanki powyższych (4)

Warstwy dielektryczne (15)

Molibden i stopy molibdenu

Beryl i stopy berylu

Materiały na okienka wziernikowe (9)

Warstwy dielektryczne (15)

Warstwy dielektryczne (15)

Warstwy dielektryczne (15)

"Nadstopy"

Krzemki stopowe

Glinki stopowe (2)

MCrAIX (5)

Zmodyfikowany cyrkon (12)

Krzemki

Glinki

Ich mieszaniny (4)

Warstwy dielektryczne (15)

Materiały ceramiczne i szkło o małym współczynniku rozszerzalności

cieplnej (14)

Stale odporne na korozję (7)

MCrAIX (5)

Zmodyfikowany tlenek cyrkonowy

(12)

"Materiały kompozytowe" na "ma-

trycy" węgiel-węgiel,

ceramicznej i metalowej

Ich mieszanki (4)

Krzemki

Węgliki

Metale ognioodporne

-

---

-------------------------------

Dziennik Ustaw Nr 142

-

Poz. 915

50302

1

3

Ich mieszanki (4)

Warstwy dielektryczne (15)

Spiekane węgliki wolframu (16),

Węgliki

węglik krzemu

Wolfram

Ich mieszanki (4)

Warstwy dielektryczne (15)

Molibden i stopy molibdenu

Beryl i stopy berylu

Warstwy dielektryczne (15)

Warstwy dielektryczne (15)

Borki

Warstwy dielektryczne (15)

Borki

Azotki

Materiały na okienka wziernikowe (9)

Stopy tytanu (13)

B.2. Napylanie techniką ogrzewania

oporowego wspomaganego

jonowo (Napylan ie jonowe)

B.3. Napylanie próżniowe: "odparowywanie laserowe"

Materiały ceramiczne i szkła o ma-

cieplnej (14)

"Materiały kompozytowe " na "matrycy" węgiel -węgiel , ceramicznej

i metalowej

Spiekane węgliki wolframu (16),

węglik krzemu

Molibden i stopy molibdenu

Beryl i stopy berylu

Materiały na okienka wziernikowe (9)

Materiały ceramiczne i szkła o małym współczynniku rozszerzalności

cieplnej (14)

"Materiały kompozytowe" na "matrycy " węgiel -węgiel, ceramicznej

i metalowej

Spiekane węgliki wolframu (16),

węglik krzemu

Molibden i stopy molibdenu

Beryl i stopy berylu

Materiały na okienka wziernikowe (9)

B4. Naparowywanie próżniowe: za

pomocą łuku katodowego

"Nadstopy"

" Materiały kompozytowe " na " matrycy" polimerowej (11)

i organicznej

C. Osadzanie fluidyzacyjne (patrz A

powyżej dla innych technik)(10)

"Materiały kompozytowe" na "matrycy" węgiel -węgiel, ceramicznej

i metalowej

Stopy tytanu (13)

Metale i stopy ognioodporne (8)

D. Napylanie plazmowe

Warstwy dielektryczne (15)

łym współczynniku rozszerzalności

" Nadstopy"

Stopy aluminium (6)

Warstwy dielektryczne (15)

Warstwy dielektryczne (15)

Warstwy dielektryczne (15)

Warstwy dielektryczne (15)

Warstwy dielektryczne (15)

Krzemki

Warstwy dielektryczne (15)

Warstwy dielektryczne (15)

Warstwy dielektryczne (15)

Warstwy dielektryczne (15)

Warstwy dielektryczne (15)

Węg i el o strukturze diamentu

Warstwy dielektryczne (15)

Krzemki stopowe

Glinki stopowe (2)

MCrAIX (5)

Borki

Węgliki

Azotki

Krzemki

Krzemki

Glinki

Glinki stopowe (2)

Krzemki

Tlenki

MCrAIX (5)

Zmodyfikowany tlenek cyrkonowy

(12)

Ich mieszanki (4)

Materiał ścierny nikiel-grafit

Materiał ścierny Ni-Cr-AI-Bentonit

Materiał śc i erny AI -Si-Poliester

Glinki stopowe (2)

MCrAIX (5)

-

5031 3

2

1

Metale i stopy ognioodporne (8)

Zmodyfikowany tlenek cyrkonowy

(12)

Krzemki

Ich mieszanki (4)

Glinki

Krzemki

Węgliki

Stale odporne na korozję (7)

Zmodyfikowany tlenek cyrkonowy

(12)

Ich mieszanki (4)

Stopy tytanu (13)

Węgliki

Glinki

Krzemki

Glinki stopowe (2)

Materiały ścierne nikiel-grafit

Materiały ścierne Ni-Cr-AI

Bentonit

Materiały ścierne AI -Si-Poliester

Poliester

E.Powlekanie zawiesinowe

Metale i stopy ognioodporne (8)

"Materiały kompozytowe" na " matrycy" węgiel -węgiel , ceramicznej

i metalowej

F. Rozpylanie jonowe

" Nadstopy"

Materiały ceramiczne i szkła o małym współczynniku rozszerzalności

cieplnej (14)

Stopy tytanu (13)

Krzemki stopione

Glinki stopione, z wyjątkiem elementów do nagrzewania oporowego

Krzemki

Węgliki

Ich mieszanki (4)

Krzemki stopowe

Glinki stopowe (2)

Glinki zmodyfikowane metalem

szlachetnym (3)

MCrAIX (5)

Zmodyfikowany tlenek cyrkonowy

(12)

Platyna

Ich mieszanki (4)

Krzemki

Platyna

Ich mieszanki (4)

Warstwy dielektryczne (15)

Borki

Azotki

Tlenki

Krzemki

Glinki

Glinki stopowe (2)

Węgliki

"Materiały kompozytowe" na "ma-

Krzemki

trycy" węgiel-węgiel , ceramicznej

i metalowej

Węgliki

Metale ogn ioodporne

Ich mieszanki (4)

Warstwy dielektryczne (15)

Spiekane węgliki wolframu (16),

Węgliki

węglik krzemu

Wolfram

Ich mieszanki (4)

Warstwy dielektryczne (15)

Warstwy dielektryczne (15)

Molibden i stopy molibdenu

-

50323

2

1

Beryl i stopy berylu

Materiały na okienka wziernikowe (9)

Metale i stopy ognioodporne (8)

Borki

Warstwy dielektryczne (15)

Warstwy dielektryczne (15)

Glinki

Krzemki

Tlenki

Węgliki

G. Implantacja jonów

Żarowytrzymałe stale łożyskowe

Stopy tytanu (13)

Beryl i stopy berylu

Spiekany węglik wolframu (16)

Dodatki chromu, tantalu lub niobu

Borki

Azotki

Borki

Węgliki

Azotki

Uwagi do tabeli technik powlekania

(1) Termin " technika powlekania" obejmuje zarówno

naprawę i odnawianie powtok, jak i naktadanie nowych.

(2) Termin " powtoka z glinku stopowego" obejmuje

powtoki uzyskane w procesie jedno- albo wieloetapowym, w którym każdy pierwiastek albo pierwiastki są nakfadane przed albo podczas naktadania powtoki glinkowej, nawet jeżeli pierwiastki te

są nakfadane podczas innego procesu powlekania.

Jednakże nie obejmuje to przypadku wieloetapowego stosowania jednostopniowych procesów

osadzania fluidyzacyjnego, mającego na celu uzyskanie glinków stopowych.

(3) Termin " powtoka z glinku modyfikowanego metalem szlachetnym" obejmuje powtoki wytwarzane

w procesie wieloetapowym, podczas którego

przed potożeniem powtoki z glinku na podtoże naktadany jest, w innym procesie powlekania, jeden

albo kilka metali szlachetnych.

(4) Mieszanki sktadają się z przesyconego materiatem

po wtoki podtoża, sktadników pośrednich, materiatu

wspótosadzonego oraz wielowarstwowego materiatu osadzonego i są wytwarzane jedną albo kilku

technikami powlekania, wymienionymi w tabeli.

(5) Pod terminem MCrAIX należy rozumieć powlokę

stopową, w której M oznacza kobalt, żelazo, nikiel

lub ich kombinację, a X - hafn, itr, krzem, tantal

w dowolnych lub innych zamierzonych ilościach

dodatkowych, wynoszących powyżej 0,01 procenta wagowego w różnych proporcjach i kombinacjach, z wyjątkiem

a. Powtok CoCrAIY, w których znajduje się poniżej

22 procent wagowych chromu, poniżej 7 procent wagowych aluminium i poniżej 2 procent

wagowych itru;

b. Powtok CoCrAIY, w których znajduje się 22 do

24 procent wagowych chromu, 10 do 12 procent

wagowych aluminium i 0,5 do 0,7 procent wagowych itru; lub

c. Powtok NiCrAIY, w których znajduje się 21 do

23 procent wagowych chromu, 10 do 12 procent

wagowych aluminium i 0,9 do 1,1 procent wagowych itru.

(6) Termin "stopy aluminium " dotyczy stopów, których wytrzymatość na rozciąganie, mierzona

w temperaturze 293 K (20 °C), wynosi 190 MPa lub

więcej.

(7) Termin " stale odporne na korozję " odnosi się do

stali serii 300 wedtug AISI (American Iron and Steellnstitute) lub równoważnych norm krajowych.

(8) Do metali żarowytrzymatych zaliczają się następu­

jące metale i ich stopy: niob, molibden, wolfram

i tantal.

(9) Następujące materiafy na okienka wziernikowe

tlenek glinu, krzem, german, siarczek cynku, selenek cynku, arsenek galu i następujące halogenki

metali: jodek potasu, fluorek potasu albo materiaty na okienka wziernikowe o średnicy powyżej

40 mm z bromku talu (III) (bromku talowego)

i chlorobromku talu.

(10) W ramach Kategorii 2 nie objęto kontrolą "technologii" jednoetapowego utwardzania techniką

cieplno-chemiczną litych profili aerodynamicznych.

(11) Następujące polimery: poliimidy, poliestry, polisiarczki, poliwęglany i poliuretany.

(12) Przez termin zmodyfikowany tlenek cyrkonowy

należy rozumieć tlenek cyrkonowy z dodatkami innych tlenków metali, np. tlenku wapnia, tlenku

magnezu, tlenku itru, tlenku hafnu, tlenków lantanowców itp. w celu stabilizacji pewnych faz krystalicznych i sktadników faz. Kontrola nie dotyczy

powtok antytermicznych wykonanych z tlenku

cyrkonowego modyfikowanego poprzez mieszanie albo stapianie z tlenkiem wapnia albo magnezu.

-

5033-

(13) Przez termin "stopy tytanu " należy rozumieć stopy stosowane w technice kosmicznej, których wytrzymafość na rozciąganie, mierzona w temperaturze 293 K (20 °C), wynosi 900 MPa lub więcej.

(14) Przez termin " szkfa o mafym wspófczynniku rozszerzalności cieplnej" należy rozumieć szkfa, dla

których wartość wspófczynnika rozszerzalności

cieplnej, mierzona w temperaturze 293 K (20 °C),

wynosi 1 x 10-7 K-1 lub mniej.

(15) Przez termin " warstwy dielektryczne" należy rozumieć powfoki wielowarstwowe z materiafów izolacyjnych, w których interferencyjne wfaściwości

konstrukcj i zfożonej z materiafów o różnych

wspófczynnikach zafamania są wykorzystywane

do odbijania, przepuszczania lub pochfaniania fal

o różnych dfugościach. Jako warstwy dielektryczne należy rozumieć ma teria f y skfadające się z wię­

cej niż czterech warstw dielektrycznych lub "kompozytów" z materiafów dielektrycznych i metali_

(16) Spiekany węglik wolframu nie obejmuje materiafów na narzędzia skrawające i formujące wykonane z węglika wolframu/ (kobaltu, niklu), węglika t ytanu/ (kobaltu, niklu), węglika ch rom u/ nikiel-chrom i węglika chromu/ nikiel.

TABELA - TECHNIKI POWLEKANIA - UWAGA TECHNICZNA

Definicje procesów wymienionych w kolumnie 1 Tabeli

a. Osadzanie z pary lotnej (CVD) jest procesem nakfadania powfoki albo modyfikacji powierzchni podfoża, polegającym na osadzaniu na rozgrzanym podfożu metalu, stopu, "kompozytu", dielektryka albo

materiafu ceramicznego. W sąsiedztwie podfoża

następuje rozkfad albo fączenie gazowych substratów reakcji, wskutek czego osadza się na nim pożą ­

dany pierwiastek, stop albo związek.

gazów, co umożliwia wytwarzanie powfok o zfożo­

nym skfadzie. Innym, powszechnie stosowanym

sposobem jego modyfikacji jest używanie wiązki jonów albo elektronów lub plazmy do intensyfikacji

albo wspomagania osadzania powfoki. W technice

tej można stosować monitory do bieżącego pomiaru parametrów optycznych i grubości powfoki. Wyróżnia się następujące odmiany tej techniki

Potrzebna do rozkfadu związków albo do reakcji

chemicznych energia może być dostarczana przez

rozgrzane podfoże, plazmę z wyfadowań jarzeniowych, lub za pomocą " Iasera";

1. PVD z zastosowaniem wiązki elektronów - do

rozgrzania i odparowania ma teria fu, który ma

stanowić powfokę, używa się wiązki elektronów;

UWAGA: 1. CVD obejmuje następujące techniki

Osadzanie w ukierunkowanym przepfywie gazów bez zanurzania w proszku, CVD pulsujące, rozkfad termiczny

z

regulowanym

zarodkowaniem

(CNTD), CVD intensyfikowane albo

wspomagane za pomocą plazmy.

2. Zanurzanie w proszku polega na zanurzaniu podfoża w mieszaninie sproszkowanych substancji.

3. Gazowe substraty reakcji, wykorzystywane w technice, w której nie stosuje

się zanurzania w proszku, są wytwarza ne podczas takich samych reakcji podstawowych i przy takich samych parametrach jak w przypadku osadzania

f/uidyzacyjnego: z tym wyjątkiem, że

powlekane podfoże nie styka się z mieszaniną proszku.

b. Naparowywanie termiczne - fizyczne osadzanie par

(TE-PVD) jest techniką powlekania w próżni przy ciśnieniach poniżej 0,1 Pa, w której do odparowania

materiatu powlekającego używa się energii termicznej. Rezultatem tego procesu jest kondensacja albo

osadzenie odparowanych sktadników na odpowiednio usytuowanych powierzchniach. Zwykle proces

ten jest modyfikowany poprzez wpuszczanie do komory próżniowej podczas powlekania dodatkowych

2. PVD z ogrzewaniem oporowym - do wytwarza nia odpowiedniego i równomiernego strumienia odparowanych skfadników powfokowych

wykorzystywane są źródfa elektrycznego ogrzewania oporowego;

3. Odparowanie "Iaserowe" - do ogrzania materiafu przeznaczonego na powfokę używana jest

ciągfa albo impulsowa wiązka "Iaserowa ";

4. Osadzanie wspomagane fukiem katodowym katoda jest wykonana z materiafu mającego stanowić powfokę; fuk powstaje na powierzchni tego materiafu po wfączeniu zasilania. Dzięki moż­

liwości sterowania procesem rozkfadu powierzchni katody powstaje plazma o wysokim

stopniu jonizacji. Anodę może stanowić stożek

osadzony w izolatorze na obwodzie katody albo

komora. Osadzanie w miejscach nie leżących na

linii biegu wiązki uzyskuje się dzięki odpowiedniej polaryzacji podfoża.

UWAGA: Definicja ta nie obejmuje bezfadnego

osadzania wspomaganego fukiem katodowym w przypadku powierzchni

niepolaryzowanych.

c. Powlekanie jonowe stanowi specjalną modyfikację

procesu TE-PVD, w której do jonizacji osadzanych

sktadników jest wykorzystywane źródto plazmy albo jonów, natomiast podtoże jest polaryzowane

ujemnie, co ufatwia wychwyt z plazmy tych skfadników, które mają być osadzone. Do często spoty-

-

5034-

kanych odmian tej techniki należą: wprowadzanie

sktadnikówaktywnych, odparowywanie substancji

statych wewnątrz komory roboczej oraz bieżący

pomiar parametrów optycznych i grubości powtok

za pomocą monitorów.

d. Osadzanie f/uidyzacyjne jest techniką powlekania

albo modyfikacji powierzchni podtoża, w której

podtoże jest zanurzane w mieszaninie proszków,

sktadającej się z

1. Proszków metalicznych, które mają być osadzone (zazwyczaj aluminium, chrom, krzem lub ich

kombinacje);

2. Aktywatora (zazwyczaj sól halogenkowa); oraz

3. Proszku obojętnego, najczęściej tlenku glinu.

Podtoże wraz z mieszaniną proszków znajduje się

w retorcie, która jest podgrzewana do temperatury

od 1030 K (757°C) do 1375 K (1 102°C) przez okres

wystarczający do osadzenia powtoki.

e. Napylanie plazmowe jest techniką powlekania,

w której do pistoletu stużącego do wytwarzania

i sterowania strumieniem plazmy jest doprowadzany materiat do powlekania w postaci proszku albo

pręta. Pistolet topi materiat i wyrzuca go na podtoże, na którym powstaje silnie z nim związana powtoka. Odmianami tej techniki są napylanie plazmowe niskociśnieniowe oraz napylanie plazmowe

z wysoką prędkością, przeprowadzane pod wodą.

UWAGA: 1. Niskociśnieniowe oznacza pod ciśnieniem niższym od ciśnienia atmosferycznego otoczenia.

2. Wysoka prędkość odnosi się do pręd­

kości gazów na wylocie z dyszy przekraczającej wartość 750 m/s sprowadzoną do temperatury 293 K (20 °C) i ciśnienia 0,1 MPa.

f Osadzanie zawiesinowe jest techniką powlekania

albo modyfikacji powierzchni, w której stosowana

jest zawiesina proszku metalicznego lub ceramicznego ze spoiwem organicznym w cieczy, naktadana na podtoże techniką natryskiwania, zanurzania

lub malowania. Następnym etapem jest suszenie

w powietrzu albo w piecu i obróbka cieplna, w wyniku czego powstaje powtoka o odpowiedniej charakterystyce.

KATEGORIA 3 3A

Systemy, urządzenia i części

UWAGI

1. Status kontroli wyposażenia, urzą­

dzeń i części opisanych w pozycjach 3A001 lub 3A002, innych niż

wymienione w pozycji 3A001 .a.3.

do 3A001.a.10. lub 3A001 .a.12.,

specjalnie przeznaczonych do innych urządzeń albo posiadających

Poz. 915

g. Rozpylanie jonowe jest techniką powlekania, opartą na zjawisku przenoszenia pędu, w której natadowane dodatnio jony są przyspieszane przez pole

elektryczne w kierunku powierzchni docelowej

(materiat powtokowy). Energia kinetyczna padają­

cych jonów jest wystarczająca do wyrwania atomów z powierzchni materiatu powfokowego i osadzenia ich na odpowiednio usytuowanej powierzchni podfoża .

UWAGA: 1. Tabela dotyczy tylko rozpylania jonowego za pomocą triody, magnetronowego i reakcyjnego, które jest wykorzystywane do zwiększania przyczepności powfoki i wydajności osadzania

oraz do rozpylania jonowego wspomaganego prądami wysokiej częstotliwo­

ści, wykorzystywanego do intensyfikacji odparowania niemetalicznych materiatów powtokowych.

2. Do aktywacji osadzania można zastosować wiązki jonów o niskiej energii

(poniżej 5 keV).

h. Implantacja jonowa jest techniką modyfikacji powierzchni polegającą na jonizacji pierwiastka, który ma być stopiony, przyspieszaniu go za pomocą

różnicy potencjafów i wstrzeliwaniu w odpowiedni

obszar powierzchni podfoża. Technika ta może być

stosowana równocześnie z napylaniem jonowym

wspomaganym za pomocą wiązki elektronów albo

rozpylaniem jonowym.

2E101 "Technologie" według Uwagi Ogólnej do Technologii przeznaczone do "użytkowania" urzą­

dzeń lub "oprogramowania" ujętych w pozycjach 28004, 28104, 28109, 281161ub 2D101.

2E201 "Technologie" według Uwagi Ogólnej do Tech nologii przeznaczone do "użytkowania" urzą­

dzeń lub "oprogramowania" ujętych w pozycjach 2A225, 2A226, 28001, 28006, 28007.b.,

28007.c, 28008, 28009, 28201, 28204, 28206,

28207, 28209, 28225 do 28232, 2D201 lub

2D202.

2E301 "Technologie" niezbędne do "użytkowania"

wyrobów wyspecyfikowanych w pozycjach

28350 do 28352 .

ELEKTRONIKA

te same cechy funkcjonalne co inne urządzenia, jest taki sam jak status kontroli tych innych urządzeń.

2. Status kontroli ukfadów scalonych

ujętych w pozycjach 3A001.a.3. do

3A001.a.9. lub 3A001.a.12., zaprogramowanych na stafe bez możli­

wości wprowadzenia zmian albo

przeznaczonych do specjalnych

funkcji dla innych urządzeń, jest ta-

-

5035-

lub statusie kontroli urządzenia, w którym miałyby być zainstalowane, procesory do Szybkiej Transformacji Fouriera

(FFT), wymazywalne elektrycznie programowalne

pamięci

stałe

(EEPROM), pamięci błyskowe lub statyczne pamięci o dostępie swobodnym

(SRAM), o jednej z poniższych właści ­

ki sam jak status kontroli tych innych urządzeń .

UWAGA: W razie gdy producent lub wnioskodawca nie jest w stanie określić

statusu kontroli tych innych urzą­

dzeń, status kontroli danych uktadów scalonych jest określony

w

pozycjach

3AOO 1.a.3

do

3A001.a.9. i 3A001.a. 12.

wości

a. przystosowane do pracy w temperaturze otoczenia powyżej 398 K

(125°C) ,

b. przystosowane do pracy w temperaturze otoczenia poniżej 218 K (- 55°C);

lub

c. przystosowane do pracy w całym

przedziale wartości temperatur od

218 K (-55°C) do 398 K (125°C);

UWAGA: Pozycja 3A001.a.2. nie

obejmuje uktadów scalonych do silników do pojazdów cywilnych ani kolejowych.

Jeżeli uktad scalony jest krzemo-

wym "mikroobwodowym mikrokomputerem" lub mikrosterowanym mikroobwodem ujętym w pozycji 3A001 .a.3. o dtugości stowa

operanda (danych) 8 bitów lub

mniej, status kontroli uktadu scalonego

określono

w

pozycji

3A001.a.3.

3A001

Urządzenia i części elektroniczne

a. Następujące układy scalone ogólnego przeznaczenia

UWAGI: 1. Status Kontroli pfytek (gotowych

albo niegotowych) posiadają­

cych wyznaczoną funkcję należy

określać na podstawie parametrów podanych

w pozycji

3A001.a.

2. Do uktadów scalonych zaliczane

są następujące typy

"Uktady scalone monolityczne";

"Uktady scalone hybrydowe";

"Uktady scalone wielopfytkowe ";

"Uktady scalone warstwowe "

wtącznie z uktadami scalonymi

typu krzem na szafirze;

"Uktady scalone optyczne".

1. Układy scalone skonstruowane albo

przystosowane w taki sposób, że są odporne na promieniowanie jonizujące

i wytrzymują

a. dawkę całkowitą 5 x 103 Gy (Si) lub

wyższą; lub

b. wzrost dawki o 5 x 106 Gy (Si)/s lub

większy;

2. "Układy mikroprocesorowe" , "układy

mikrokomputerowe" i mikroukłady do

mikrosterowników, układy scalone pamięci wykonane z półprzewodników

złożonych , przetworniki analogowo-cyfrowe i cyfrowo-analogowe, układy

elektrooptyczne lub "optyczne układy

scalone" do "przetwarzania sygnałów",

sieci bramek programowalne przez

użytkownika , tablice logiczne programowalne przez użytkownika, układy

scalone na sieciach neuronowych, robione na zamówienie układy scalone

o nie znanej ich producentowi funkcji

3. "U kłady m ikroprocesorowe " , "u kłady

mikrokomputerowe " i mikroukłady do

mikrosterowników posiadające jedną

z następujących cech

UWAGA: Pozycja 3A001.a.3. obejmuje

cyfrowe procesory sygnatowe, cyfrowe procesory tablicowe i koprocesory cyfrowe.

a. Posiadają "całkowitą teoretyczną

moc obliczeniową " (CTP) 260 milionów operacji teoretycznych na sekundę (Mtops) lub więcej oraz jednostkę arytmetyczno - logiczną z szyną dostępu o szerokości 32 bitów lub

większej;

b. Są wykonane z półprzewodników

złożonych i pracują z częstotliwością

zegara powyżej 40 MHz; lub

c. Posiadają więcej niż jedną szynę danych albo rozkazów, albo szeregowy

port komunikacji zewnętrznej w procesorze równoległym o prędkości

transmisji danych powyżej 2,5 Mbajtów/s;

4. Pamięciowe układy scalone wytwarzane

z półprzewodników złożonych;

5.

Następujące przetworniki analogowo-cyfrowe i cyfrowo-analogowe na ukła ­

dach scalonych

a. Przetworniki analogowo-cyfrowe posiadające jedną z następujących

cech charakterystycznych

1. Rozdzielczość 8 bitów lub więcej ,

ale poniżej 12 bitów, i całkowity

czas przetwarzania z maksymalną

rozdzielczością poniżej 10 ns;

2. Rozdzielczość 12 bitów i całkowity

czas przetwarzania z maksymalną

rozdzielczością poniżej 200 ns; lub

-

5036 -

3. Rozdzielczość powyżej 12 bitów

i całkowity czas przetwarzania

z maksymalną rozdzielczością poniżej 2 mikrosekund;

b. Przetworniki

cyfrowo-analogowe

o rozdzielczości 12 bitów lub więk­

szej i "czasie ustalania" poniżej

10 ns;

6. Układy scalone elektrooptyczne albo

"optyczne układy scalone" do "przetwarzania

sygnałów"

posiadające

wszystkie wymienione poniżej cechy

charakterystyczne

a. Posiadające jedną albo więcej wewnętrznych diod " laserowych";

b. Posiadające jeden albo więcej wewnętrznych elementów reagujących

na światło; i

c. Wyposażenie w światłowody;

7. Sieci bramek programowalne przez użyt­

kownika, posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych

a. Zastępczą liczbę bramek powyżej

30000 (2 bramki wejściowe); lub

b. Typowe "podstawowe opóżnienie

bramki związane z rozchodzeniem

się sygnału " mniejsze niż 0,4 ns;

8. Tablice logiczne, programowalne przez

użytkownika, posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych

a. Zastępczą liczbę bramek powyżej

30000 (2 bramki wejściowe); lub

b. Częstotliwość przełączania powyżej

133 MHz;

9.

Układy

scalone na sieciach neurono-

wych;

10. Robione na zamówienie układy scalone

o nie znanej ich producentowi funkcji

lub statusie kontroli urządzenia, w którym będzie zastosowany dany układ

scalony, posiadające jedną z następują­

cych cech charakterystycznych

a. Ponad 208 terminali;

b. Typowe "podstawowe opóźnienie

bramki związane z rozchodzeniem

się sygnału" mniejsze niż 0,35 ns; lub

c. Częstotliwość

3 GHz;

robocza

powyżej

11. Cyfrowe układy scalone, różne od wymienionych w pozycjach 3A001.a.3. do

3A001.a.10. lub 3A001.a.12., oparte na

dowolnym układzie półprzewodników

złożonych i posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych

a. Zastępczą liczbę bramek powyżej 300

(2 bramki wejściowe); lub

Poz. 915

b. Częstotliwość przełączania powyżej

1,2 GHz;

12. Procesory do Szybkiej Transformacji Fouriera (FFT) posiadające jedną z nastę­

pujących cech charakterystycznych

a. Nominalny czas realizacji dla 1024-punktowej urojonej transformaty

FFT poniżej 1 ms;

b. Nominalny czas realizacji dla N-punktowej zespolonej transformaty

FFT poniżej N log2N/10 240 ms,

gdzie N jest liczbą punktów; lub

c. Przepustowość motylkowa powyżej

5,12 MHz.

b. Urządzenia mikrofalowe albo pracujące na

falach milimetrowych

1. Następujące elektronowe lampy

niowe i katodowe

próż­

UWAGA: Pozycja 3A001.b. 1. nie dotyczy lamp skonstruowanych

lub przystosowanych do dziatania w zakresie pasm przydzielonych przez ITU przy czę­

stotliwościach nie przekraczających 31 GHz.

a. Następujące lampy o fali bieżącej,

impulsowe albo o działaniu ciągłym

1. Pracujące z częstotliwościami powyżej 31 GHz;

2. Zaopatrzone w element podgrzewający katodę, z czasem dojścia

do mocy znamionowej w zakresie

fal radiowych wynoszącym poniżej 3 sekund;

3. Sprzężone lampy wnękowe albo

ich pochodne o "chwilowej szerokości pasma" powyżej 7% lub mocy szczytowej powyżej 2,5 kW;

4. Lampy spiralne, albo ich pochodne, posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych

a. "Chwilową szerokość pasma"

powyżej jednej oktawy i iloczyn mocy przeciętnej (wyrażo­

nej w kW) i częstotliwości (wyrażonej w GHz) powyżej 0,5;

b. "Chwilową szerokość pasma"

poniżej jednej oktawy i iloczyn

przeciętnej znamionowej mocy

wyjściowej

(wyrażonej

w kW) i częstotliwości roboczej

(wyrażonej w GHz) powyżej 1;

lub

c. Właściwości

nej";

"klasy kosmicz-

b. Wzmacniacze lampowe o skrzyżowa­

nych polach o wzmocnieniu powyżej

17 dB;

-

5037-

c. Impregnowane katody do lamp elektronicznych, posiadające jedną z wymien ionych poniżej cech charakterystycznych

1. Czas włączenia i dojścia do emisji

znamionowej poniżej 3 sekund;

lub

2. Wytwarzające ciągły prąd emisyjny w znamionowych warunkach

pracy o gęstości powyżej 5 A/cm 2;

2. Mikrofalowe układy scalone albo moduły z "monolitycznymi układami scalonymi", pracujące z częstotliwościami powyżej 3GHz;

UWAGA: Pozycja 3A001 .b.2. nie obejmuje ukfadów ani modufów

przeznaczonych albo pracują­

cych wyfącznie w zakresie

pasm przydzielonych przez

ITU z częstotliwościami nie

przewyższającymi 31 GHz.

3. Tranzystory mikrofalowe specjalnie

przeznaczone do pracy przy' częstotliwo­

ściach powyżej 31 GHz;

4. Mikrofalowe wzmacniacze półprzewod ­

nikowe, posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych

robocze

powyżej

a. Częstotliwości

10,5 GHz i "chwilową szerokość pasma " powyżej połowy oktawy;

b. Częstotliwości robocze przewyższa ­

jące 31 GHz;

5. Filtry środkowo- przepustowe i środko ­

wo-zaporowe przestrajalne elektronicznie albo magnetycznie, posiadające ponad 5 przestrajalnych rezonatorów

umożliwiających strojenie w zakresie

pasma częstotliwości 1,5:1 (fmaks/fmin)

w ciągu poniżej 10 mikrosekund o

a. Szerokości pasma środkowo - przepu ­

stowego powyżej 0,5% częstotliwo­

ści nośnej; lub

b. Szerokości pasma środkowo - zaporo­

wego poniżej 0,5% częstotliwości

nośnej;

6. Zespoły mikrofalowe zdolne do pracy

przy częstotliwościach powyżej 31 GHz;

7. Miksery i przetworniki przeznaczone do

rozszerzania przedziału częstotliwości

urządzeń ujętych w pozycjach 3A002.c.,

3A002.e. lub 3A002.f. powyżej podanych tam wartości granicznych;

8. Mikrofalowe wzmacniacze mocy zawierające lampy ujęte w pozycji 3A001.b.,

posiadające wszystkie z wymienionych

poniżej cech charakterystycznych

a. Częstotliwości

robocze

powyżej

3 GHz;

Poz. 915

b. Średnią WYJsClową gęstość mocy

większą niż 80 W/kg; oraz

c. Objętość mniejszą niż 400 cm 3 .

UWAGA: Pozycja 3A001.b.8. nie obejmuje kontrolą urządzeń skonstruowanych lub przystosowanych do pracy w zakresie

pasm przydzielonych przez

I TU.

c. Następujące urządzenia wykorzystujące fale

akustyczne i specjalnie do nich przeznaczone części

1. Urządzenia wykorzystujące akustyczne

fale powierzchniowe oraz akustyczne fale szumów powierzchniowych (płytkie)

(tj. urządzenia do "przetwarzania sygnałów" wykorzystujące fale odkształceń

sprężystych w materiałach), posiadają­

ce jedną z następujących cech charakterystycznych

a. Częstotliwość

nośną

powyżej

2,5 GHz;

b. Częstotliwość nośną większą niż

1 GHz, ale mniejszą niż 2,5 GHz, oraz

mające jedną z poniższych właściwo­

ści

1. Tłumienie pasma bocznego czę­

stotliwości powyżej 55 dB;

2. Iloczyn maksymalnego czasu

zwłoki i szerokości pasma (czas

w mikrosekundach i szerokość pasma w MHz) powyżej 100;

3. Szerokość pasma większą niż

250 MHz; lub

4. Opóźnienie dyspersyjne powyżej

10 mikrosekund; lub

c. Częstotliwość nośną 1 GHz lub mniej

oraz mające jedną z poniższych wła ściwości

1. Iloczyn

maksymalnego czasu

i szerokości pasma (czas

w mikrosekundach i szerokość pasma w MHz) powyżej 100;

2. Opóźnienie dyspersyjne powyżej

10 mikrosekund;

3. Tłumienie pasma bocznego czę ­

stotliwości powyżej 55 dB i szerokość pasma większą niż 50 MHz;

zwłoki

2. Urządzenia wykorzystujące przestrzenne

fale akustyczne (tj. urządzenia do "przetwarzania sygnałów" wykorzystujące

fale odkształceń sprężystych w materiałach), umożliwiające bezpośrednie przetwarzanie sygnałów z częstotliwościami

powyżej 1GHz;

3. Urządzenia do "przetwarzania sygnałów" optyczno-akustycznych wykorzystujące oddziaływania pomiędzy fala mi akustycznymi (przestrzennymi albo

-

5038-

powierzchniowymi) a falami świetlny­

mi do bezpośredniego przetwarzania

sygnałów

albo obrazów, włącznie

z analizą widmową, korelacją lub splataniem;

d. Urządzenia lub układy elektroniczne, w których skład wchodzą elementy wykonane

z materiałów" nadprzewodzących ", specjalnie przeznaczone do pracy w temperaturach

poniżej "temperatur krytycznych" co najmniej jednego z elementów "nadprzewodzących", posiadające jedną z następują­

cych cech charakterystycznych

1. Wzmocnienie elektromagnetyczne

a. Przy częstotliwościach równych lub

mniejszych od 31 GHz ze współczynni ­

kiem szumów poniżej 0,5 dB; lub

b. Przy

częstotliwościach

31 GHz;

powyżej

2. Przełączanie prądowe dla obwodów cyfrowych za

pomocą

bramek "nadprzedla którego iloczyn czasu

zwłoki na bramkę (w sekundach) i rozproszenia mocy na bramkę (w watach) wynosi poniżej 10-14 J; lub

wodzących,

3. Selekcja

częstotliwości

dla wszystkich

za pomocą obwodów rezonansowych o wartościach Q powyżej

10000;

częstotliwości

e.

Następujące urządzenia wysokoenergetycz-

ne

Poz. 915

i dzieląc przez cafkowitą masę ogniwa

(albo akumulatora) w kg.

c. Płyty z ogniwami fotoelektrycznymi

"klasy kosmicznej" lub odporne na

promieniowanie jonizujące, o mocy

jednostkowej powyżej 160 W/m 2

w temperaturze roboczej 301 K

(+28°C) po oświetleniu światłem

o natężeniu 1 kW/m 2 emitowanym

przez włókno wolframowe o temperaturze 2800 K (2 527 OC);

2. Następujące wysokoenergetyczne kondensatory magazynujące

N.B. sprawdź także 3A201.a.

a. Kondensatory o częstotliwości powtarzania poniżej 10 Hz (kondensatory

jednokrotne)

posiadające

wszystkie wymienione poniżej cechy

charakterystyczne

1. Napięcie znamionowe równe lub

wyższe n iż 5 kV;

2. Gęstość energii równą lub wyższą

niż 250 J/kg; oraz

3. Energię całkowitą równą lub wyż­

szą niż 25 kJ;

b. Kondensatory o częstotliwości powtarzania 10 Hz lub wyższej (kondensatory powtarzalne) posiadające

wszystkie wymienione poniżej cechy

charakterystyczne

1. Napięcie znamionowe równe lub

1. Następujące akumulatory i zespoły fotowoltaiczne

UWAGA: Pozycja 3A001.e.1. nie obejmuje

kontrolą

akumulatorów

o objętościach równych lub

mniejszych niż 27 cm 3 (np.

standardowe akumulatory wę­

glowe lub baterie R14).

a. Ogniwa i akumulatory galwaniczne

o gęstości energii powyżej 480 Wh/kg

i przystosowane do pracy w zakresie

temperatur od poniżej 243 K (-30°C) do

powyżej 343 K (+70°C);

b. Ogniwa i akumulatory doładowywane,

o gęstości energii powyżej 150 Wh/kg

po 75 cyklach ładowania/rozładowania

przy prądzie rozładowania równym

C/5 godzin (C jest pojemnością nominalną w amperogodzinach) w przypadku eksploatacji w zakresie temperatur

od poniżej 253 K (-20°C) do powyżej

333 K (+60°C);

Uwaga techniczna

Gęstość energii oblicza się mnożąc

średnią moc w watach (średnie napię­

cie w woltach razy średni prąd w am-

perach) przez czas

rozfadowania

w godzinach do poziomu napięcia

stanowiącego 75% napięcia jafowego

wyższe n iż 5 kV;

2. Gęstość energii równą lub wyższą

niż 50 J/kg;

3. Energię całkowitą równą lub wyż­

szą niż 100 kJ; oraz

4. Żywotność mierzoną liczbą cykli

ładowanie/rozładowanie

wynoszącą 10000;

3. "Nadprzewodzące" elektromagnesy albo cewki, specjalnie opracowane w sposób umożliwiający ich pełne ładowanie

i rozładowanie w czasie poniżej jednej

sekundy, posiadające wszystkie wymienione poniżej cechy charakterystyczne

N.B. sprawdź także 3A201.b.

a. Energia dostarczona podczas wyła­

dowania większa od 10 kJ w pierwszej sekundzie;

b. Średnica wewnętrzna uzwojenia prą­

dowego cewki wynosi powyżej

250 mm; oraz

c. Dostosowane do indukcji magnetycznej powyżej 8 T lub posiadające

"całkowitą gęstość prądu" uzwojenia powyżej 300 A/mm 2 ;

UWAGA: Pozycja 3A001.e.3. nie obejmuje kontrolą ani elektromagnesów, ani cewek "nadprze-

-

wodzących" specjalnie przeznaczonych do aparatury medycznej, w której do tworzenia obrazów wykorzystywany

jest rezonans magnetyczny

(MRI).

f.

Urządzenia rejestrujące bezwzględne poło­

żenie wału posiadające jedną z wymienio-

nych poniżej cech charakterystycznych

1. Rozdzielczość lepszą niż 1 część na

265000 (rozdzielczość 18 bitów) pełnego

zakresu ; lub

2. Dokładność powyżej i 2,5 sekundy łuku ;

3A002

Poz. 915

5039-

Sprzęt elektroniczny ogólnego przeznaczenia.

a. Następujące urządzenia rejestrujące i specjalnie do nich przeznaczone taśmy testowe

1. Analogowe urządzenia rejestrujące na taśmie magnetycznej włącznie z urządze­

niami umożliwiającym i zapis sygnałów

cyfrowych [(np. za pomocą modułu do

cyfrowego zapisu magnetycznego z dużą

gęstością (HDDR)], posiadające jedną

z wymienionych poniżej cech charakterystycznych

a. Szerokość pasma powyżej 4 MHz na

kanał lub ścieżkę elektroniczną;

b. Szerokość pasma powyżej 2 MHz na

kanał lub ścieżkę elektroniczną oraz

posiadające więcej niż 42 ścieżki ; lub

c. Uchyb czasowy, mierzony według dostępnej dokumentacji Inter Range Instrumentation Group (IRIG) lub Electronic Industries Association (ElA),

mniejszy od i O,1 mikrosekundy;

UWAGA: Pozycja 3A002.a. 7. nie obejmuje kontrolą rejestratorów analogowych na taśmie magnetycznej do cywilnych zastosowań techniki video.

2. Cyfrowe rejestratory obrazów na taśmie

magnetycznej posiadające złącza komunikacyjne o maksymalnej szybkości przesyłania sygnałów cyfrowych powyżej

180 Mbitów/s;

UWAGA: Pozycja 3A002.a.2. nie obejmuje kontrolą cyfrowych rejestra torów video na taśmie magnetycznej specjalnie przeznaczonych do rejestracji telewizyjnej

zgodnie z formatem sygnatu

znormalizowanym i zalecanym

przez Radio Consultative Committee (CCIR) lub International

Technical Commission (lEC) do

stosowania w telewizji cywilnej;

3. Urządzenia do cyfrowego zapisu na ta śmie magnetycznej techniką skanowania

spiralnego lub za pomocą głowicy stałej,

posiadające jedną z wymienionych poni żej cech charakterystycznych

a. Posiadające z łącza komunikacyjne

o maksymalnej szybkości przesyłania

sygnałów

cyfrowych

powyżej

170 Mbitów/s; lub

b. Właściwości " klasy kosmicznej" ;

UWAGA: Pozycja 3A002.a.3. nie obejmuje kontrolą rejestratorów

analogowych na taśmie magnetycznej,

wyposażonych

w przetworniki elektroniczne

HDDR, skonstruowanych w taki sposób, że umożliwiają rejestrację wytącznie danych cyfrowych .

4. Urządzenia posiadające złącza komuni kacyjne o szybkości przesyłania sygnałów cyfrowych powyżej 175 Mbitów/s,

umożliwiające

przekształcanie

cyfrowych rejestratorów obrazów na taśmie

magnetycznej w cyfrowe rejestratory

danych;

5. Analogowo-cyfrowe przetworniki przebiegów falowych i rejestratory stanów

przejściowych posiadające obie poniższe

cechy charakterystyczne

N.B. sprawdź także 3A202.

a. Szybkość przetwarzania cyfrowego

równą lub większą niż 200 milionów

próbek na sekundę i rozdzielczość

10 bitów lub większą; oraz

b. Wydajność ciągłą 2 Gbity/s lub więk­

szą ;

Uwaga techniczna

W przypadku urządzeń o równolegtej

architekturze szyn, wydajność ciągtą

określa się jako iloczyn największej

prędkości przesytu stów i liczby bitów

w stowie. W pozycji 3A002.a.5. poję­

cie " wydajność ciągta " oznacza największą prędkość przesytu danych

przez urządzenie do pamięci masowej

bez straty informacji z utrzymaniem

prędkości próbkowania i przetwarzania analogowo-cyfrowego;

b. "Elektroniczne zespoły " " syntezatorów czę­

stotliwości" z "czasem przełączania często ­

tliwości" z jednej wybranej wartości na drugą wynoszącym poniżej 1 ms;

c. Następujące " analizatory sygnałów "

1. " Analizatory sygnałów" zdolne do anali zowania częstotliwości powyżej 31 GHz;

2. "Analizatory sygnałów dynamicznych"

z "pasmem bieżącym o szerokości" powyżej 25,6 kHz;

-

c. Wszystkie materiały fotorezystywne, przeznaczone do użytku w przypadku stosowania promieni rentgenowskich, posiadające

czułość 2,5 mJ/mm 2 lub lepszą;

c. Symulatory procesów litograficznych na potrzeby projektowania.

d. Wszystkie materiały fotorezystywne zoptymalizowane z przeznaczeniem do technologii tworzenia obrazów powierzchniowych,

włącznie z fotorezystami siliatowanymi.

Symulator procesów litograficznych jest to

pakiet "oprogramowania" określający w fazie projektowania kolejność procesów litografii, trawienia i osadzania w celu przeksztafcenia geometrycznych ksztaftów na

maskach w konkretną topografię obszarów

przewodzących, dielektrycznych lub pólprzewodnikowych.

Uwaga techniczna

Uwaga techniczna

Techniki siliatowania definiuje się jako procesy utleniania powierzchni materialów fotorezystywnych w celu poprawy ich parametrów

zarówno podczas wywofywania na sucho, jak

i na mokro.

3C003

UWAGA: Pozycja 30003 nie obejmuje kontrolą

"oprogramowania" przeznaczonego

specjalnie do wprowadzania schematów ukfadów, symulacji logicznej,

projektowania rozmieszczenia i pofą­

czeń, weryfikacji topografii oraz taśm

sterujących generatorami masek.

Następujące związki organiczno-nieorganiczne

a. Materiały metaloorganiczne z glinu, galu lub

indu o czystości (na bazie metalu) powyżej

99,999%;

b. Związki arsenoorganiczne, antymonoorganiczne i fosforoorganiczne o czystości (na

bazie związku nieorganicznego) lepszej niż

99,999%.

UWAGA : Biblioteki, związane z nimi atrybuty

i inne dane slużące do projektowania

przyrządów

pólprzewodnikowych

lub ukfadów scalonych są zaliczane

do "technologii".

UWAGA: Pozycja 3C003 dotyczy wyfącznie

związków, w których skfadnik metalowy, częściowo metalowy lub skfadnik

niemetalowy jest bezpośrednio zwią ­

zany z węglem w organicznym skladniku molekuly.

30101 "Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone

do "użytkowania" urządzeń wyspecyfikowanych w pozycji 3A101 b.

3C004 Wodorki fosforu, arsenu lub antymonu o czystości powyżej 99,999%, nawet rozpuszczone

w gazach obojętnych lub w wodorze.

UWAGA: Pozycja 3C004 nie obejmuje kontrolą

wodorków zawierających molowo

20%, lub więcej, gazów obojętnych

rzadkich lub wodoru.

3D

Poz. 915

5045-

Oprogramowanie

30001 "Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone

do "rozwoju" lub "produkcji" urządzeń obję ­

tych kontrolą według pozycji 3A001.b. do

3A002 .g. lub 38;

30002 "Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone

do "użytkowania" urządzeń "ze sterowaniem

zaprogramowanym w pamięci" wyspecyfikowanych w pozycji 38;

30003 "Oprogramowanie" przeznaczone do wspomaganego komputerowo projektowania (CAD)

przyrządów półprzewodnikowych lub układów

scalonych, posiadające jedną z następujących

cech

a. Reguły projektowania lub reguły weryfikacji

obwodów;

b. Symulację układów na poziomie projektu

struktury fizycznej; lub

3E

Technologie

3E001

"Technologie" według Uwagi Ogólnej do Technologii do "rozwoju" lub "produkcji" urządzeń

lub materiałów objętych ograniczeniem wywozu według pozycji 3A, 38 lub 3C;

UWAGA: Pozycja 3E001 nie obejmuje kontrolą

" technologii" do "rozwoju" lub "produkcji" następujących wyrobów

a. Tranzystorów mikrofalowych dziafających w zakresie częstotliwości

poniżej 31 GHz;

b. Ukladów scalonych ujętych w pozycjach 3A001.a.3. do 3A001.a. 12.,

posiadających obie wymienione

poniżej cechy charakterystyczne

1. Zastosowano w nich technologię na poziomie jednego mikrometra lub więcej, i

2. Nie mają budowy wielowarstwowej.

UWAGA: Pojęcie " budowa wielowarstwowa" w Uwadze

b.2. do pozycji 3E001

nie stosuje się do ukfadów posiadających ma-ksymalnie dwie warstwy metaliczne i dwie

warstwy polikrzemowe.

-

5046 -

3E002 Inne technologie do "rozwoju" lub "produkcji"

następujących wyrobów

3E101

a. Próżniowych przyrządów mikroelektronicznych;

b. Heterostrukturalnych elementów półprze­

wodnikowych, takich jak tranzystory o wysokiej ruchliwości elektronów (HEMT), tranzystory heterobipolarne (HBT), elementy z jamą kwantową i elementy nadstrukturalne;

c. "Nadprzewodnikowych"

tronicznych;

przyrządów

elek-

3E201

1. Możliwość działania w temperaturze

otoczenia poniżej 228 K (-45°C) lub powyżej 358 K (+85°C); lub

1. Komputery, towarzyszące im urządzenia albo

" oprogramowanie " stosowane do celów telekomunikacyjnych albo działające w ramach

"lokalnej sieci komputerowej", należy również analizować pod kątem parametrów urzą­

dzeń telekomunikacyjnych wymienionych

w Kategorii 5, część 1 (Telekomunikacja).

UWAGA: Pozycja 4A001.a. 1. nie dotyczy

komputerów specjalnie przeznaczonych do samochodów

cywilnych i dla kolejnictwa.

2. Zabezpieczone przed promieniowaniem

jonizującym co najmniej o następują­

cych parametrach minimalnych

a. Dawka całkowita: 5 x 103 Gy (Si);

b. Wahania natężenia dawki: 5 x 106 Gy

(Si)/s; lub

c. Pojedyncze przypadkowe zakłócenie

1 x 10- 7 błędów/bit/dzień;

UWAGA

4A

Systemy, urządzenia i części

4A001

Następujące komputery elektroniczne

i towa-

rzyszące im urządzenia oraz specjalnie do nich

przeznaczone "zespoły" i elementy

N.B. sprawdź także 4A101 .

a. Specjalnie opracowane w taki sposób, że

mają jedną z wymienionych poniżej cech

charakterystycznych

"Technologia" według Uwagi Ogólnej do Technologii do "użytkowan i a" urządzeń wyspecyfikowanych

w

pozycjach

3A0001 .e.2.,

3A001 .e.3., 3A001.e.5., 3A201 , 3A202, 3A225

do 3A233.

KOMPUTERY

UWAGI

1. Jednostki sterujące, podłączone

bezpośrednio do szyn lub łączy

jednostek centralnych, " pamięci

operacyjnych" albo sterowników dysków, nie są uważane za

urządzenia

telekomunikacyjne

ujęte w Kategorii 5, część 1 (Telekomunikacja).

2. W przypadku statusu kontroli

"oprogramowania" specjalnie

przeznaczonego do komutacji

pakietów patrz Kategoria 50001

(Telekomunikacja) .

2. Komputery, towarzyszące im urządzenia

i "oprogramowanie" wykorzystywane do

szyfrowania, rozszyfrowywania, systemu

zabezpieczeń wymagającego potwierdzenia

wielopoziomowego lub w wymagających

potwierdzenia systemach wyodrębnienia

użytkownika, albo ograniczające zgodność

elektromagnetyczną (EMC), należy również

analizować pod kątem parametrów wymienionych w Kategorii 5, część 2 ("Ochrona Informacji").

"Technologia" według Uwagi Ogólnej do Technologii do "użytkowania" urządzeń lub "oprogramowania" wyspecyfikowanego w pozycjach 3A001.a.1. lub 3A001.a .2., 3A101 albo

30101.

3E102 "Technologia " według Uwagi Ogólnej do Technologii do "rozwoju " oprogramowania wyspecyfikowanego w pozycji 30101.

d. Podłoży folii diamentowych do podzespołów elektronicznych .

KATEGORIA 4 -

Poz. 915

b. Mające cechy charakterystyczne lub realizujące działania wykraczające poza ograniczenia według Kategorii 5, część 2 (Ochrona Informacji) .

4A002

Następujące "komputery hybrydowe"

"zespoły elektroniczne" i specjalnie do

przeznaczone podzespoły

oraz

nich

N.B. sprawdź także 4A102.

a. Wyposażone w "komputery cyfrowe" ujęte

w pozycji 4A003;

b. Zaopatrzone w przetworniki analogowo-cyfrowe posiadające wszystkie z wymienionych poniżej cech charakterystycznych

1. 32 kanały albo więcej; i

2. Rozdzielczość 14 bitów (plus bit znaku)

lub większą oraz szybkość przetwarzania 200 000 operacji przetwarzania/s lub

większą·

4A003 Następujące "komputery cyfrowe", "zespoły

elektroniczne" i urządzenia im towarzyszące

oraz specjalnie dla nich przeznaczone elementy

-

5047 -

UWAGI

1. Pozycja 4A003 obejmuje

a. procesory wektorowe,

b. procesory tablicowe,

c. cyfrowe procesory sygnafowe,

d. procesory logiczne,

e. urządzenia przeznaczone do

"udoskonalania obrazów" ,

f. urządzenia

przeznaczone

do

"przetwarzania sygnafów".

2. Status kontroli " komputerów cyfrowych " i towarzyszących im urzą ­

dzeń wedfug pozycji 4A003 wynika

ze statusu kontroli innych urządzeń

lub systemów, pod warunkiem, że

a. "Komputery cyfrowe" lub towa rzyszące im urządzenia mają zasadnicze znaczenie dla dziafania

tych innych urządzeń lub systemów;

b. "Komputery cyfrowe " lub towa rzyszące im urządzenia nie są

"elementem o podstawowym

znaczeniu" tych innych urządzeń

lub systemów;

oraz

UWAGA

1. Status kontroli urzą ­

dzeń do " przetwarzania sygnafów" lub

" udoskonalania obrazów" specjalnie przeznaczonych do innych

urządzeń, i ograniczonych funkcjonalnie do

wymogów pracy tych

urządzeń, wynika ze

statusu kontroli tych

innych urządzeń, nawet gdy wykracza to

poza kryterium "elementu o podstawowym znaczeniu".

2. W przypadku statusu

kontroli "komputerów cyfrowych " lub

towarzyszących

im

urządzeń,

przeznaczonych do sprzętu

telekomunikacyjnego patrz Kategoria 5

(część 1 Urządze­

nia telekomunikacyjne).

c. "Technologię " w odniesieniu do

"komputerów cyfrowych" i towarzyszących im urządzeń ujęto

w pozycji 4E.

a. "Odporne na uszkodzenia" dzięki specjalnej

konstrukcji lub odpowiednio zmodyfikowa ne

Poz. 915

U WAGA: Dla celów pozycji 4A003.a. " kom putery cyfrowe " i towarzyszące im

urządzenia nie są uważane za "odporne na uszkodzenia" dzięki specjalnej ko nstrukcji lub odpowiedniej mod yfikacji, jeżeli zastosowano w nich

1. Algorytmy wykrywania albo korekcji bfędów w "pamięci operacyjnej";

2. Pofącze nie dwóch "komputerów cyfrowych " w jeden zespóf

w taki sposób, że w razie awarii

jednej z aktywnych jednostek

centralnych dziafania związane

z kontynuacją pracy systemu

może przejąć bliźniacza jednostka cen tralna, znajdująca się do

tej chwili na biegu jafowym;

3. Pofączenie dwóch jednostek

centralnych szynami danych albo poprzez wykorzystywaną

wspólnie pamięć w celu umożli­

wienia danej jednostce centralnej wykonywania innych dziafań do czasu awarii drugiej jednostki centralnej, co spowoduje

przejęcie wszystkich prac zwią ­

zanych z funkcjonowaniem syste mu przez pierwszą jednostkę

cen~ralną; lub

4. Synchron izację dwóch jedno stek centralnych za pomocą

"oprogramowania " w taki sposób, że jedna z nich rozpoznaje

awarię drugiej i przejmuje w takiej sytuacji jej zadania.

b. "Komp utery cyfrowe" o "teoretycznej mocy

ko mbinowanej " (CTP) powyżej 2000 milionów te o retycznych operacji kombinowanych na sekun dę (Mtops);

c. N astępujące "zespoły elektroniczne" specja lnie przeznaczone albo zmodyfikowane

w ce lu po lepszen ia mocy obliczeniowej poprzez agregację "elementów obliczeniowych" w tak i sposób, że "teoretyczna moc

kom binowana" agregatu przekracza wartości g raniczne uj ęte w pozycji 4A003.b.;

UWAGI: 1. Pozycja 4A003.c. odnosi się wyfącznie do " zespofów elektronicznych" i programowanych pofą­

czeń, kt órych moc obliczeniowa

nie wykracza poza wartości graniczne określone w pozycji

4A003.b ., w przypadku ich dostarczania jako "zespofy elektron iczne " w stanie rozfożonym. Pozycja ta nie dotyczy "zespofów

elektronicznych", które ze wzglę­

d u na charakter swojej konstrukcji nie mogą z natury rzeczy być

wykorzystywane jako urządzenia

-

5048-

towarzyszące, ujęte w pozycji

4A003.d., 4A003.e. lub 4A003.f.

2. Pozycja 4A003.c. nie obejmuje

kontrolą "zespofów elektronicznych" specjalnie przeznaczonych

do wyrobu albo rodziny wyrobów, których maksymalna konfiguracja nie wykracza poza ograniczenia podane w

pozycji

4A003.b.

d. Układy akceleratorów graficznych albo koprocesory graficzne o "szybkości przetwarzania trójwymiarowej grafiki wektorowej"

powyżej 3000000;

e. Urządzenia do przetwarzania analogowo-cyfrowego o parametrach wykraczających poza wartości graniczne określone w pozycji

3A001.a.5;

jazdów nośnych wymienionych w pozycji

9A004 lub rakiet meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104.

UWAGA: Pozycja ta dotyczy wyfącznie takich

sytuacji, w których urządzenie jest

dostarczane z oprogramowaniem

wymienionym w pozycjach 70103

lub 90103.

48

4C

40

40002 "Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone albo zmodyfikowane z przeznaczeniem do wspomagania "technologii" ujętych w pozycji 4.E;

40003

Następujące "oprogramowanie" specjalne

a. "Oprogramowanie" systemu operacyjnego,

programy narzędziowe i kompilatory do

opracowywania "oprogramowania" specjalnie przeznaczone do urządzeń do "wielostrumieniowego przetwarzania danych" na

"kod źródłowy";

b. "Systemy eksperckie" lub "oprogramowanie" do mechanizmów dedukcji w "systemach eksperckich", zapewniające obie poniższe cechy charakterystyczne

1. Reguły zależności od czasu; oraz

2. Elementarne środki do obsługi charakterystyk czasowych reguł działania i faktów;

c. "Oprogramowanie" o cechach lub możliwo­

ściach realizacji funkcji wykraczających poza

ograniczenia wymienione w pozycjach Kategorii 5, część 2 (Ochrona Informacji);

d. Systemy operacyjne specjalnie przeznaczone do urządzeń do "przetwarzania w czasie

rzeczywistym", gwarantujące całkowity

czas opóźnienia reakcji na przerwanie poniżej 20 mikrosekund.

dzeń

zapewniających pofączenia

wewnętrzne (np. tablice pofączeń,

szyny) ani urządzeń fączących

o charakterze pasywnym.

Następujące komputery i specjalnie do nich

przeznaczone urządzenia towarzyszące, "zespoły elektroniczne" i elementy dla nich

a. "Komputery z dynamiczną modyfikacją zestawu procesorów";

b. "Komputery neuronowe";

c. "Komputery optyczne".

4A101 Komputery analogowe, "komputery cyfrowe"

lub cyfrowe analizatory różniczkowe, różne od

wymienionych w pozycji 4A001.a .1., zabezpieczone przed narażeniami mechanicznymi lub

podobnymi i specjalnie skonstruowane lub

zmodyfikowane z przeznaczeniem do użycia

w kosmicznych pojazdach nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub w rakietach meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104.

4A102 "Komputery hybrydowe" specjalnie skonstruowane do modelowania, symulowania lub integrowania konstrukcyjnego kosmicznych po-

Oprogramowanie

UWAGA: Status kontroli "oprogramowania"

do "rozwoju", "produkcji" lub "użyt­

kowania" urządzeń opisanych w innych kategoriach jest związany z odpowiednią kategorią. Status kontroli

"oprogramowania" do urządzeń opisanych w niniejszej kategorii jest

40001 "Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone

lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" urzą­

dzeń, materiałów lub "oprogramowania" uję­

tych w pozycji 4A001 do 4A004 lub 4D;

UWAGA: Pozycja 4A003.g. nie dotyczy urzą­

4A004

Materiały

związany z tą kategorią·

UWAGA: Dla celów pozycji 4AOO.3. f. przez

g. Urządzenia specjalnie opracowane w taki

sposób, że zapewniają połączenia zewnętrz­

ne "komputerów cyfrowych" lub towarzyszących im urządzeń, umożliwiające wymianę danych z szybkościami przekraczającymi

80 Mbajtów na sekundę.

Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

Żadne.

Żadne.

f. Urządzenia, w których skład wchodzą "terminalowe instalacje interfejsowe" o parametrach wykraczających poza wartości graniczne określone w pozycji 5A001.b.3.

termin "terminalowe instalacje interfejsowe" należy rozumieć fącza

i inne interfejsy komunikacyjne

"Iokalnej sieci komputerowej". Interfejsy " lokalnej sieci komputerowej" są analizowane jako "sterowniki dostępu do sieci".

Poz. 915

4E

Technologia

4E001

"Technologie" według Uwagi Ogólnej do Technologii do "rozwoju", "produkcji" lub "użytko­

wania" urządzeń lub "oprogramowania" uję­

tych w pozycji 4A albo 4D.

-

5049-

UWAGA TECHNICZNA dat. " TEORETYCZNEJ MOCY

KOMBINOWANEJ" (CTP)

Skróty stosowane w niniejszej uwadze technicznej

"CE" "element obliczeniowy" (typowo, jednostka

arytmetyczno-logiczna)

FP

zmienny przecinek (floating point)

stały przecinek (fixed point)

XP

t

czas wykonania

XOR nierównoważność

CPU jednostka centralna

TP

teoretyczna moc obliczeniowa (pojedynczego

"CE")

"CTP" "teoretyczna moc kombinowana" (Composite

Theoretical Performance) (wielu "CE")

R

efektywna szybkość obliczeniowa

WL

długość słowa

L

współczynnik poprawkowy długości słowa

Czas wykonania "t" wyraża się w mikrosekundach, natomiast TP i "CTP" w milionach teoretycznych operacji na sekundę (Mtops), a WL - w bitach.

Omówienie sposobu obliczania "CTP"

"CTP" jest miarą mocy obliczeniowej wyrażaną

w Mtops. W celu obliczenia "CTP" pewnego zespołu

(agregatu) "CE" należy wykonać czynności podzielone

na następujące trzy etapy

1. Obliczyć efektywną szybkość obliczeniową R każde­

go "CE";

2. Skorygować uzyskaną efektywną szybkość obliczeniową (R) za pomocą współczynnika poprawkowego

długości słowa, dzięki czemu uzyska się Moc Teoretyczną (TP) każdego "CE";

3. W przypadku istnienia więcej niż jednego "CE" połączyć wszystkie wynikowe Tp, uzyskując w wyniku

"CTP" całego danego układu.

Szczegółowe

informacje na temat podanych etapów

postępowania zamieszczono dalej.

UWAGA 1: W przypadku agregatów zlożonych z wielu

"CE", posiadających podsystemy zarówno

z pamięcią dzieloną, jak i niedzieloną, obliczanie "CTP" odbywa się na zasadzie hierarchicznej, w dwóch etapach: po pierwsze

grupuje się "CE" z podsystemami pamięci

dzielonej, a następnie oblicza się "CTP" dla

danych grup stosując taką metodę obliczeń,

jak dla wielu "CE" z pamięcią niedzieloną.

UWAGA 2: W obliczeniach "CTP" nie uwzględnia się

"CE" o zastosowaniu ograniczonym do obslugi funkcji wejścia/wyjścia i peryferyjnych

(np. napędów dyskowych, sterowników komunikacyjnych i wyświetlaczy obrazowych).

Uwaga techniczna dot. "CTP"

W podanej poniżej tabeli przedstawiono sposób liczenia efektywnej szybkości obliczeniowej (R) dla każdego

"CE"

Etap 1: efektywna szybkość obliczeniowa R

Dla "elementów obliczeniowych" mających

Uwaga: Obliczenia przeprowadza się dla każdego "CE" niezależnie

Efektywna szybkość obliczeniowa, R

1

3 x txp dod

W razie braku dodawania należy wykorzystać

tylko XP

(R xp )

1

txp mnoź

w razie braku zarówno dodawania, jak i mnożenia należy

wykorzystać najszybszą dostępną operację arytmetyczną

1

3 x txp

patrz uwagi X i Z

tylko FP

(R fp )

max

[

łtp ~Od łtp1mnoż

'

patrz uwagi X i Y

zarówno Fp, jak i XP

(R)

obliczyć obie

Rxp , Rfp

)

-

5050-

w przypadku prostych procesorów logicznych gdzie t jest czasem wykonania instrukcji XOR albo w przybez implementacji żadnej z wymienionych ope- padku 109

sprzętu logicznego bez implementacji XOR, czasem

racji arytmetycznych

najszybszej prostej operacji logicznej

1

Patrz uwagi X i Z

3 x tlog

dla specjalnych procesorów logicznych, nie realiR = R' x WL/64

z wymienionych operacji arytmetycznych i logicznych

gdzie R' jest liczbą wyników na sekundę, WL jest liczbą bitów, na której jest realizowana operacja logiczna, natomiast

64 jest współczynnikiem normalizacji do operacji wykonywanych na 64 bitach

zujących żadnej

Uwaga techniczna dot. "erp"

Uwaga W: Wprzypadku wielu "CE" dziafających wtrybie potokowym, zdolnych do wykonania do

jednej operacji arytmetycznej lub logicznej

na każdy cykl zegara po zapefnieniu trybu

potokowego, można ustalić szybkość obliczeniową trybu potokowego. Efektywną

szybkością obliczeniową (R) dla każdego takiego "CE" jest największa szybkość w trybie potokowym lub szybkość realizacji obliczeń w trybie niepotokowym.

Uwaga X: Dla "CE" realizujących wielokrotne operacje

arytmetyczne specjalnego typu w pojedynczym cyklu (np. dwa dodawania na cykl lub

dwie identyczne operacje na cykl) czas realizacji t określa się zależnością

t_

czas cvklu

- liczba identycznych operacji arytmetycznych na cykl maszyny

"CE" wykonujące różne typy operacji arytmetycznych lub logicznych podczas pojedynczego

cyklu maszynowego należy traktować jako wielokrotne oddzielne "CE" dziafające równocześnie (np . "CE " wykonujący dodawanie i mnożenie podczas jednego cyklu należy traktować

jako dwa "CE", raz jako wykonujący dodawanie w jednym cyklu i po raz drugi jako wykonujący mnożenie w drugim cyklu).

W przypadku wykonywania przez pojedynczy

"CE" zarówno dziafania na skalarach, jak i na

wektorach, należy wybrać krótszy z czasów realizacji.

Uwaga Y: W przypadku braku implementacji dodawania FP (zmiennoprzecinkowego) lub mnoże­

nia Fp, natomiast wykonywania przez dany

"CE" dzielenia FP

1

Rfp=---tfp dzielenia

W przypadku realizacji przez dany "CE" odwrotności Fp, ale bez możliwości realizacji dodawania Fp, mnożenia FP lub dzielenia Fp, wartość Rfp wyznacza się z zależności

1

RfP=----tfp odwrotności

W razie braku implementacji wszystkich wymienionych instrukcji efektywna moc FP wynosi O.

Uwaga Z: W prostych operacjach logicznych pojedyncza instrukcja realizuje pojedyncze dziafanie

logiczne na nie więcej niż dwóch operandach o danej dfugości. W zfożonych operacjach logicznych pojedyncza instrukcja realizuje wiele dziafań logicznych na dwóch lub

więcej operandach, wskutek czego powstaje

jeden lub więcej wyników.

Szybkości obliczeniowe należy obliczać dla

wszystkich możliwych dfugości operandów

z uwzględnieniem zarówno operacji potokowych (jeżeli są możliwe), jak i operacji niepotokowych, dla instrukcji wykonywanych

najszybciej i dla każdej dfugości operandu

w oparciu o następujące zasady

1. Operacje potokowe lub typu rejestr-rejestr. Z wykluczeniem bardzo krótkich

czasów wykonania dla operacji na z góry

określonym operandzie lub operandach

(na przyktad, mnożenie przez O lub 1).

W razie braku implementacji operacji typu rejestr-rejestr, postępować wedfug

punktu (2).

2. Szybsze operacje typu rejestr-pamięć albo pamięć-rejestr; w razie braku również

takich operacji, postępować wedfug

punktu (3).

3. Operacje typu pamięć-pamięć.

W każdym wymienionym powyżej przypadku należy skorzystać z najkrótszego czasu

wykonania potwierdzonego przez producenta.

Etap 2: TP dla każdej możliwej długości operandu WL

Skorygować szybkość efektywną R (lub R') za pomocą

współczynnika poprawkowego

L w następujący sposób

na

długość

słowa

-

TP= R x L

gdzie

L=

[--.!..3 + WL

)

96

Uwaga: Używana w tych obliczeniach dtugość stowa

WL jest dtugością operandu w bitach. (W przypadku gdy w operacji używane są operandy

o różnych dtugościach, należy wybrać stowo

o największej dtugości).

Dla celów obliczania "CTP", za jeden "CE"

. o dtugości stowa (WL) równej liczbie bitów

w przedstawieniu danych (zazwyczaj 32 lub

64), uważa się kombinację mantysy ALU i wyktadnika ALU dla procesora zmiennoprzecinkowego albo jedność.

Korekcja tego typu nie znajduje zastosowania do wyspecjalizowanych procesorów logicznych, w których

nie są realizowane instrukcje XOR.

W takim przypadku TP=R.

Wybrać maksymalną wartość wynikową TP dla

każdego XP -

tylko "CE" (R x p );

każdego FP -

tylko "CE" (R fp );

każdego kombinowanego FP i XP "CE" (R);

każdego prostego procesora logicznego bez żadnej im-

plementacji wymienionych operacji arytmetycznych;

oraz

każdego specjalnego procesora logicznego nie wykonującego żadnej z wymienionych operacji arytmetycznych ani logicznych.

Etap 3: "CTP" dla agregacji "CE", włącznie z CPU

Dla CPU składającego się z pojedynczego "CE",

"CTP" = TP

[ dla "CE" wykonujących zarówno operacje stało-, jak

i zmiennoprzecinkowe, TP = max (TPfp , TP xp ) ).

Sposób obliczania "CTP" dla agregacji wielu "CE"

działających równocześnie

Uwaga 1: W przypadku agregacji uniemożliwiających

równoczesne działanie wszystkich "CE" należy stosować tę

konfigurację

Poz. 915

5051 -

możliwych

"CE", która daje największą z możliwych

"CTP" . Przed obliczeniem "CTP" całej kom binacji należy obliczyć TP każdego "CE" dla

każdej teoretycznie możliwej wartości maksymalnej.

UWAGA: W celu obliczenia możliwych kombinacji "CE" dziatających równocześnie należy wygenerować sekwencję instrukcji inicjującą operacje w wielu "CE", poczynając od

najwolniejszego z nich (jest to taki

element obliczeniowy, który wymaga największej liczby cykli do zakoń­

czenia swojego dziatania) i kończąc

na najszybszym "CE". Możliwą

kombinacją przy każdej sekwencji

cyklu jest taka kombinacja elementów "CE", które dziatają podczas

cyklu. W sekwencji instrukcji należy

wziąć pod uwagę wszystkie ograniczenia sprzętowe i (lub) konfiguracyjne (architektura) dla operacji pokrywających się ze sobą.

Uwaga 2: Pojedynczy układ scalony lub płytka może

składać się z wielu " CE" .

Uwaga 3: Zakłada się, że komputer może wykonywać

równoczesne operacje w przypadku, gdy jego producent podaje w instrukcji użytkowa ­

nia lub innej, że komputer może pracować

współbieżnie, równolegle lub wykonywać

operacje albo działania równoczesne.

Uwaga 4: Nie należy agregować wartości " CTP " dla

kombinacji " CE" połączonych ze sobą i z innymi w "lokalnych sieciach komputerowych", Rozległych Sieciach Komputerowych (WAN), dzielonych wspólnych połą ­

czeniach (urządzeniach wejścia/wyjścia),

sterownikach wejść/wyjść oraz we wszelk ich

połączeniach komunikacyjnyc h implementowanych przez oprogramowan ie.

Uwaga 5: Należy agregować wartości "CE " dla wieloelementowych układów " CE " specjalnie opracowanych w celu poprawy parametrów poprzez

agregację, równoczesne dz i ałani e i kombinację w układzie z dzieleniem wspólnej pamięc i

- lub typu wielokrotna pamięć/ "CE" - dzia łających równocześnie i z· wykorzystaniem

specjalnie opracowanego sprzętu .

Agregacji tego typu nie stosuje si ę do zespo łów opisanych w pozycji 4A003d

" CTP " = TP, + C2 X TP 2 ... . + Cn x TPn '

gdzie TP są uszeregowane według wartośc i ,

przy czym TP, jest największa , TP 2 jest dru ga z kole i pod względem wa rtośc i, .... , a TPn

jest najmniejszą z wartości TP. Cj są współ­

czynnikami wynikającymi z p rzepustowości

połączeń pomiędzy CE, określonymi w sposób następujący

W przypadku wielu " CE" dzia ł aj ą cyc h równocześnie i korzystających ze wspólnej pa mięci

C2 = C3 = C4 = .... = Cn = 0,75.

Uwaga 1: W przypadku gdy wartość " CTP" obliczona

w podany powyżej sposób ni e przekracza

194 Mtops, do obliczania Cj moż na zastosować następujący wzór

C. = 0,75

I

(mj1/2

(i=2, ... , n)

gdzie m = liczba elementów " CE " lub grup

"CE" o wspólnym dostępie ,

pod warunkiem , że

1. TP j każdej grupy lub grup " CE " nie jest

wyższa od 30 Mtops;

2. Elementy "CE " lub grupy elementów

"CE" dzielą wspólny dostęp do pamięci

operacyjnej [z wyjątkiem p a mięci podręcznej (cache)] za pośrednictwem pojedynczego kanału; oraz

-

5052-

Poz. 915

Sj = suma maksymalnych szybkości

transmisji danych (w jednostkach Mbajty/s) dla wszystkich kanałów danych połączonych z i-tym elementem "CE" lub grupą

elementów

"CE"

dzielących

3. W danym czasie tylko jeden element

"CE" lub grupa elementów " CE" może

używać takiego kanału.

UWAGA: Nie dotyczy to pozycji ujętych w Ka tegorii 3.

Uwaga 2: "CE" korzystają ze wspólnej pamię­

ci, jeżeli mają dostęp do wspólnego

segmentu pamięci półprzewodniko­

wej. Może to być pamięć podręczna

(cache), pamięć operacyjna albo inny rodzaj pamięci wewnętrznej.

W tym przypadku nie uwzględnia się

peryferyjnych jednostek pamięcio­

wych, takich jak stacje dysków, napędy taśm ani RAM-dyski.

Dla wielokrotnych układów "CE" lub

grup "CE" nie korzystających ze

wspólnej pamięci, połączonych ze

sobą jednym lub większą liczbą kanałów danych

Cj = 0,75 X kj (i = 2, ... ,32) (patrz uwaga poniżej)

= 0,60 x kj (i = 33, ... , 64)

= 0,45 x kj (i = 65, .. . , 256)

= 0,30 x kj (i > 256).

Wartość C j określa się w zależ­

ności

od liczby elementów

"CE", a nie liczby węzłów,

gdzie kj = min (S/K r, 1), oraz

Kr = współczynnik normalizujący do

20 Mbajtów/s.

wspólną pamięć.

W przypadku obliczania C j dla grupy elementów "CE", numer pierwszego "CE" w grupie wyznacza odpowiednią wartość graniczną

dla Cj' Przykładowo, w agregacji grup składają­

cych się każda z 3 elementów "CE", grupa 22

będzie zawierała "CE" 64' "CE" 65 i "CE"66' Wła­

ściwą wartością graniczną dla Cj dla tej grupy

będzie 0,60.

Agregacja (elementów "CE" lub grup elementów "CE") powinna następować w kolejności od elementów najszybszych do najwolniejszych, tj.

TP, ~TP2 ~ ... ~TPn' oraz

+,

w przypadku TP j = TP j w kolejności od największego do najmniejszego; tj.

+,.

Cj ~ Cj

UWAGA: W przypadku gdy TPi dla elementu "CE" lub

grupy elementów "CE" wynosi powyżej

50 Mtops, nie używa się wspófczynnika ki do

elementów "CE" od 2 do 12; tj. Ci dla elementów"CE" 2 do 72 wynosi 0,75;

/

KATEGORIA 5 - TELEKOMUNIKACJA I "OCHRONA INFORMACJI"

Część 1

TELEKOMUNIKACJA

UWAGI

1. W pozycjach tej Kategorii ujęto status kon troli elementów, urządzeń " laserowych ",

urządzeń testujących i "produkcyjnych"

oraz materiafów i "oprogramowania" do

nich, przeznaczonych do urządzeń i systemów telekomunikacyjnych.

2. "Komputery cyfrowe", towarzyszące im

urządzenia lub" oprogramowanie", mające

zasadniczy wpfyw na dziafanie i wspomaganie dziafań urządzeń telekomunikacyjnych

przedstawionych w pozycjach dotyczących

telekomunikacji w niniejszej kategorii, są

traktowane jako elementy specjalnie opracowane, pod warunkiem, że są to modele

standardowe dostarczane przez producenta

na zamówienie klienta. Dotyczy to komputerowych systemów obsfugi, zarządzania,

konserwacji, technicznych lub księgowych.

SA1

Systemy, urządzenia i części

SA001 a. Dowolny typ urządzeń telekomunikacyjnych

posiadający jedną z wymienionych poniżej

.

cech charakterystycznych lub właściwości

albo realizujący jedną z wymienionych funkcji

1. Specjalnie zabezpieczone przed skutkami

przejściowych zjawisk elektronicznych

lub impulsu elektromagnetycznego, powstających w wyniku wybuchu jądrowe­

go;

2. Specjalnie zabezpieczone przed promieniowaniem gamma, neutronowym lub

jonizacyjnym;

3. Specjalnie skonstruowane do eksploatacji w zakresie temperatur poza przedziałem od 218 K (-55°C) do 397 K (+124°C).

UWAGA: Pozycja 5AOO 1.a.3. odnosi się

wyfącznie do urządzeń elektronicznych.

UWAGA: Pozycje 5A001.a.2. i 5A001.a.3.

nie dotyczą urządzeń na pokfadach satelitów.

b. Telekomunikacyjne urządzenia i systemy

transmisyjne oraz specjalnie do nich opracowane elementy i osprzęt, posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych albo właściwości lub realizujące

jedną z wymienionych poniżej funkcji

-

UWAGA: Telekomunikacyjnymi urządzenia­

mi transmisyjnymi są

a. Urządzenia sklasyfikowane jak

poniżej albo ich kombinacje

1. Urządzenia radiowe (np. nadajniki, odbiorniki i nadajniki-odbiorniki);

2. Urządzenia końcowe linii telekomunikacyjnych;

3. Pośrednie urządzenia wzmacniające;

4. Wzmacniaki;

5. Regeneratory;

6. Szyfratory (transkodery);

7. Multipleksery (wfącznie ze

statystycznymi);

8. Modulatory- demodulatory

(modemy);

(patrz

9. Transmultipleksery

CCITT Rec. G.701);

10. Przefącznice cyfrowe "ze sterowaniem

zaprogramowanym w pamięci ";

11. " Bramki" i mostki;

12. "Jednostki dostępu do nośni­

ków informacji "; oraz

b. Urządzenia przeznaczone do

używania w jedno- lub wieloka nafowej komunikacji za pośred­

nictwem

1. Przewodów (linia);

2. Kabli koncentrycznych;

3. Kabli światfowodowych;

4. Fal elektromagnetycznych; lub

5. Fal akustycznych rozchodzą­

cych się pod wodą;

1. W których zastosowano technikę cyfrową, włącznie z cyfrowym przetwarzaniem sygnałów analogowych , oraz

przeznaczone do pracy z "szybkością

przesyłania danych cyfrowych" na najwyższym poziomie multipleksowania

powyżej 45 Mbitów/s lub z "całkowitą

szybkością przesyłania danych cyfrowych " powyżej 90 Mbitów/s;

UWAGA: Pozycja 5A001.b.1. nie obejmuje kontrolą urządzeń specjalnie przeznaczonych do zabudowania i dziafania w dowolnych systemach satelitarnych do użytku cywilnego.

2.

Będące systemami komunikacji pod wodnej pos i adającymi jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych

a. Akustyczną częstotliwość nośną spoza przedziału 20 kHz do 60 kHz;

ł

Poz. 915

5053-

b. Działające w zakresie elektromagnetycznej częstotliwości nośnej poniżej

30 kHz;

c. Działające z wykorzystaniem techniki

sterowania za pomocą wiązki elektronów;

3. Będące

urządzeniami

wyposażonymi

w jeden z poniżej wymienionych elementów

a. "Sterowniki dostępu do sieci" i towarzyszące im wspólne urządzenia

o "szybkości przesyłania danych cyfrowych" powyżej 156 Mbitów/s.

b. " Sterowniki kanałów komunikacyjnych" z wyjściem cyfrowym o "szybkości przesyłania danych" powyżej

2,1 Mbitów/s na kanał;

UWAGA: W przypadku gdy dowolne

urządzenie nie objęte kon-

trolą

jest

wyposażone

w " sterownik dostępu do

sieci", to nie może być wyposażone w żaden z typów

interfejsów telekomunikacyjnych;

z wyjątkiem

takich, które wymieniono,

ale nie objęto kontrolą,

wedfug pozycji 5A001.b.3.

4. Urządzenia wyposażone w "Iaser" i posiadające jedną z wymienionych poniżej

cech charakterystycznych

a. Długość

fali

nośnej

powyżej

1000 nm;

b. Działanie oparte na technikach analogowych i szerokość pasma powyżej 45 MHz;

UWAGA : Pozycja 5A001.b.4.b. nie

obejmuje kontrolą systemów telewizji przemysfowej.

c. Działanie oparte na technikach przesyłania spójnej wiązki optycznej lub

detekcji spójnej wiązki optycznej

(zwane również heterodynowymi albo

homodynowymi

technikami

optycznymi);

d. Działanie oparte na technikach multipleksowania długości fali; lub

e. Możliwość wykonywania czynności

" wzmacniania optycznego";

5. Będące urządzeniami radiowymi z czę­

stotliwościami, wejściową lub wyjścio­

wą, powyżej 31 GHz;

UWAGA: Pozycja 5A001 .b.5. nie obejmuje kontrolą urządzeń przeznaczonych lub zmodyfikowanych do pracy w pasmach

przydzielonych przez ITU.

t

-

5054 -

6. Będące urządzeniami radiowymi, w których zastosowano jedną z poniżej wymienionych technik

a. Technikę kwadraturową modulacji

amplitudowej (QAM) powyżej poziomu 4, jeżeli "całkowita szybkość

transmisji cyfrowej" jest wyższa niż

8,5 Mbitów/s;

b. Technikę kwadraturową modulacji

amplitudowej (QAM) powyżej poziomu 16, jeżeli "całkowita szybkość

transmisji cyfrowej" jest równa lub

mniejsza niż 8,5 Mbitów/s; lub

c. Inne techniki modulacji cyfrowej,

oraz posiadające "wydajność widmową" powyżej 3 bitów/s/Hz.

UWAGI

1. Pozycja 5A001.b.6. nie obejmuje kontrolą urządzeń specjalnie przeznaczonych do zabudowania i dziatania w dowolnych systemach satelitarnych do użytku cywilnego.

2. Pozycja 5A001.b.6. nie obejmuje kontro lą przekaźnikowych

urządzeń radiowych przeznaczonych do pracy w przydzielonych przez ITU pasmach

a. 1. Poniżej 960 MHz; lub

2. Pracujących z "catkowitą szybkością transmisji cyfrowej" poniżej

8,5 Mbitów/s; oraz

b. Posiadających

" wydajność

widmową"

poniżej

4 bitów/s/Hz;

7. Będące urządze niam i radiowymi działa­

jącymi w paśmie od 1,5 do 87,5 MHz,

posiadającymi jedną z wymienionych

poniżej cech charakterystycznych

a. Zastosowanie technik adaptacyjnych

zapewniających tłumienie sygnałów

zakłócających

na poziomie powyżej

15 dB.

b. Spełnianie obu poniżej wymienionych warunków

1. Automatyczne

przewidywanie

i wybieranie częstotliwości oraz

"całkowite szybkości przesyłania

danych

cyfrowych"

umożliwiające

na

kanał,

optymalizację

przesyłania; i

2. Zaopatrzenie w liniowy wzmacniacz mocy umożliwiający równoczesną obróbkę wielu sygnałów

przy mocy wyjściowej 1 kW lub

wyższej w zakresie częstotliwości

1,5 do 30 MHz albo 250 W lub wyż­

szej w zakresie częstotliwości

30 do 87,5 MHz, w zakresie "pasma chwilowego" o szerokości

Poz. 915

jednej oktawy lub większej i z wyjsClem o zniekształceniu harmonicznym lub innym lepszym niż

-80 dB;

8. Będące urządzeniami radiowymi, w których zastosowano techniki "widma rozproszonego" albo "możliwość regulacji

częstotliwości" (rozrzucanie częstotli ­

wości), posiadającymi jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych

a. Programowane przez użytkownika kody rozpraszania; lub

b. Całkowitą szerokość przesyłanego pasma 100 lub więcej razy większą od

szerokości pasma dowolnego z kanałów informacyjnych i powyżej 50 kHz;

UWAGA: Pozycja 5A001.b.8.b. nie

obejmuje kontrolą urządzeń

radiowych sieci telekomunikacyjnych w uktadzie terytorialnym

(komórkowym)

dziatających

w zakresie

pasm cywilnych.

UWAGA: Pozycja 5A001.b.8. nie obejmuje kontrolą urządzeń o mocy wyjściowej 1 W lub mniejszej.

9. Będące sterowanymi cyfrowo odbiornikami radiowymi, które jednocześnie

a. Posiadają powyżej 1000 kanałów;

b. Charakteryzują się "czasem przełą­

czania częstotliwości" poniżej 1 ms;

c. Umożliwiają automatyczne przeszukiwanie lub skanowanie części widma

fal elektromagnetycznych;

d. Umożliwiają identyfikację odbiera nych sygnałów lub typu nadajnika.

UWAGA: Pozycja 5A001.b.9. nie obejmuje kontrolą urządzeń komórkowych radiowych sieci

telekomunikacyjnych, dziatających w zakresie pasm cywilnych.

10. Będące urządzeniami wykorzystującymi

funkcje cyfrowego "przetwarzania sygnałów" dla realizacji kodowania mowy

z szybkością poniżej 2 400 bitów/s.

c. Urządzenia przełączające "ze sterowaniem

zaprogramowanym w pamięci" oraz towarzyszące im systemy urządzeń sygnało­

wych, posiadające jedną z wymienionych

poniżej cech charakterystycznych albo wła­

ściwości lub realizujące jedną z wymienionych funkcji; oraz specjalnie do nich przeznaczone elementy i osprzęt

UWAGA: Multipleksery statystyczne z cyfrowym wejściem i wyjściem, umożli­

wiające przefączanie, są uważane

urządzenia przefączające "ze

za

-

5055-

sterowaniem zaprogramowanym

w pamięci".

mi, działającymi na odcinek światło­

wodu o długości od 0,5 do 3 m, przeciągany z szybkością 2 do 5 m/s po-

1. "Zwykła łączność kanałowa", działająca

zarówno w sprzężonym, jak i quasi-sprzężonym trybie pracy;

między

5. Będące urządzeniami, w których zastosowano techniki "przesyłania w trybie

asynchronicznym" ("ATM");

przeprowadzić

równoważnych

większe ;

Uwaga techniczna

Test kontrolny: prowadzona na bieżą­

co (on line) albo poza linią produkcyjną (off-line) kontrola zupełna,

podczas której wszystkie włókna są

obciążane dynamicznie z góry określonymi naprężeniami rozciągający-

według

norm kra-

jowych.

2. Kable światłowodowe i akcesoria przeznaczone do pracy pod wodą;

UWAGA: Pozycja 5A001.d.2. nie obejmuje kontrolą kabli i akcesoriów dla standardowej telekomunikacji cywilnej.

N.B.: Dla światłowodowych penetratorów do oglądania kadłubów statków

lub łączników do nich sprawdź także

8A002.c.

e. "Elektronicznie sterowane fazowane układy

antenowe" pracujące w zakresie częstotli­

wości powyżej 31 GHz;

UWAGA: Pozycja 5AOO 1.e. nie obejmuje

kontrolą "elektronicznie sterowanych fazowanych układówanteno­

wych" do systemów kontroli lądo­

wania oprzyrządowanych według

wymagań norm Organizacji Lotnictwa Cywilnego (lCAO) obejmujących mikrofalowe systemy kontroli lądowania (MLS).

5A101 Urządzenia do zdalnego przekazywania wyników pomiarów i do zdalnego sterowania znajdujące zastosowanie w "pociskach rakietowych".

UWAGA: Pozycja 5A 101 nie obejmuje kontrolą

urządzeń specjalnie przeznaczonych

do zdalnego sterowania modelami

samolotów, statków lub pojazdów

i wytwarzających pole elektryczne

o natężeniu nie przekraczającym

200 mikrowoltów na metr wodległo­

ści 500 metrów.

d. Następujące światłowodowe kable komunikacyjne, światłowody oraz specjalnie do

nich przeznaczone elementy i akcesoria

1. Światłowody lub kable światłowodowe

o długości ponad 50 m posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych

a. Przeznaczone do działania na jednym

rodzaju fal elektromagnetycznych;

lub

b. W przypadku światłowodów, określone przez producenta jako odporne

na naprężenia rozciągające podczas

testu kontrolnego 2 x 109 N/m 2 lub

nawijającymi

tura otoczenia powinna wynosić

293 K (20°C), a wilgotność względna

40%.

UWAGA: Testy kontrolne można

UWAGA: Pozycja 5A001.c.2. nie obejmuje kontrolą komutatorów

pakietów ani routerów z portami albo łączami o parametrach nie przekraczających

wartości podanych w pozycji

5A001.c.3.

4. "Komutacja optyczna";

bębnami

o średnicy około 150 mm. Tempera-

2. "Adaptacyjny dynamiczny wybór trasy";

3. Będące komutatorami pakietów, komu tatorami łączy oraz wybierakami marszruty (routerami) z portami albo łącza­

mi o parametrach przewyższających dowolną z podanych poniżej wartości

a. "Szybkość przesyłania danych cyfrowych" 2,1 Mbitów/s na kanał dla sterownika kanału komunikacyjnego;

lub

UWAGA: Pozycja 5A001.c.3.a. nie

obejmuje kontrolą m u Itipleksowania zespołów łą­

czy złożonych wyłącznie

z kanałów komunikacyjnych nie objętych indywidualnie kontrolą według

pozycji 5A001 .c.3.a.

b. "Szybkość przesyłania danych cyfrowych" 156 Mbitów/s dla "sterowników dostępu do sieci" i towarzyszą­

cych mediów wspólnych;

Poz. 915

5B1

Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

5B001 a. Urządzenia i specjalnie przeznaczone do nich

elementy i akcesoria, specjalnie przeznaczone do "rozwoju", "produkcji" i "użytkowa­

nia" urządzeń, materiałów, funkcji lub wła­

ściwości ujętych w pozycjach 5A001 , 5B001,

5C001, 50001 lub 5E001;

UWAGA: Pozycja 58001.a . .nie obejmuje

kontrolą urządzeń do obróbki świa­

tłowodów i "półproduktów świa­

tłowodowych", nie zawierających

na wyposażeniu "Iaserów" pół­

przewodnikowych.

•

-

5056-

5C1

Materiały

5C001

Półprodukty szkła lub innych materiałów zoptymalizowanych do produkcji światłowodów

objętych kontrolą według pozycji 5A001.d.

501

Oprogramowanie

2. "Technologie" do "rozwoju" lub "użyt­

kowania" laserowych technik komunikacyjnych z możliwością automatycznego wykrywania i ustalania pochodzenia

oraz śledzenia sygnałów i utrzymywania komunikacji w egzoatmosferze lub

w środowisku podpowierzchniowym

(podwodnym);

3. "Technologie" przetwarzania i nakłada­

nia powłok na światłowody specjalnie

przeznaczone do nadawania im odporności na działanie w środowisku wodnym;

50001 a. "Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone albo zmodyfikowane z przeznaczeniem

do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowa­

nia" urządzeń, funkcji lub właściwości obję­

tych kontrolą według pozycji 5A001, 58001

lub 5C001;

4. "Technologie" do "rozwoju" urządzeń,

w których stosowane są techniki "Synchronicznej

Hierarchii

Cyfrowej"

("SDH") lub "Synchronicznych Sieci

Optycznych" ("SONET");

b. "Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do

wspierania "technologii" objętych kontrolą

według pozycji 5E001;

5. "Technologie" do "rozwoju" "struktury

przełączającej" o parametrach przekraczających 64 000 bitów na sekundę na

kanał informacyjny, z wyłączeniem wewnętrznych zintegrowanych połączeń

cyfrowych komutatora;

c. Następujące "oprogramowanie" specjalne

1. "Oprogramowanie", z wyłączeniem programów w postaci wykonywalnej maszynowo, specjalnie przeznaczone albo

zmodyfikowane z przeznaczeniem do

"użytkowania" cyfrowych urządzeń lub

systemów łączności radiowej działają­

cych w układzie terytorialnym (komórkowym);

6. "Technologie" do "rozwoju" systemów

sterowania sieciami scentralizowanymi

lub "adaptacyjnego dynamicznego wyboru trasy";

2. "Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone albo zmodyfikowane w taki sposób, żeby umożliwiało urządzeniom osią­

gnięcie tych cech charakterystycznych,

funkcji lub właściwości, które są objęte

kontrolą według pozycji 5A001

lub

58001;

7. "Technologie" do "rozwoju" systemów

radiowych sieci telekomunikacyjnych

w układzie terytorialnym (komórkowym);

8. "Technologie" do "rozwoju" szerokopasmowej "Sieci Cyfrowej z Integracją

Usług" ("ISDN");

3. "Oprogramowanie" umożliwiające odtworzenie "kodu źródłowego" "oprogramowania" wymienionego w pozycjach

5A001 lub 58001;

9. "Technologie" do "rozwoju" technik

QAM, do urządzeń radiowych, powyżej

poziomu 4.

4. "Oprogramowanie" inne niż w postaci

wykonywalnej maszynowo, specjalnie

przeznaczone do "adaptacyjnego dynamicznego wyboru trasy".

N.B.: Dla "oprogramowania" dotyczącego

"przetwarzania sygnałów" sprawdź również 40 i 60.

5E1

Poz. 915

10. "Technologie" do "rozwoju" technik

"widma rozproszonego" lub z "możli­

wością regulacji częstotliwości" (rozrzucanie częstotliwości).

5E101

"Technologie" według Uwagi Ogólnej do Technologii przeznaczone do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" urządzeń ujętych w pozycji 5A101.

Technologia

5E001 a. Technologie według Uwagi Ogólnej do Technologii do "rozwoju", "produkcji" lub "użyt­

kowania" (z wyłączeniem obsługi) urządzeń,

funkcji, właściwości lub "oprogramowania"

ujętych w pozycjach 5A001, 58001, 5C001

lub 5D001;

b. Następujące technologie specjalne

1. "Technologie" "niezbędne" do "rozwoju" lub "produkcji" urządzeń telekomunikacyjnych specjalnie przeznaczonych

do instalowania w satelitach;

•

Część 2

"OCHRONA INFORMACJI"

UWAGA: W niniejszej Kategorii określono status kontroli urządzeń, "oprogramowania", systemów, sposobów wykorzystania specjalnych

"zespotów elektronicznych", modutów, uktadów scalonych, elementów, technologii lub

funkcji opisanych w Kategorii 5, część 2 , nawet jeśli stanowią one elementy lub "zespoty elektroniczne" innych urządzeń .

-

5A2

5057 -

Systemy, urządzenia i części

5A002 a. Następujące systemy, urządzenia, sposoby

wykorzystania specyficznych "zespołów

elektronicznych", moduły i układy scalone

związane z "ochroną informacji" oraz inne

specjalne elementy do nich

N.B. Dla celów kontroli urządzeń odbiorczych globalnych satelitarnych systemów

nawigacji zawierających lub wykorzystują­

cych dekryptaż (np. GPS lub GLONASS)

sprawdź także pozycję 7 A005.

1. Przeznaczone albo zmodyfikowane w celu zastosowania "kryptografii" z wykorzystaniem technik cyfrowych do "ochrony informacji" ;

2. Przeznaczone

albo

zmodyfikowane

z przeznaczeniem do realizacji funkcji

kryptograficznych;

3. Przeznaczone albo zmodyfikowane w celu zastosowania "kryptografii" z wykorzystaniem technik analogowych do

" ochrony informacji";

UWAGA: Pozycja 5A002.a.3. nie obejmuje kontrolą niżej wymienionych

urządzeń

1. Urządzenia

do szyfrowania

pasmowego ze "statym wzorcem ", nie posiadające więcej

niż 8 pasm, w których transpozycje zmieniają się nie czę­

ściej niż raz na sekundę;

2. Urządzenia do szyfrowania

pasmowego ze "statym wzorcem ", posiadające więcej niż

8 pasm, w których transpozycje zmieniają się nie częściej

niż raz na dziesięć sekund;

3. Urządzenia do szyfrowania za

pomocą inwersji częstotliwo­

ści ze "statym wzorcem ",

w których transpozycje zmieniają się nie częściej niż raz

na sekundę;

4. Urządzenia symilograficzne

(telegrafii kopiowej);

5. Urządzenia

radionadawcze

dla ograniczonej liczby odbiorców;

6. Cywilne urządzenia telewizyjne;

4. Przeznaczone

albo

zmodyfikowane

z przeznaczeniem do wygaszania przypadkowego przekazywania sygnałów

przenoszących tajne informacje;

UWAGA: Pozycja 5A002.a.4. nie obejmuje kontrolą urządzeń specjalnie opracowanych albo

zmodyfikowanych z przeznaczeniem do wygaszania sygnatów ze względów zdrowotnych i bezpieczeństwa pracy.

Poz. 915

5. Przeznaczone albo zmodyfikowane w celu wykorzystania technik kryptograficznych do generowania kodu rozpraszają­

cego dla "widma rozproszonego" lub

kodu rozrzucającego (hopping) dla systemów z "regulacją częstotliwości";

6. Przeznaczone albo zmodyfikowane w celu zapewnienia uwierzytelnionego albo

wymagającego uwierzytelnienia "wielopoziomowego systemu ochrony" lub

wyodrębnienia użytkownika na poziomie powyżej Klasy 82 według Kryteriów

Oszacowania

Poufnych

Systemów

Komputerowych (Trusted Computer

System Evaluation Criteria - TCSEC)

lub równoważnych;

7. Instalacje kabli telekomunikacyjnych

przeznaczone lub zmodyfikowane za pomocą elementów mechanicznych, elektrycznych lub elektronicznych w celu

wykrywania niepowołanych podłączeń

do systemów.

UWAGA: Pozycja 5A002 nie obejmuje kontrolą

a. "Inteligentnych kart osobistych"

lub specjalnie dla nich opracowanych urządzeń mających jedną

z poniższych cech

1. Brak możliwości kodowania ruchu telegraficznego lub kodowania danych dostarczanych przez

użytkownika albo pokrewnych

funkcji zarządzania kluczem do

nich; lub

2. Ograniczenie do stosowania

w urządzeniach lub systemach

wytączonych

spod

kontroli

w punktach od 1 do 6 Uwagi do

pozycji 5A002.a.3. lub w punktach od b. do h. niniejszej Uwagi;

b. Urządzeń, w których zastosowano

"niezmienne" techniki kompresji

lub kodowania danych;

c. Urządzeń odbiorczych dla stacji radiowych, ptatnej telewizji lub podobnych systemów telewizyjnych

typu konsumenckiego o ograniczonym zasięgu, nie posiadających kodowania cyfrowego oraz w których

kodowanie cyfrowe jest wykorzystywane tylko do funkcji audiowizyjnych lub zarządzających;

d. Przewoźnych lub przenośnych radiotelefonów do zastosowań cywilnych, (np. do użytkowania w cywilnych systemach radiokomunikacji terytorialnej), w których nie

ma możliwości szyfrowania przez

abonentów końcowych (szyfrowa nie typu "end-to-end");

e. Funkcji rozszyfrowujących specjalnie opracowanych w ten sposób,

że umożliwiają dziatanie "oprogra-

-

5058-

mowania" zabezpieczonego przed

kopiowaniem, pod warunkiem, że

użytkownik nie ma dostępu do

funkcji rozszyfrowujących .

f. Urządzeń kontroli dostępu, takich jak

automatyczne terminale bankowe,

samoobsfugowe drukarki zadaniowe

lub terminale w punktach sprzedaży,

chroniące hasfo lub osobisty numer

identyfikacyjny (PIN) albo podobne

dane w celu uniemożliwienia dostę­

pu do tych instalacji osobom nie

upoważnionym, ale nie pozwalające

na kodowanie plików ani tekstów,

z wyjątkiem bezpośrednio związa­

nych z ochroną hasfa lub PIN;

g. Urządzeń do identyfikacji danych,

obliczających Kod Autentyczności

Komunikatu (MAC) lub podobny

wynik, uniemożliwiający zmianę

tekstu, ale nie pozwalających na kodowanie danych, tekstu lub innych

mediów różnych od niezbędnych

do identyfikacji;

h. Urządzeń kryptograficznych specjalnie skonstruowanych z przeznaczeniem do stosowania w maszynach

do realizacji operacji bankowych lub

gotówkowych, takich jak automatyczne terminale bankowe, samoobsfugowe drukarki zadaniowe lub terminale w punktach sprzedaży, przeznaczonych wyfącznie do tego typu

b. Urządzenia pomiarowe specjalnie przeznaczone do oceny i analizy funkcji dotyczących

"ochrony informacji" objętych kontrolą według pozycji 5A002 lub 5D002.

5C2

502 Oprogramowanie

50002 a. "Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do

"rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania"

urządzeń lub "oprogramowania" objętego

kontrolą według pozycji 5A002, 58002 lub

5D002;

b. "Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane w celu wspierania

"technologii" objętych kontrolą według pozycji 5E002;

c. Następujące "oprogramowanie" specjalne

1. "Oprogramowanie" mające właściwości,

albo realizujące lub symulujące funkcje

urządzeń objętych kontrolą według pozycji 5A002 lub 58002;

2. "Oprogramowanie" do uwierzytelniania

"oprogramowania" objętego kontrolą

według pozycji 5D002.c.1.;

UWAGA: Pozycja 50002 nie obejmuje kontrolą

a. "Oprogramowania" "niezbędne­

go" do "użytkowania" urządzeń

nie objętych kontrolą na mocy

uwagi do pozycji 5A002;

b. "Oprogramowania" umożliwiają­

cego realizację dowolnej funkcji

urządzeń wyfączonych z kontroli

na mocy Uwagi do pozycji 5A002.

Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

58002 a. Urządzenia specjalnie przeznaczone do

1. Rozwoju urządzeń lub funkcji objętych

kontrolą w pozycjach 5A002, 58002,

5D002 lub 5E002, w tym urządzeń pomiarowych lub do testowania;

2. Produkcji urządżeń lub funkcji objętych

kontrolą w pozycjach 5A002, 58002,

5D002 lub 5E002, w tym urządzeń pomiarowych, do testowania, napraw lub

produkcji;

KATEGORIA 6 -

6A

Systemy, urządzenia i części

Materiały

Żadne.

zastosowań;

582

Poz. 915

5E2

Technologia

5E002 Technologie według Uwagi Ogólnej do Technologii, przeznaczone do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" urządzeń lub "oprogramowania" ujętych w pozycjach 5A002, 58002

lub 5D002.

CZUJNIKI I LASERY

UWAGA: Pozycja 6A001.a.1. nie obejmuje

kontrolą

6A001 Czujniki akustyczne

a. Następujące okrętowe systemy akustyczne,

urządzenia albo specjalnie do nich przeznaczone elementy

1. Następujące systemy aktywne (nadajniki

albo nadajniki-odbiorniki), urządzenia

lub specjalnie do nich przeznaczone elementy

,

ł

a. sond do pomiaru gfębokości pracujących w pionie pod aparaturą,

nie mających możliwości przeszukiwania w zakresie powyżej

±20°, których dziafanie jest ograniczone do pomiaru gfębokości

wody, odlegfości do zanurzonych

lub zatopionych obiektów albo

do wykrywania fawic ryb;

,

-

5059-

b. następujących ptaw lub staw akustycznych

1. akustycznych ptaw lub staw

ostrzegawczych;

2. sonarów impulsowych specjalnie przeznaczonych do przemieszczenia się lub powrotu do

potożenia podwodnego.

a. Systemy o szerokim zakresie przeszukiwania przeznaczone do badań

batymetrycznych w celu sporządza­

nia map topograficznych dna morskiego, mające wszystkie poniższe

cechy charakterystyczne

1. Przeznaczenie do dokonywania

pomiarów pod kątem większym

od 20° w stosunku do pionu;

2. Przeznaczenie do pomiarów głę­

bokości większych niż 600 m, licząc

od powierzchni wody;

3. Przeznaczone do realizacji jednej

z poniższych funkcji

a. Wprowadzanie wielu wiązek,

z których co najmniej jedna ma

rozwartość kątową poniżej 1,9°;

lub

b. Uzyskiwanie przeciętnej dokład­

ności pomiarów głębokości wody na przeszukiwanym obszarze

w odniesieniu do poszczególnych pomiarów lepszej niż 0,3 %;

b. Systemy do wykrywania lub lokalizacji obiektów posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych

1. Częstotliwość

nośną

poniżej

10 kHz;

2. Poziom ciśnienia akustycznego

powyżej 224 dB (co odpowiada

1 mikropaskalowi na 1 m) wodniesieniu do urządzeń z częstotliwo ­

ścią roboczą w paśmie od 10 kHz

do 24 kHz włącznie;

3. Poziom clsnlenia akustycznego

powyżej 235 dB (co odpowiada

1 mikropaskalowi na 1 m) wodniesieniu do urządzeń z częstotliwo ­

ścią roboczą w paśmie od 24 kHz

do 30 kHz;

4. Kształtujące wiązki o kącie rozproszenia poniżej 1° względem dowolnej osi i posiadające częstbtli­

wość roboczą poniżej 100 kHz;

5. Umożliwiające pomiar odległości

do obiektów w zakresie powyżej

5 120 m ;

6. Skonstruowane w ten sposób, że

w normalnych warunkach pracy są

wytrzymałe na ciśnienia na głębo­

kości większej niż 1000 m i są zaopatrzone w przetworniki

ł

Poz. 915

a. z dynamiczną kompensacją ci śnienia; lub

b. w których elementem przetwarzającym nie jest cyrkonian/tytanian ołowiu ; lub

c. Reflektory

akustyczne,

włącznie

z

przetwornikami,

wyposażon e

w elementy piezoelektryczne, magnetostrykcyjne, elektrostrykcyjne,

elektrodynamiczne lub hydrauliczne,

działające indywidualn ie lub w odpowiedniej kombinacji zespołowej,

posiadające jedną z wymienionych

poniżej cech charakterystycznych

UWAGI: 1. Status kontroli reflektorów akustycznych, wtącz­

nie z przetwornikami,

specjalnie

przeznaczonych do innych urządzeń,

jest powiązany ze statusem kontroli tych innych

urządzeń .

2. Pozycja 6A001.a. 1.c. nie

obejmuje kontrolą elektronicznych źródet kieru jących dźwięk tylko w pionie ani źródet mechanicznych (np. pistolety pow ietrzne lub parowe) lub

chemicznych (np. materiaty wybuchowe).

1. Gęstość mocy akustycznej w impulsie powyżej 0,01 mW/mm 2/Hz

dla urządzeń pracujących w pa śmie częstotliwości poniżej 10 kHz;

2. Gęstość mocy akustycznej ciągłej

powyżej 0,001 mW/mm 2/Hz dla

urządzeń pracujących w paśmie

częstotliwości poniżej 10 kHz;

Uwaga techniczna

Gęstość mocy akustycznej oblicza

się dzieląc wyjściową moc akustyczną przez iloczyn pola powierzchni wypromieniowanej wiąz­

ki i częstotliwości roboczej.

3. Skonstruowane w ten sposób, że

w normalnych warunkach pracy są

wytrzymałe na ciśnienia na głębo­

kości w i ększ ej niż 1000 m ; lub

4. Mające tłumienie listka bocznego

emisji powyżej 22 dB;

d. Systemy akustyczne, urządzenia albo

specjalne elementy do określania

położenia statków nawodnych lub

pojazdów podwodnych skonstruowane z przeznaczeniem do

UWAGA: Pozycja 6A001.a.1.d. obejmuje

a. urządzenia, w których zastosowano

koherentne

" przetwarzanie

sygna-

I

-

5060-

fów" pomiędzy dwiema

lub większą liczbą boi kierunkowych a hydrofonem na statku nawodnym albo pojeździe podwodnym,

b. urządzenia mające możli­

wosc

automatycznego

korygowania

bfędów

prędkości

rozchodzenia

się dźwięku w celu obliczenia pofożenia obiektu.

1. Działania w zasięgu powyżej

1000 m i umożliwiające wyznaczanie położenia z dokładnością poniżej 10 m (wartość średnia kwadratowa) w przypadku pomiaru w zasięgu do 1000 m; lL!b

2. Wytrzymałe na ciśnienia na głębo­

kościach większych niż 1 000 m ;

2. Następujące pasywne urządzenia i systemy (odbiorcze, współpracujące, albo

nie, w normalnych zastosowaniach

z oddzielnymi urządzeniami aktywnymi)

oraz specjalnie do nich przeznaczone

elementy

a. Hydrofony (przetworniki) posiadają­

ce jedną z następujących cech charakterystycznych

1. Wyposażone w ciągłe, elastyczne

czujniki lub zespoły złożone z dyskretnych elementów czujnikowych

o średnicy lub długości poniżej

20 mm znajdujących się w odległości jeden od drugiego wynoszą­

cej poniżej 20 mm;

2. Wyposażone w jeden z następują­

cych elementów czujnikowych

a. Światłowody;

b. Polimery piezoelektryczne; lub

c. Elastyczne, piezoelektryczne materiały ceramiczne;

3. Czułość hydrofonów lepszą niż

-180 dB na każdej głębokości bez

kompensacji przyspieszeniowej;

4. W przypadku przeznaczenia do

pracy na głębokościach nie więk­

szych niż 35 m, czułość hydrofonów lepszą niż -186 dB z kompensacją przyspieszeniową;

5. W przypadku przeznaczenia do

normalnej pracy na głębokościach

większych niż 35 m, czułość hydrofonów lepszą niż - 192 dB z kompensacją przyspieszeniową;

6. W przypadku przeznaczenia do

normalnej pracy na głębokościach

większych niż 100 m, czułość hydrofonów lepszą niż -204 dB; lub

7. Przeznaczone do działania na głę­

bokościach większych niż 1 000 m;

ł

Poz. 915

Uwaga techniczna

Czufość hydrofonu definiuje się jako

dwadzieścia logarytmów przy podstawie 10 ze stosunku napięcia skutecznego po sprowadzeniu do napięcia skutecznego 1 V, po umieszczeniu czujnika hydrofonowego,

bez wzmacniacza, w polu akustycznych fal pfaskich o ciśnieniu skutecznym w wysokości 1 mikropaskala. Na przykfad, hydrofon o czufości -160 dB (po sprowadzeniu do

poziomu 1 V na mikropaskal) daje

w takim polu napięcie wyjściowe

10- 8 V, natomiast hydrofon o czufości -180 dB daje w takim samym polu napięcie wyjściowe tylko 1(,9 V.

Zatem hydrofon o czufości -160 dB

jest lepszy od hydrofonu o czufości

-180 dB.

b. Holowane zestawy hydrofonów akustycznych, mające jedną z następują­

cych cech

1. Odległość pomiędzy grupami hydrofonów wynosi poniżej 12,5 m;

2. Odległość pomiędzy grupami hydrofonów wynosi od 12,5 m do

25 m i są przeznaczone albo możli­

we do zmodyfikowania z przeznaczeniem do działania na głęboko­

ściach większych niż 35 m; lub

Uwaga techniczna

Wspomniana w pozycji 6A001.a.2.b.2.

"możliwość modyfikacji" oznacza,

że

są

zaopatrzone w elementy

umożliwiające zmianę przewodów

lub pofączeń w celu zmiany odlegfości pomiędzy grupami hydrofonów albo granicznych gfębokości

roboczych. Do elementów takich

zalicza się: zapasowe przewody

w ilości przewyższającej o 10 %

liczbę przewodów używanych, bloki umożliwiające zmianę odlegfości pomiędzy grupami hydrofonów lub wewnętrzne regulowane

urządzenia

limitujące

gfębokość

oraz urządzenia sterujące umożli­

wiające sterowanie więcej niż jedną grupą hydrofonów.

3. Odległość pomiędzy grupami hydrofonów 25 m lub większą i są

przeznaczone do działania na głę­

bokościach większych niż 100 m;

4. Czujniki kursowe objęte kontrolą

według pozycji 6A001.a.2.d.;

5. Wyposażenie w sieci czujników ze

wzmocnieniem podłużnym;

6. Wyposażenie w układ zespołowy

o średnicy mniejszej niż 40 mm;

•

-

7. Możliwość multipleksowania sygnałów grup hydrofonów i przeznaczenie do działania na głęboko­

ściach większych niż 35 m albo wyposażenie w regulowane lub demontowalne czujniki głębokości

z przeznaczeniem do pracy na głę­

bokościach większych niż 35 m;

lub

8. Wyposażenie w hyd rofony o wła ­

ściwośc i ach określonych w pozycji

6A001.a.2 .a.;

c. Urządzenia przetwarzające, specjalnie przeznaczone do holowanych zestawów hydrofonów akustycznych

posiadające

użytkownika

"możliwość

dzinie czasu lub częstotliwości,

w tym analizę widmową oraz cyfrowe kształtowanie wiązki za pomocą szybkiego przekształcenia

Fouriera lub innych przekształceń

lub procesów.

b. Urządzenia sonarowe z korelacją prędko­

ściową przeznaczone do pomiaru prędkości

poziomej obiektu, na którym się znajdują,

względem dna morza w przypadku odległo­

ści obiektu od dna powyżej 500 m.

6A002 Czujniki optyczne

N.B.: sprawdź także pozycję 6A102.

a. Następujące detektory optyczne

dostępu

UWAGA: Pozycja 6A002.a. nie obejmuje kontrolą elementów fotoelektrycznych

wykonanych z germanu lub krzemu.

do oprogramowania"

oraz możl i wość przetwarzania i korelacj i w funkcji czasu lub częstotliwo­

ści, włącznie z analizą spektralną, filtrowaniem cyfrowym i kształtowa­

niem wiązki za pomocą szybkiej

transformaty Fouriera lub innych

transformat lub procesów;

posiadające

d. Czujniki

kursowe

wszystkie z poniższych cech

1. Dokładność powyżej ±0,5°; oraz

2. Jedną z poniższych właściwości

a. Możliwość instalowania w ukła ­

dzie zespołowym i działania na

głębokościach

większych

1. Następujące detektory półprzewodniko­

we "klasy kosmicznej"

a. Detektory półprzewodnikowe "klasy

kosmicznej" posiadające wszystkie

z wymienionych poniżej cech chara kterystycznych

1. Reakcja szczytowa w paśmie fal

o długości powyżej 10 nm, ale poniżej 300 nm; i

2. W zakresie fal o długości powyżej

400 nm reakcja słabsza niż 0,1% reakcji szczytowej;

b. Detektory półprzewodnikowe "klasy

kosmicznej" posiadające wszystkie

z wymienionych poniżej cech charakterystycznych

1. Reakcja szczytowa w zakresie dłu­

gości fal powyżej 900 nm, ale poni żej 1200 nm; oraz

2. "Stała czasowa" reakcji 95 ns lub

poniżej; lub

c. Detektory półprzewodnikowe "klasy

kosmicznej" posiadające reakcję

szczytową w zakresie długości fal

powyżej

1 200 nm, ale poniżej

30000 nm;

niż

35 m albo wyposażenie w regulowane lub demontowalne czujniki głębokości z przeznaczeniem do pracy na głębokościach

większych niż 35 m; lub

b. Możliwość montażu na zewnątrz

układów

zespołowych

i posiadanie zespołów czujników zdolnych do działania w zakresie 360 0 na głębokościach

większych niż 35 m;

e. Denne lub przybrzeżne układy kablowe mające jedną z poniższych cech

1. Obejmujące hydrofony z pozycji

6A001.a.2 .a.;

2. Obejmujące multipleksowane sygnały grup hydrofonów, przeznaczone do działania na głębokości

poniżej 35 m albo wyposażone

w regulowane lub demontowalne

czujniki głębokości, aby mogły

działać

na głębokości poniżej

35 m; lub

3. Wyposażenie w urządzenia przetwarzające , specjalnie przeznaczo- .

ne do kablowych układów dennych

lub

międzywręgowych,

2. Następujące lampy wzmacniające obrazy i specjalnie do nich przeznaczone elementy

a. Lampy wzmacniające obrazy posiadające wszystkie wymienione poniżej cechy charakterystyczne

1. Reakcja szczytowa w zakresie dłu­

gości fal powyżej 400 nm, ale poniżej 1 050 nm;

2. Elektroda mikrokanalikowa do

wzmacniania obrazów elektronicznych z otworkami w odstępach

umożliwiające "programowalność

dostępną dla użytkownika" oraz

przetwarzanie i korelację w dzie-

I

l

Poz. 915

5061

J

(odległość

pomiędzy

otworków)

trów; oraz

poniżej

ł

środkami

15 mikrome-

I

-

5062-

Poz. 915

e. Polif/uorek winylidenu i je-

3. Następujące fotokatody

a. Fotokatoda S-20 i S-25 lub alkaliczne (wielopierwiastkowe)

o czułości świetlnej przekraczającej 240 /-tA/lm;

b. Fotokatoda GaAs lub GainAs; lub

c. Inne fotokatody półprzewodni­

kowe związków 111- V.

UWAGA: Pozycja 6A002.a.2.a.3.c.

nie obejmuje kontrolą zfożonych fotokatod

pófprzewodnikowych

o maksymalnej czufości promieniowania

10 mAlW lub mniejszej.

b. Następujące specjalnie opracowane

elementy

1. Elektrody mikrokanalikowe do

wzmacniania obrazów elektronicznych z otworkami w odstępach

(odległość

pomiędzy

3. Następujące, inne niż "klasy kosmicznej", "płaskie zespoły ogniskujące"

Uwaga techniczna

"Pfaskie zespofy ogniskujące" - to liniowe lub dwuwymiarowe wieloelementowe zespofy czujników.

UWAGI

1. Pozycja 6A002.a.3. obejmuje

kontrolą zespofy fotoprzewodzące i fotowoltaiczne.

2. Pozycja 6A002.a.3. nie obejmuje kontrolą krzemowych

"pfaskich zespofów ogniskujących ", wieloelementowych

(nie więcej niż 16 elementów)

komórek fotoelektrycznych

w obudowie ani detektorów

piroelektrycznych, w których

zastosowano jeden z nastę­

pujących związków

a. Siarczek ofowiu (//);

b. Siarczan triglicyny i jego

odmiany;

c. Tytanian ofowiu-Iantanu-cyrkonu i odmiany;

d. Tantalan litu;

•

zespoły

l

ogniskujące"

posiadające

jedną z wymienionych poniżej cech

charakterystycznych

1. Reakcja szczytowa poszczególnych

elementów w zakresie długości fal

z przedziału powyżej 900 nm, ale

poniżej 1 050 nm; oraz

2. "Stała czasowa" reakcji poniżej

0,5 ns;

b. Inne niż "klasy kosmicznej" "płaskie

zespoły

ogniskujące"

posiadające

jedną z wymienionych poniżej cech

cha rakterystycznych

1. Reakcja szczytowa poszczególnych

elementów w zakresie długości fal

z przedziału powyżej 1 050 nm, ale

poniżej 1 200 nm; oraz

2. "Stała czasowa" reakcji 95 ns lub

mniejsza; lub

c. Inne niż "klasy kosmicznej" "płaskie

środkami

otworków) poniżej 15 mikrometrów;

2. Fotokatody GaAs lub GainAs;

3. Inne fotokatody półprzewodniko­

we związków III-V.

UWAGA: Pozycja 6A002.a.2.b.3. nie

obejmuje kontrolą zfożo­

nych fotokatod pófprzewodnikowych o maksymalnej czufości promieniowania 10 mAlW lub

mniejszej.

ł

go odmiany;

f. Niobian strontu-baru i jego

odmiany; lub

g. Selenek ofowiu.

a. Inne niż "klasy kosmicznej" "płaskie

zespoły

ogniskujące"

reakcję

szczytową

posiadające

poszczególnych

elementów w zakresie długości fal

z przedziału powyżej 1 200 nm, ale

poniżej 30000 nm;

b. "Monospektralne czujniki obrazowe" i "wielospektralne czujniki obrazowe" przeznaczone do zdalnego wykrywania obiektów, posiadające jedną z wymienionych poniżej

cech charakterystycznych

1. Chwilowe pole widzenia (lFOV) poniżej

200 mikroradianów; lub

2. Przeznaczenie do działania w zakresie fal

o długości powyżej 400 nm, ale poniżej

30000 nm oraz jednocześnie

a. Dostarczanie wyjściowych danych

obrazowych w postaci cyfrowej; oraz

b. Spełnianie jednego z warunków

1. Posiadanie "klasy kosmicznej";

lub

2. Przeznaczenie do zastosowań lotniczych i zaopatrzenie w czujniki

inne niż krzemowe oraz posiada jące IFOV poniżej 2,5 miliradianów;

c.

Urządzenia do bezpośredniego tworzenia

obrazów działające w zakresie promieniowania widzialnego lub podczerwonego wyposażone w jeden z następujących zespołów

1. Lampy do wzmacniania obrazów objęte

kontrolą według pozycji 6A002.a .2.; lub

2. "Płaskie zespoły ogniskujące" objęte

kontrolą według pozycji 6A002.a.3.;

,

I

-

50636A003 Kamery filmowe

Uwaga techniczna

N.B.: sprawdź także pozycję 6A203.

Termin "widzenie bezpośrednie" odnosi

się do urządzeń tworzących obrazy, dziatających w zakresie fal widzialnych albo podczerwonych i przedstawiających widzialny

N.B.: dla kamer specjalnie opracowanych lub

zmodyfikowanych do zastosowań podwodnych sprawdź także pozycje 8A002.d.

i 8A002.e.

dla cztowieka obraz bez jego przetwarzania

na sygnat elektroniczny przekazywany na

ekran telewizyjny, nie mogących zarejestrować albo przechować obrazu na drodze fotograficznej, elektronicznej albo jakiejkolwiek innej.

a. Następujące kamery rejestrujące

1. Bardzo szybkie kamery filmowe rejestrujące na błonie dowolnego formatu od

8 mm do 16 mm włącznie, w których

błona jest podczas rejestracji przesuwana w sposób ciągły, umożliwiające rejestrowanie obrazów z szybkościami powyżej 13150 klatek na sekundę;

UWAGA: Pozycja 6A 002. c. nie obejmuje

kontrolą następujących urządzeń

zaopatrzonych w fotokatody inne

niż z GaAs lub GaInAs

a. Przemystowych lub cywilnych

systemów alarmowych, systemów kontroli ruchu drogowego lub przemystowego ani systemów zliczających;

UWAGA: Pozycja 6A003.a. 1. nie obejmuje kontrolą filmowych kamer rejestrujących przeznaczonych do normalnego użyt­

ku cywilnego.

2. Bardzo szybkie kamery z napędem mechanicznym, bez przesuwu filmu, umoż­

liwiające rejestrację z szybkościami powyżej 1 000000 klatek na sekundę na całej szerokości błony 35 mm, lub z szybkościami proporcjonalnie większymi na

błonach o mniejszych formatach albo

z szybkościami proporcjonalnie mniejszymi na błonach o formatach więk­

szych;

b. Urządzeń medycznych;

c. Urządzeń przemystowych stosowanych do kontroli, sortowania lub analizy wtaściwości

ma teriatów;

d. Wykrywaczy ptomieni do pieców przemystowych;

e. Urządzeń specjalnie przeznaczonych do celów laboratoryjnych.

d. Następujące specjalne elementy pomocnicze do czujników optycznych

3. Mechaniczne lub elektryczne kamery

smugowe o szybkości zapisu powyżej

10 mm/ mikrosekundę;

1. Chłodnice kriogeniczne "klasy kosmicznej" ;

4. Elektroniczne kamery obrazowe o szybkości powyżej 1 000000 klatek na sekun dę;

2. Następujące chłodnice kriogeniczne nie

należące do "klasy kosmicznej", posiadające źródło chłodzenia o temperaturze poniżej 218 K (-55°C)

a. Pracujące w obiegu zamkniętym

i charakteryzujące się Średnim Czasem Do Awarii (MTTF) albo Średnim

Czasem Międzyawaryjnym (MTBF)

powyżej 2 500 godzin;

b. Samoregulujące się minichłodnice

Joula-Thomsona (JT) z otworkami

o średnicy (na zewnątrz) poniżej

8mm;

5. Kamery elektroniczne posiadające obie

z poniższych cech

a. Szybkość działania migawki elektronicznej (bramkowania) poniżej 1 mikrosekundy na pełną klatkę; oraz

b. Czas odczytu umożliwiający szybkość powyżej 125 pełnych klatek na

sekundę;

b. Następujące kamery obrazowe

UWAGA: Pozycja 6A 003. b. nie obejmuje

kontrolą

kamer telewizyjnych

ani wideokamer przeznaczonych

specjalnie dla stacji telewizyjnych.

3. Czujnikowe włókna optyczne o specjalnym składzie albo konstrukcji, albo

zmodyfikowane techniką powlekania,

w celu nadania im właściwości umożli­

wiających reagowanie na fale akustyczne, promieniowanie termiczne, siły bezwładności, promieniowanie elektromagnetyczne lub jądrowe,

1. Wideokamery z czujnikami półprzewod­

nikowymi posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych

a. Powyżej 4 x 106 "aktywnych pikseli"

na półprzewodnikową siatkę dla kamer monochromatycznych (czarno-

e. "Płaskie zespoły ogniskujące" "klasy kosmicznej" mające więcej niż 2048 elementów na zespół i reakcję szczytową w paśmie

fal o długości powyżej 300 nm, ale poniżej

900 nm.

l

ł

- białych);

b. Powyżej 4 x 106 "aktywnych pikseli"

na półprzewodnikową siatkę dla ka-

I

I

-

mer kolorowych z trzema siatkami

półprzewodnikowymi; lub

c. Powyżej 12 x 106 "aktywnych pikseli"

na półprzewodnikową siatkę dla kamer kolorowych z jedną siatką pół­

przewodnikową;

2. Kamery skaningowe i systemy kamer

skaningowych posiadające obie z poniż­

szych właściwości

a. Liniowe siatki detekcyjne posiadają­

ce powyżej 8192 elementów na siatkę; i

b. Mechaniczne przeszukiwanie w jednym kierunku;

3. Kamery obrazowe wyposażone we

wzmacniacze obrazów wymienione w

pozycji 6A002.a.2.a.;

4. Kamery obrazowe wyposażone w pła ­

skie siatki ogniskujące wymienione w

pozycji 6A002.a.3.;

UWAGA: Kamery specjalnie przeznaczone albo

zmodyfikowane z przeznaczeniem do

pracy pod wodą ujęto w pozycjach

BA002.d. i BA002.e.

6A004 Elementy optyczne

a. Następujące zwierciadła optyczne (reflektory)

1. "Zwierciadła odkształcalne" o powierzchni ciągłej lub wieloelementowej oraz

specjalnie do nich przeznaczone elementy, mające możliwość dynamicznej

zmiany położenia części powierzchni

zwierciadła

z szybkością powyżej

100 Hz;

c.

Następujące elementy " klasy kosmicznej"

do systemów optycznych

1. O "gęstości zastępczej" obniżonej o 20%

w porównaniu z półwyrobem o takiej

samej aperturze i grubości ;

2. Podłoża, podłoża powlekane powierzchniowo (z powłoką jednowarstwową lub

wielowarstwową, metaliczną lub dielektryczną, przewodząc ą, półprzewodzącą

lub izolującą ) lub pokryte błoną och ronną;

3. Segmenty lub zespoły zwierciadeł przeznaczone do monta ż u z nich w przestrzeni kosmicznej systemów optycznych, mające sumaryczną aperturę równoważną lub większ ą niż pojedynczy

element optyczny o średnicy 1 metra;

4. Wykonane z materiałów "kompozytowych" o współczynniku lin iowej rozszerzalności term icznej w kierunku dowolnej współrzędnej równym lub mniejszym niż 5 x 10- 6 ;

d. Następujące urządzenia do sterowania elementami optycznymi

·1. Urządzenia specjalnie przeznaczone do

utrzymywania kształtu lub orientacji powierzchni elementów "klasy kosmicznej" objętych kontrolą według pozycji

6A004.c.1. lub 6A004.c.3.;

2. Urządzenia posiadające pasmo sterowa nia, śledzenia, stabilizacji lub strojenia

rezonatora o szerokości równej lub

większej niż 100 Hz oraz dokładność

10 mikroradianów lub lepszą;

1. Objętość powyżej 100 cm 3 ; lub

3. Zawieszenia kardanowe mające wszystkie z wymienionych poniżej cech charakterystycznych

a. Maksymalny kąt wychylenia powyżej 5°;

b. Szerokość pasma równą lub większą

niż 100 Hz;

c. Możliwość ustawiania kątowego

z dokładnością równą lub lepszą niż

200 mikroradianów; oraz

d. Jeden z wym ienionych poniżej parametrów

1. Średnicę lub długość osi głównej

powyżej 0,15 m, ale nie większą niż

1 m, i możliwość zmiany położenia

kątowego z przyspieszeniami powyżej 2 radianów/s 2 ; lub

2. Średnicę lub długość osi głównej

powyżej 1 m i możliwość zmiany

położenia kątowego z przyspieszeniami powyżej 0,5 radianów/s 2 ;

oraz

2. Średnicę lub długość osi głównej powyżej 80 mm oraz grubość (głębokość) powyżej 20 mm;

4. Urządzenia specjalnie przeznaczone do

utrzymywania w odpowiednim położe­

niu systemów układów fazowanych lub

2. Lekkie zwierciadła monolityczne o przeciętnej

"gęstości

zastępczej"

poniżej

30 kg/m 2 i masie całkowitej powyżej 10 kg;

3. Lekkie konstrukcje zwierciadlane z materiałów "kompozytowych" lub spienionych o przeciętnej "gęstości zastępczej"

poniżej 30 kg/m 2 i masie całkowitej powyżej 2 kg;

4. Zwierciadła do kierowania wiązką, mają­

ce średnicę albo długość osi głównej

powyżej 100 mm, zachowujące płaskość

rzędu lambda/2 lub lepszą (lambda jest

równe 633 nm) i sterowane wiązką

o szerokości pasma powyżej 100 Hz;

b. Elementy optyczne z selenku cynku (ZnSe)

lub siarczku cynku (ZnS) z możliwością

transmisji w zakresie długości fal powyżej

3000 nm, ale poniżej 25000 nm i posiadają­

ce jedną z wymienionych poniżej cech cha rakterystycznych

I

Poz. 915

5064-

I

ł

I

-

5067 -

Poz. 915

ściową o długości powyżej 1 000 nm,

ale nie dłuższą niż 1 100 nm;

2. Przeciętną moc wyjściową powyżej 2 kW;

domieszką

4. "Lasery" o wzbudzeniu ciągłym posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych

a. Wyjście w trybie pojedynczego

przejścia poprzecznego oraz jeden

z poniższych parametrów

1. "Moc szczytową" powyżej

500 kW; lub

2. Przeciętną lub ciągłą (eW) moc

wyjściową powyżej 150 W; lub

b. Wyjście w trybie wielokrotnego

przejścia poprzecznego oraz jeden z poniższych parametrów

1. "Moc szczytową" powyżej

1 MW; lub

2. Przeciętną lub ciągłą (eW) moc

wyjściową powyżej 500 W;

c. Inne "lasery" nieprzestrajalne posiadające jedną z wymienionych

pan iżej cech

charakterystycznych

1. Długość fali wyJsclowej poniżej 150 nm oraz jeden z poniż­

szych parametrów

a. Energię wyjściową powyżej

50 mJ na impuls i "moc

szczytową" impulsu powyżej 1 W; lub

b. Przeciętną albo ciągłą (eW)

moc wyjściową powyżej

1 W;

2. Długość fali wyjściowej 150 nm

lub więcej, ale nie powyżej

800 nm, oraz jeden z poniż­

szych parametrów

a. Energię wyjściową powyżej

1,5 J na impuls i "moc

szczytową" impulsu powyżej 30 W; lub

b. Przeciętną albo ciągłą (eW)

moc wyjściową powyżej

30 W;

3. Następujące lasery o długości

fali wyjściowej powyżej 800 nm,

ale nie powyżej 1 400 nm

a. "Lasery modulowane dobrocią" o następujących parametrach

1. Energię wyjściową powyżej 0,5 J na impuls

i "moc szczytową" impulsu powyżej 50 W; lub

2. Przeciętną moc wyjścio ­

UWAGA: " Lasery"

z

neodymową

(inną

niż

szkfo), o dfugościach fali

wyjściowej nie większych

niż 1000 nm lub powyżej

1 100 nm ujęto w pozycji

6A005.c.2.c.

1. Wzbudzane impulsowo, z blokadą

trybu działania, "lasery modulowane dobrocią" o "szerokości impulsu" poniżej 1 ns oraz mające

jeden z poniższych parametrów

a. "Moc szczytową"

powyżej

5 GW;

b. Przeciętną moc wyjściową powyżej 10 W; lub

c. Energię impulsu powyżej 0,1 J;

2. Wzbudzane impulsowo "lasery

modulowane dobrocią" o "szerokości impulsu" równej albo więk­

szej niż 1 ns oraz mające jeden

z poniższych parametrów

a. Sygnał wyjściowy w trybie pojedynczego przejścia poprzecznego mający

1. "Moc szczytową" powyżej

100 MW;

2. Przeciętną moc wyjściową

powyżej 20 W; lub

3 . Energię impulsu powyżej

2 J; lub

b. Sygnał wyjściowy w trybie

wielokrotnego przejścia poprzecznego mający

1. "Moc szczytową" powyżej

400 MW;

2. Przeciętną moc wyjściową

powyżej 2 kW; lub

3. Energię impulsu powyżej

2 J;

3. Wzbudzane impulsowo "lasery innego typu niż modulowane dobrocią",

posiadające jedną z wymienionych

poniżej cech charakterystycznych

a. Wyjście w trybie pojedynczego

przejścia poprzecznego oraz jeden

z poniższych parametrów

1. "Moc szczytową"

powyżej

500 kW; lub

2. Przeciętną moc wyjściową powyżej 150 W; lub

b. Wyjście w trybie wielokrotnego

przejścia poprzecznego oraz jeden z poniższych parametrów

1. "Moc szczytową"

1 MW; lub

l

ł

wą powyżej

a. Dla "laserów" pracu jących w trybie pojedynczym 10 W;

powyżej

l

l

-

5068 -

b. Dla "laserów" pracu jących w trybie wielokrotnym 30 W;

b. "Lasery nie modulowane

dobrocią" o następujących

pa ra metrach

1. Energia wyjściowa powyżej 2 J na impuls i "moc

szczytowa " impulsu powyżej 50 W; lub

2. Przeciętna lub ciągła

(eW) moc wyjściowa powyżej 50 W; lub

4. Długość fali powyżej 1 400 nm

oraz jeden z poniższych parametrów

a. Energia wyjściowa powyżej

100 mJ na impuls i " moc

szczytowa " impulsu powyżej 1 W; lub

b. Przeciętna albo ciągła (eW)

moc wyjściowa powyżej

1 W;

d. "Lasery" barwnikowe i inne cieczowe, posiadające jedną z wymienionych poniżej cech

c h a ra kte rystycznych

1. Długość fali wyjściowej pon i żej 150 nm

ora z

a. Energia wyjściowa powyżej 50 mJ na

impuls i " moc szczytowa impulsu "

powyżej 1 W; lub

b. Przeciętna albo ciągła (eW) moc wyj ściowa powyżej 1 W;

2. Długość fali 150 nm lub więcej, ale nie

powyżej 800 nm, oraz jeden z poniż­

szych parametrów

a. Energia wyjściowa powyżej 1,5 J na

impuls i " moc szczytowa" impulsu

powyżej 20 W; lub

b. Przeciętna lub ciągła (eW) moc wyjśc i owa powyżej 20 W; lub

c. Impulsowy pojedynczy oscylator podłużny o przeciętnej mocy wyjścio­

wej powyżej 1 W i częstotliwości powtarzania impulsów 1 kHz, w przypadku gdy " szerokość impulsu" wynosi poniżej 100 ns;

3. Długość fali powyżej 800 nm , ale nie

więcej niż 1 400 nm, oraz jeden z poniż­

szych parametrów

a. Energia wyjściowa powyżej 0,5 J na

impuls i "moc szczytowa" impulsu

powyżej 10 W; lub

b. Przeciętna albo ciągła (eW) moc wyj ściowa powyżej 10 W; lub

4. Długość fali powyżej 1 400 nm oraz jeden z poniższych parametrów

J

J

Poz. 915

a. Energia wyjściowa powyżej 100 mJ

na impuls i " moc szczytowa" impulsu powyżej 1 W; lub

b. Przeciętna albo ciągła (eW) moc wyjściowa powyżej 1 W;

e. Następujące elementy

1. Zwierciadła chłodzone czynnie albo za

pomocą termicznej chłodnicy rurkowej;

Uwaga techniczna

Chfodzenie czynne jest techniką chfodzenia elementów optycznych za pomocą cieczy przepfywającej pomiędzy powierzchnią optyczną a dodatkową (zazwyczaj znajdującą się w odlegfości poniżej 1 mm od powierzchni optycznej),

wskutek czego następuje odprowadzenie ciepfa z powierzchni optycznej.

2. Zwierciadła optyczne albo przepuszczalne lub częściowo przepuszczalne elementy optyczne lub elektrooptyczne

specjalnie przeznaczone do "laserów"

objętych kontrolą;

f. Następujące urządzenia optyczne

(Odnośnie do elementów optycznych dla

dzielonej apertury, zdolnych do pracy w " Laserach superwysokiej mocy" sprawdź także

Listę uzbrojenia)

1. Dynamiczne urządzenia pomiarowe do

czoła fali (faza) umożliwiające mapowanie co najmniej 50 położeń na czole

wiązki falowej charakteryzujące się następującymi parametrami

a. Szybkość analizy obrazów równa lub

wyższa niż 100 Hz oraz dyskryminacja fazy co najmniej na 5 % długości

fali wiązki; lub

b. Szybkość analizy obrazów równa lub

wyższa niż 1 000 Hz i dyskryminacja

fazy co najmniej na 20 % długości fali wiązki;

urządzenia diagnostyczne

umożliwiające pomiar błędów sterowa-

2. "Laserowe"

nia położeniem kątowym "Systemów

Laserowych Bardzo Wysokiej Mocy"

(SHPL) z dokładnością równą lub lepszą

niż 10 mikroradianów;

3. Urządzenia optyczne, zespoły lub elementy specjalnie przeznaczone do systemów " SHPL" w formie zespołów fazowanych w celu sterowania wiązkami koherentnymi z dokładnością Lambda/1O

dla określonej długości fali, lub 0,1 mikrometra, w zależności od tego, która

z tych wielkości jest mniejsza;

4. Teleskopy projekcyjne specjalnie przeznaczone do systemów SHPL.

6A006 Następujące " magnetometry " , "mierniki gradientu magnetycznego", "mierniki gradientu

ł

I -

-

5075 -

Poz. 915

w przedziale częstotliwości

od 15 do 1000 Hz; oraz

b. Gęstość widmowa mocy

malejąca od 0,04 g 21Hz do

0,01 g2/ Hz w przedziale czę­

stotliwości

od 1000 do

2000 Hz; lub

a. "Stabilność" "wychylenia wstępnego" poni żej (lepszą niż) 130 mikro g względem ustalonej wartości wzorcowej w okresie jednego

roku;

b. "Stabilność" "współczynnika skalowania"

poniżej (lepszą niż) 130 ppm względem ustalonej wartości wzorcowej w okresie jednego

roku;

2. Przechylenie i odchylenie równe lub większe niż +2,62 radian/s (150 deg/s); lub

c. Przeznaczone do pracy przy przyspieszeniach na poziomie powyżej 100 g;

3. Stosownie do krajowych norm

7A002 Giroskopy posiadające jedną z wymienionych

poniżej cech charakterystycznych oraz specjal nie do nich przeznaczone podzespoły.

równoważnych

b. Przeznaczenie do działania w warunkach

przyspieszeń liniowych na poziomie powyżej 10 g;

N.B. sprawdź także pozycję 7A102.

a. "Stabilność" "pełzania zera", mierzona

w warunkach przyspieszenia równego

1 g w okresie trzech miesięcy i w odniesieniu do ustalonej wartości wzorcowej, wyno-

UWAGA: Pozycja 7A003 nie obejmuje kontrolą systemów nawigacyjnych,

które mają certyfikat zezwalający

na ich użycie w "samolotach cywilnych", wydany przez cywilne

wfadze "państwa uczestniczące­

go".

sząca

1. Poniżej (lepsza niż) 0,1 0 na godzinę

w przypadku przeznaczenia do ciągłego

działania w warunkach przyspieszenia

liniowego poniżej 10 g; lub

2. Poniżej (lepsza niż) 0,5 0 na godzinę

w przypadku przeznaczenia do ciągłego

działania w warunkach przyspieszenia

liniowego od 10 g do 100 g włącznie;

b. Przeznaczone do działania w warunkach

przyspieszeń liniowych o wartościach na

poziomie powyżej 100 g.

7A003 Inercyjne systemy nawigacji (z zawieszeniem

kardanowym lub innym) i urządzenia bezwład­

nościowe, przeznaczone dla "samolotów", pojazdów lądowych i "statków kosmicznych" do

pomiarów wysokości, naprowadzania lub sterowania oraz specjalnie do nich przeznaczone

podzespoły, posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych

N.B. sprawdź także pozycję 7A103.

a. Błąd nawigacji (inercja swobodna) po prawidłowej regulacji, wynoszący 0,8 (lub mniej)

mili morskiej na godzinę [Koło Równego

Prawdopodobieństwa (CEP) = 50 %1;

UWAGA: Parametry pozycji 7A003.a. są stosowane wraz z jednym z poniż­

szych warunków środowisko­

wych

1. Wyjściowe drganie przypadkowe o cafkowitej wielkości śred­

niej kwadratowej 7,7 g przez

pierwsze póf godziny oraz

ogólny czas trwania testu

1,5 godziny na każdą z trzech

prostopadfych osi, gdy drgania

przypadkowe spefniają nastę­

pujące warunki

a. Stała gęstość widmowa

mocy o wartości 0,04 g2/Hz

powyższym

warunkom 1. i 2.

7A004 Giroastrokompasy, I Inne urządzenia umożli­

wiające określanie położenia lub orientację

przestrzenną za pomocą automatycznego śle­

dzenia ciał niebieskich lub satelitów, o dokład­

ności azymutowej równej lub większej (lepszej)

niż 5 sekund łuku.

N.B.: sprawdź także pozycję 7A104.

7A005

Urządzenia odbiorcze globalnych satelitarnych

systemów nawigacji (np. GPS lub GLONASS)

posiadające jedną z wymienionych poniżej

cech charakterystycznych oraz specjalnie do

nich przeznaczone podzespoły

N.B.: sprawdź także pozycję 7A105.

a. wyposażenie w systemy dekodujące; lub

b. wyposażenie w samoczynnie nastawne anteny;

7A006 Wysokościomierze lotnicze działające poza pasmem częstotliwości od 4,2 do 4,4 GHz włącz­

nie, posiadające jedną z wymienionych poniżej

cech charakterystycznych

N.B.: sprawdź także pozycję 7A106.

a. "Sterowana moc"; lub

b. Wyposażenie w zespoły do modulacji z przesunięciem fazy.

7A007 Urządzenia do wyszukiwania kierun'<u działają­

ce przy częstościach powyżej 30 MHz, mające

wszystkie poniższe cechy charakterystyczne

oraz specjalnie do nich przeznaczone części

a. "Chwilową szerokość pasma" wynoszącą

1 MHz lub więcej;

b. Równoległe przetwarzanie więcej niż 100 kanałów częstotliwościowych; oraz

c.

-

Szybkość przetwarzania większą niż 1000

znalezionych kierunków na sekundę i na ka-

nionych w pozycji 7A005, umożliwiające uzyskanie informacji nawigacyjnych w podanych

poniżej warunkach roboczych, oraz przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do

stosowania w kosmicznych pojazdach nośnych

wymienionych w pozycji 9A0041ub w rakietach

meteorologicznych wymienionych w pozycji

9Al04

nał częstotliwościowy.

7A101 Akcelerometry, różne od wymienionych w pozycji 7A001, o wartości progowej 0,05 g lub

mniejszej, lub błędzie liniowości w granicach

0,25% pełnego zakresu pomiarowego, lub obu,

przeznaczone do stosowania w inercyjnych

systemach nawigacyjnych lub w dowolnego

typu systemach naprowadzania oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły.

UWAGA: Pozycja 7A 101 nie dotyczy akcelerometrów specjalnie przeznaczonych

i opracowanych jako czujniki MWD

(Measurement While DriJling - pomiar podczas wiercenia) stosowanych podczas prac wiertniczych.

7A102 Wszystkie typy giroskopów, różne od wymienionych w pozycji 7A002, nadające się do stosowania w "pociskach rakietowych", o "stabil0

ności" "pełzania zera" poniżej 0,5 (1 sig ma lub

średnia kwadratowa) na godzinę w warunkach

przyspieszenia 1 g oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły.

7A103

Następujące instrumenty, urządzenia i systemy

nawigacyjne, różne od wymienionych w pozycji 7A003, oraz specjalnie do nich przeznaczone

a. w warunkach poruszania się z prędkościami

powyżej 515 m/s; oraz

b. na wysokościach powyżej 18 km.

7A106 Wysokościomierze, różne od wymienionych

w pozycji 7A006, typu radarowego lub laserowego, przeznaczone lub zmodyfikowane

z przeznaczeniem do stosowania w kosmicznych pojazdach nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub w rakietach meteorologicznych

wymienionych w pozycji 9Al04.

7A115 Pasywne czujniki do określania namiaru na

określone źródła fal elektromagnetycznych

(namierniki) lub właściwości terenu, przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do

stosowania w kosmicznych pojazdach nośnych

wymienionych w pozycji 9A0041ub w rakietach

meteorologicznych wymienionych w pozycji

9Al04.

UWAGA: Pozycja 7A 115 obejmuje czujniki do

podzespoły

następujących urządzeń

a. Urządzenia inercyjne lub inne, w których zastosowano akcelerometry lub giroskopy wymienione w pozycjach 7A001, 7A002, 7Al0l

lub 7A 102, oraz systemy, w których znajdują się urządzenia tego typu ;

a. do

UWAGA: Pozycja 7A 103.a. nie dotyczy urzą­

dzeń zawierających akcelerometry, wyspecyfikowane w pozycji

7AOO 1 oraz przeznaczone i opracowane jako czujniki MWD (Measurement While Dri/ling - pomiar podczas wiercenia) stosowane podczas prac wiertniczych.

b. Zintegrowane systemy samolotowych przyrządów pokładowych, zawierające stabilizatory giroskopowe lub automatycznego pilota, przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do' stosowania w kosmicznych

pojazdach nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub w rakietach meteorologicznych wymienionych w pozycji 9Al04.

7A104 Giroastrokompasy i inne urządzenia, różne od

wymienionych w pozycji 7A004, umożliwiające

określanie położenia lub orientację przestrzen ną za pomocą automatycznego śledzenia ciał

niebieskich lub satelitów oraz specjalnie do

nich przeznaczone podzespoły.

7A105

Poz. 915

5076-

Urządzenia odbiorcze Globalnego Satelitarnego Systemu Nawigacji (GPS) lub podobne satelitarne instalacje odbiorcze, różne od wymie-

zobrazowania

(mapowania)

rzeźby terenu;

b. do tworzenia obrazów (zobrazowania);

c. interferometry.

7A116

Następujące systemy sterowania lotem, przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do kosmicznych pojazdów nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub do rakiet meteorologicznych wymienionych w pozycji

9Al04

a. hydrauliczne, mechaniczne, elektrooptyczne, elektromechaniczne lub elektroniczne

systemy sterowania lotem (w tym systemy

typu "fly-by-wire");

b. urządzenia do sterowania wysokością.

7A117 "Instalacje do naprowadzania", znajdujące zastosowanie w "pociskach rakietowych", umoż­

liwiające

uzyskanie dokładności instalacji

3,33% zasięgu lub lepszej [np. "CEP" (Krąg

Równego Prawdopodobieństwa) 10 km lub

mniej w zasięgu 300 km] .

7B

Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

7B001

Urządzenia do testowania, wzorcowania lub

strojenia specjalnie przeznaczone do urządzeń

objętych kontrolą według pozycji 7A.

-

5079-

Poz. 915

6. Całkowicie autonomiczne cyfrowe systemy sterowania lotem lub wieloczujnikowe systemy kierowan ia realizacją zadań,

wyposażone w "systemy eksperckie" ;

N.B.: Dla "technologii" Całkowicie Autonomicznych Cyfrowych Systemów

Sterowania

Silnikami

(FADEC) sprawdź także pozycję

9E003.a.9.

\

sie rzeczywistym" z przeznaczeniem do

wprowadzania reguł sterowan ia;

2. Kompensacji reguł sterowania z uwzględ­

nieniem położenia czujników lub obcią­

żeń dynamicznych płatowca, tj. kompensacji z uwzględnieniem wibracji czujników lub zmian położenia czujników

względem środka ci ężkości;

3. Elektronicznego sterowania redundan cją danych lub redundancją systemów

w celu wykrywania błędów, tolerowania błędów, identyfikacji elementów

niesprawnych drogą eliminacji lub

zmiany konfiguracji;

UWAGA: Pozycja 7E004.b.3. nie obejmuje kontrolą "technologii "

do projektowania redundan cji fizycznej.

c.

1. Wieloosiowe systemy sterowan ia elektronicznego i światłowodowego , w których połączono funkcje co najmniej

dwóch z wymienionych poniżej systemów w jeden zespół sterowania

a. System sterowan ia skokiem ogólnym;

b. System sterowania skokiem okresowym łopat;

c. System kierowania odchyleniem kursowym;

4. Sterowania

lotem

umożliwiającego

przeprowadzenie w locie zmiany konfi guracji sterowania siłą i momentem

w celu autonomicznego sterowania pojazdem powietrznym w czasie rzeczywistym;

5. Integracji systemu sterowania cyfrowego, danych z systemu nawigacyjnego

i napędowego w jeden system cyfrowego kierowania lotem dla "kompleksowego sterowania lotem";

UWAGA: Pozycja 7E004.b.5. nie obejmuje kontrolą

1. " Rozwoju" " technologii"

integracji cyfrowych systemów sterowania lotem,

nawigacyjnych

danych

i danych kontrolnych uktadu napędowego do systemu cyfrowego kierowania

lotem w celu "optymalizacji toru lotu";

2. " Rozwoju" " technologii"

wytwarzania

samolotowych przyrządów kontroli

lotu, zintegrowanych wytącznie z systemami nawigacyjnymi i podchodzenia

do lądowania, takimi jak

VOR (radiolatarnia kierun kowa wysokiej częstotli­

wości),

DME (radio dalmierz), ILS (system lądo ­

wania na przyrządy) lub

MLS (mikrofalowy system

lądowania);

KATEGORIA S SA

Następujące "technologie" do " rozwoju"

systemów do śmigłowców

2. "Sterowane cyrkulacyjnie (opływowo)

systemy kompensacji momentu lub sterowania kierunkiem lotu ";

3. Łopaty wirnika z " profilami o zmiennej

geometrii" opracowane do systemów

umożliwiających niezależne sterowanie

poszczególnymi łopatam i.

7E101

"Technologie" według Uwagi Ogólnej do Technologii do " użytkowania " urządzeń wymienionych w pozycjach 7A001 do 7A006, 7Al0l do

7Al06, 7Al15 do 7Al17, 78002, 78003, 78102,

78103, 70101 do 70103.

7E102

Następujące "technologie " do ochrony podzespołów awioniki i elektrycznych przed impulsa-

mi elektromagnetycznym i (EMP) i grożbą zaelektromagnetycznych ze ż ródeł ze-

kłóceń

wnętrznych

a. "technologie" projektowania ekranowania;

b. "technologie" projektowania konfigurowania odpornych obwodów elektrycznych i podukładów;

c. "technologie" projektowania wyznaczania

kryteriów zabezpieczania w odniesieniu do

technologii wymienionych powyżej w pozycjach a. i b.

7E104 " Technologie" scalania danych z systemów

sterowania lotem, naprowadzania i napędu

w system zarządzania lotem w celu optymalizacji toru lotu rakiet.

URZĄDZENIA OKRĘTOWE

Systemy, urządzenia i części

SA001 Następujące pływające jednostki podwodne

lub nawodne

UWAGA: Status kontroli urządzeń do pojazdów podwodnych podano w nastę­

pujących pozycjach

-

Kategoria 5"Ochrona

w zakresie

urządzeń

5080-

Informacji"

szyfrujących

komunikacyj-

nych;

Kategoria 6 w zakresie czujników;

Kategoria 7 i B w zakresie urządzeń

nawigacyjnych;

Kategoria B.A. w zakresie urządzeń

podwodnych.

a.

Załogowe pojazdy podwodne na uwięzi

przeznaczone do działania na głębokościach

większych niż 1 000 m;

b. Załogowe, autonomiczne pojazdy podwodne posiadające jedną z poniższych cech

1. Przeznaczenie do "działań autonomicznych" i nośność stanowiącą jednocześnie

a. 10% lub więcej ich wagi w powietrzu;

oraz

b. 15 kN lub więcej;

2. Przeznaczenie do działania na głęboko­

ściach większych niż 1 000 m; lub

3. Posiadanie

wszystkich

następujących

właściwości

a. Przeznaczenie dla załogi czteroosobowej lub liczniejszej;

b. Przeznaczenie do "autonomicznego

działania" przez 10 lub więcej godzin;

c. "Zasięg" 25 lub więcej mil morskich;

oraz

d. Długość 21 m lub mniejszą;

Uwagi techniczne

1. Dla potrzeb pozycji BADD1.b. termin

"dziatanie autonomiczne" dotyczy dziatań prowadzonych przez pojazd podwodny (posiadający uktad napędowy

pracujący pod wodą albo nad wodą)

w cafkowitym zanurzeniu, bez chrap,

przy wszystkich systemach pracujących

i krążenia z minimalną prędkością, przy

której pojazd podwodny może bezpiecznie regulować dynamicznie gtębokość

zanurzenia za pomocą wytącznie sterów

gtębokości, bez korzystania z pomocy

nawodnej jednostki ptywającej, ani bazy

nawodnej, na dnie lub brzegu morza.

2. Dla potrzeb pozycji BADD1.b. "zasięg"

oznacza potowę maksymalnego dystansu, jaki pojazd podwodny może poko-

Poz. 915

objętych

kontrolą

według

pozycji

8A002.a.2; lub

2. Światłowodowe kanały przesyłania danych;

d. Bezzałogowe pojazdy podwodne bez uwięzi

(swobodne), posiadające jedną z poniższych

cech charakterystycznych

1. Możliwość decydowania o kursie wzglę­

dem dowolnego systemu geograficznego bez bieżącej (w czasie rzeczywistym)

pomocy człowieka;

2. Wyposażenie w akustyczne kanały przesyłania danych lub poleceń; lub

3. Wyposażenie w dłuższe niż 1000 m świa­

tłowodowe kanały przesyłania danych

lub poleceń;

e. Oceaniczne urządzenia ratownicze o nośno­

ści powyżej 5 MN przeznaczone do ratowania obiektów z głębokości większych niż

250 m i mające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych

1. Dynamiczne systemy ustalania położe­

nia zdolne do utrzymania położenia

z dokładnością do 20 m względem danego punktu za pomocą systemu nawigacyjnego; lub

2. Systemy nawigacyjne działające wzglę­

dem dna morza i zintegrowane systemy

nawigacyjne przeznaczone do działania

na głębokościach większych niż 1 000 m,

umożliwiające utrzymywanie położenia

względem danego punktu z dokładno­

ścią do 10 m;

f. Pojazdy na poduszce powietrznej (odmiana

z pełnym fartuchem bocznym), mające

wszystkie wymienione poniżej cechy charakterystyczne

1. Maksymalną prędkość projektową z peł­

nym obciążeniem przekraczającą 30 wę­

złów przy falach o wysokości 1,25 m (stan

morza 3) lub wyższej;

2. Ciśnienie powietrza w poduszce powyżej

3 830 Pa; oraz

3. Stosunek masy pustej jednostki pływają­

cej do całkowicie obciążonej poniżej 0,7;

g. Pojazdy na poduszce powietrznej (odmiana

ze sztywnymi burtami) o maksymalnej pręd­

kości obliczeniowej z pełnym obciążeniem

powyżej 40 węzłów przy falach o wysokości

3,25 m (stan morza 5) lub większej;

c. Bezzałogowe pojazdy podwodne na uwięzi

przeznaczone do działania na głębokościach

większych niż 1 000 m, posiadające jedną

z poniższych cech charakterystycznych

h. Wodoloty wyposażone w aktywne systemy

automatycznego sterowania położeniem

płatów nośnych, o maksymalnej prędkości

obliczeniowej z pełnym obciążeniem równej

lub wyższej od 40 węzłów przy falach o wysokości 3,25 m (stan morza 5)lub większej;

1. Przeznaczenie do manewrowania z wła­

snym napędem za pomocą silników napędowych lub silników odrzutowych

i. Jednostki pływające o małym polu przekroju

wodnicowego mające jedną z poniższych

cech charakterystycznych

nać.

-

1. Wyporność z pełnym obciążeniem powyżej 500 ton i maksymalną prędkość

obliczeniową z pełnym obciążeniem powyżej 35 węzłów przy falach o wysokości 3,25 m (stan morza 5) lub większej;

lub

2. Wyporność z pełnym obciążeniem powyżej 1 500 ton i maksymalną prędkość

obliczeniową z pełnym obciążeniem powyżej 25 węzłów przy falach o wysokości 4 m (stan morza 6) lub większej;

Uwaga techniczna

o matym polu przekroju wodnicowego definiuje się wedtug

następującego wzoru: pole przekroju wodnicowego przy konstrukcyjnym zanurzeniu

eksploatacyjnym mniejsze od 2 x (wyparta

objętość przy konstrukcyjnym zanurzeniu

eksploatacyjnymj2/3.

Jednostkę ptywającą

8A002

Następujące układy lub urządzenia

UWAGA: Podwodne instalacje telekomunikacyjne przedstawiono w Kategorii 5

Część 1 - Telekomunikacja.

a. Następujące systemy i urządzenia, specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do pojazdów podwodnych,

przeznaczone do działania na głębokościach

większych niż 1 000 m

1. Obudowy clsmeniowe lub kadłuby

sztywne o maksymalnej średnicy wewnętrznej komory powyżej 1,5 m;

2. Silniki napędowe na prąd stały lub silniki odrzutowe;

3. Kable startowe i łączniki do nich, na bazie włókien optycznych i zaopatrzone

w syntetyczne elementy wzmacniające;

b. Systemy specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do automatycznego sterowania ruchem urządzeń do

pojazdów podwodnych objętych kontrolą

według pozycji 8A001, korzystające z danych nawigacyjnych i wyposażone w serwomechanizmy sterujące ze sprzężeniem

zwrotnym w celu umożliwienia pojazdowi

1. Poruszania się w słupie wody w zasięgu

10 m od ściśle określonego punktu;

2. Utrzymania położenia w słupie wody

w zasięgu 10 m od określonego punktu;

lub

3. Utrzymania położenia w zasięgu do

10 m od kabla leżącego na dnie albo

znajdującego się pod dnem morza;

c. Penetratory światłowodowe do

lub łączniki;

kadłubów

d. Następujące podwodne systemy wizyjne

1. Następujące systemy i kamery telewizyjne

Poz. 915

a. Instalacje telewizyjne (składające się

z kamery, świateł, urządzeń monitorujących i do przesyłania sygnałów)

o rozdzielczości granicznej mierzonej

w powietrzu powyżej 800 linii i specjalnie przeznaczone albo zmodyfikowane w taki sposób, że można nimi zdalnie sterować z pojazdów podwodnych;

b. Podwodne kamery telewizyjne o rozdzielczości

granicznej mierzonej

w powietrzu powyżej 1100 linii;

c. Bardzo czułe kamery telewizyjne

(działające przy słabym oświetleniu)

. specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do działania pod wodą, wyposażone w oba

poniżej wymienione elementy

1. Lampy do wzmacniania obrazów

wymienione w pozycji 6A002.a.2;

oraz

2. Siatki na elementach półprzewod­

nikowych z ponad 150 000 "aktywnych pikseli";

Uwaga techniczna

W telewizji rozdzielczość graniczna jest

miarą rozdzielczości poziomej, wyraża­

nej zazwyczaj jako maksymalna liczba

linii mieszcząca się w wysokości obrazu, rozróżnianych na karcie testowej,

określana wedtug normy IEEE 208/1960

lub dowolnej normy stanowiącej jej odpowiednik.

2. Systemy, specjalnie przeznaczone lub

zmodyfikowane z przeznaczeniem do

zdalnego kierowania z pojazdu podwodnego, w których zastosowano techniki

umożliwiające minimalizację zjawiska

rozpraszania wstecznego, włącznie z iluminatorami o regulowanym zakresie

lub systemami "laserowymi";

e. Aparaty fotograficzne specjalnie przeznaczone albo zmodyfikowane z przeznaczeniem

do stosowania pod wodą, na głębokościach

poniżej 150 m, na błony filmowe formatu

35 mm lub większego, mające jedną z poniż­

szych cech

1. Możliwość zapisu na błonie komentarza

w postaci danych ze źródła zewnętrzne­

go względem aparatu fotograficznego;

2. Mechanizm do automatycznego korygowania ogniskowej; lub

3. System

automatycznego sterowania

o specjalnej konstrukcji

umożliwiającej wykorzystanie obudowy

kamery podwodnej na głębokościach

większych niż 1 000 m;

kompensacją

f. Elektroniczne systemy tworzenia obrazów,

specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania pod wo-

-

5082-

dą, mające możliwość zapamiętan i a w postaci cyfrowej ponad 50 naświetlonych obrazów;

g. Następujące instalacje oświetleniowe, specjalnie przeznaczone albo zmodyfikowane

z przeznaczeniem do stosowania pod wodą

1. Stroboskopowe instalacje oświetlenio ­

we o energii strumienia świetlnego powyżej 300 J na jeden błysk i o szybkości

powtarzania większej niż 5 błysków na

sekundę ;

2. Instalacje oświetleniowe, w których

światło wytwarza łuk argonowy, specjalnie przeznaczone do działania na

głębokościach większych niż 1 000 m;

h. "Roboty" (manipulatory) specjalnie przeznaczone do pracy pod wodą, zarządzane za pomocą dedykowanego komputera "ze sterowaniem zaprogramowanym w pamięci" ,

mające jedną z poniższych cech

1. Wyposażenie w układy sterujące " robotem" dzięki informacjom z czujników

mierzących siły lub momenty działające

na obiekty zewnętrzne albo odległość

do zewnętrznego obiektu, lub czujników

dotykowych " robota " wyczuwających

obiekt zewnętrzny; lub

2. Możliwość działania z siłą 250 N lub

większą albo momentem 250 Nm lub

większym , i do których budowy zastosowano stopy na osnowie tytanowej albo

materiały " kompozytowe" na osnowie

"włókien lub włókienek";

i. Zdalnie sterowane manipulatory przegubowe specjalnie przeznaczone albo zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania

w pojazdach podwodnych i posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych

1. Wyposażenie w układy sterujące ruchem

manipulatora na podstawie informacji

z czujników mierzących moment lub si łę działającą na obiekt zewnętrzny albo

z czujników dotykowych wyczuwają­

cych dotyk manipulatora do obiektu zewnętrznego ; lub

2. Sterowanie na zasadzie proporcjonalnego odtwarzania ruchów operat ora albo

za pomocą komputera "ze sterowaniem

zaprogramowanym w pamięci" oraz

posiadanie 5 lub więcej stopni swobody

ruchu;

UWAGA: Przy określaniu liczby stopni

swobody ruchu bierze się pod

uwagę wyfącznie te funkcje,

w których wykorzystywane

jest sterowanie proporcjonalne z pozycyjnym sprzężeniem

zwrotnym lub sterowanie za

pomocą dedykowanego komputera "ze sterowaniem za-

Poz. 915

programowanym w

ci ".

j.

Następujące

układy

napędowe

pamię­

niezależne

od dopływu powietrza, specjalnie przeznaczone do działania pod wodą

1. N iezależne od powietrza systemy napę­

dowe z silnikami pracującymi według

obiegu Braytona (Joula) lub Rankina,

wyposażone w jeden z wymienionych

poniżej układów

a. Chemiczne układy oczyszczające lub

absorpcyjne, specjalnie przeznaczone do usuwania dwutlenku węgla,

tlenku węgla i cząstek stałych zawieszonych w gazie wydechowym z silnika pracującego w obiegu z recyrkulacją;

b. Specjalne układy przystosowane do

pracy na gazach jednoatomowych;

c. Urządzenia lub obudowy specjalnie

przeznaczone do tłumienia pod wodą szumów o częstotliwościach poniżej 10 kHz, lub specjalne urządze­

nia mocujące , osłabiające skutki

wstrząsów ; lub

d. Układy specjalnie przeznaczone do

1. Prasowania produktów reakcji albo do regeneracji paliw;

2. Składowania produktów reakcji ;

oraz

3. Usuwania

produktów

reakcji

w warunkach ciśnienia zewnętrz­

nego 100 kPa lub większego;

2. Niezależne od powietrza systemy napę­

dowe z silnikami wysokoprężnymi

(obieg Diesla) wyposażone w jeden

z wymienionych poniżej układów

a. Chemiczne układy oczyszczające lub

absorpcyjne, specjalnie przeznaczone do usuwania dwutlenku węgla ,

tlenku węgla i cząstek stałych zawieszonych w gazie wydechowym z silnika pracującego w obiegu z recyrkulacją ;

b. Specjalne układy przystosowane do

pracy na gazach jednoatomowych;

c. Urządzenia lub obudowy specjalnie

przeznaczone do tłumienia pod wodą szumów o częstotliwościach poniżej 10 kHz, lub specjalne urządze­

nia mocujące osłabiające skutki

wstrząsów; lub

d. Specjalne układy wydechowe o nieciągłym odprowadzaniu produktów

spalania;

3. Niezależne od powietrza układy energetyczne na ogniwach paliwowych o mocy powyżej 2 kW, wyposażone w jeden

z wymienionych pon i żej układów

-

5083-

a. Urządzenia lub obudowy spl3cjalnie

przeznaczone do tłumienia pod wodą szumów o częstotliwościach poniżej 10 kHz, lub specjalne urz ądze ­

nia mocujące, osłabiające skutki

wstrząsów ; lub

b. Układy specjalnie przeznaczone do

1. Prasowania produktów reakcji al bo do regeneracji paliw;

2. Składowania produktów reakcji;

oraz

3. Usuwania

produktów

reakcji

w warunkach ciśnienia zewnętrz­

nego 100 kPa lub większego;

4. Niezależne od powietrza systemy napę ­

dowe z silnikami pracującymi według

obiegu Stirlinga, wyposażone we

wszystkie z poniższych układów

a. Urządzeni a lub obudowy specjalnie

przeznaczone do tłumienia pod wodą szumów o częstotliwościach poniżej 10 Hz, lub specjalne urządzenia

mocujące , osłabiające skutki wstrzą­

sów; oraz

b. Specjalne układy wydechowe do

usuwania produktów spalania w warunkach

clsnlenia zewnętrznego

100 kPa lu b większego;

k. Następujące fartuchy boczne poduszkowców, uszczelnienia i inne elementy montażo ­

we

1. Wytrzymałe na ciśnien i a w poduszce powietrznej 3 830 Pa lub wyższe, działają', ­

ce przy falach o wysokości 1,25 m (stan

morza 3) lub większej i specjalnie prze znaczone do pojazdów na poduszce powietrznej (odmiana z pełnym fartuchem

bocznym) objętych kontrolą według pozycji 8A001.f. ; lub

2. Wytrzymałe na ci~~ nienia w poduszce powietrznej 6 224 Pa lub wyższe , działają-'

ce przy falach o wvsokości 3,25 m (stan

morza 5) lub więks,zej i specjalnie przeznaczone do pojazdów na poduszce powietrznej (odmiana Zlł sztywnymi burtami) objętych kontrolą według pozycji

8A001.g.;

I. Dmuchawy nośne o mocy nominalnej powyżej 400 kW, specjalnie przeznaczone do

pojazdów na poduszce powietrznej obję­

tych kontrolą według pozycji 8A001.f. lub

8AOO.1.g.;

m . Pracujące w całkowitym zanurzen iiu podkawitacyjne lub superkawitacyjne płaty wodne specjalnie przeznaczone do jednostek

pływających objętych kontrolą według pozycji 8A001.h.;

n.

Układy aktywne specjalnie' przeznaczone

lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do

automatycznej kompensacji wywołanych

Poz. 915

działaniem wody ruchów jednostek pływa ­

jących lub pojazdów objętych kontrolą według pozycji 8AOO1.f., 8A001.g ., 8A001.h.

lub 8A001.i.;

o.

Następujące pędn i ki , układy

przenoszenia

generatory mocy i układy tłumie­

nia szumów

napędu,

1. Następujące pędniki śrubowe lub układy

przenoszenia napędu specjalnie przeznaczone do pojazdów poduszkowych

(zarówno do odmian z pełnym fartuchem bocznym, jak i ze sztywnymi burtami), wodolotów lub jednostek pływa­

jących o małym polu przekroju wodnicowego, objętych kontrolą według pozycji 8A001 .f., 8A001.g., 8A001 .h. lub

8A001.i.

a. Śruby napędowe superkawitacyjne,

superwentylowane, częściowo zanu rzone lub zanurzone niecałkowicie,

o mocy nominalnej powyżej 7,5 MW;

b. Zespoły śrub napędowych przeciwbieżnych o mocy nominalnej powyżej 15 MW;

c. Układy napędowe, w których do

uspokojenia przepływu przez śruby

zastosowano zawirowanie wstępne

albo wylotowe;

d. Lekkie przekładnie redukcyjne o wysokim przełożeniu (współczynnik

przełożenia K powyżej 300);

e. Wałowe układy przeniesienia napę ­

du, składające się z elementów wykonanych z materiałów "kompozytowych", zdolne do przenoszenia mocy powyżej 1 MW;

2. Następujące pędniki śrubowe, generatory mocy lub układy przenoszenia napę­

du przeznaczone dla jednostek pływają­

cych

a. Śruby napędowe o regulowanym

skoku oraz zespoły piast do śrub

o mocy nominalnej powyżej 30 MW;

b. Elektryczne silniki napędowe z wewnętrznym chłodzeniem cieczowym

o mocy wyjściowej powyżej 2,5 MW;

c. "Nadprzewodnikowe" silniki napę ­

dowe albo elektryczne silniki napę ­

dowe z magnesami stałymi, o mocy

wyjściowej powyżej 0,1 MW;

d. Wałowe układy przeniesienia napę ­

du, których elementy są wykonane

z materiałów "kompozytowych",

zdolne do przenoszenia mocy powyżej 2 MW;

e. Wentylowane lub podobne napędy

śrubowe o mocy nominalnej powyżej 2,5 MW;

3. Następujące układy do tłumienia szu mów, przeznaczone dla jednostek pły-

-

5084-

wających o wyporności 1 000 t lub wyż­

szej

a. Układy tłumienia szumów podwodnych o częstotliwościach poniżej

500 Hz, składające się ze złożonych

systemów montażowych służących

do izolacji akustycznej silników wysokoprężnych, zespołów generatorów wysokoprężnych, turbin gazowych, zespołów generatorów gazowych, silników napędowych lub napędowych przekładni redukcyjnych,

specjalnie przeznaczone do tłumie­

nia dźwięków lub wibracji, mające

masę stanowiącą ponad 30% masy

urządzeń , na których mają być zamontowane;.

b. Aktywne układy tłumienia lub elim inacji szumów albo łożyska magnfl~

tyczne, specjalnie przeznaczone da

układów przenoszenia napędu, wyposażone w elektroniczne układy

sterowania umożliwiające aktywne

zmniejszanie wibracji urządzeń poprzez bezpośrednie generowanie do

źródła dźwięków sygnałów tłum ią­

cych dźwięki i w ibracje;

p. Strugowodne układy napędowe o mocy Wyjściowej powyżej 2,5 MW, w których w celu

poprawy sprawności napędu lub zmniejszenia rozchodzącego się pod wodą wytworzonego dźwięku , pochodzącego z układu napędowego, zastosowano dysze ro~bieżne

oraz łopatki kierujące przepływem;

q. Niezależne aparaty do nurkowania i pływa ­

nia podwodnego o zamkniętym lub półza ­

mkniętym obiegu.

S8

Urządzenia do testowania, kontroli i produkcji

S8001 Tunele wodne o szumie tła poniżej 100 d8 (odpowiednik 1 mikropaskala, 1 Hz) w paśmie czę­

stotliwości od Odo 500 Hz, przeznaczone do pomiaru pól akustycznych wytwarzanych przez

przepływy cieczy wokół modeli układów napę ­

dowych .

KATEGORIA 9 9A

Materiały

SC001 Pianka syntaktyczna (porowata) do użytku pod

wodą mająca obie poniższe cechy

a. Przeznaczenie do stosowania na głębokościach większych niż 1 000 m; oraz

b. Gęstość mniejszą n i ż 561 kg/m 3 .

Uwaga techniczna

Pianka s yntaktyczna skfada się z pustych

w środku kuleczek z tworzywa sztucznego lub

szkfa osadzonych w matrycy z żywicy.

SD

Oprogramowanie

SD001 " Oprowamowanie" specjalnie przeznaczone

lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do "rozwoju" , " produkcji " lub "użytkowania" urzą­

dzeń lub materiałów objętych kontrolą według

pozycj i 8A, 88 lub Be;

SD002 "Oprogramowan ie" specjalnie przeznaczone

lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do "rozwoju" , "produkcji" , napraw, remontów lub

modyfikacj i (ponownej obróbki skrawaniem)

śrub, specjalnie w celu tłum i enia generowanych przez nie pod wodą szumów.

SI

Technologie

SI:001 Tech nologie według Uwagi Ogólnej do Technologi i do "rozwoju " lub "produkcji" urządzeń

lub materiałów objęt)/ch kontrolą według pozycji 8A, 88 lub 8e;

IiłE002

Następu j ące inne technologie

a. Technologie do " rozwoju", " produkcji", napraw, remontów lub modyfikacji (ponownej

obróbki skrawan iem) śrub specjalnie w celu

tłumienia generowanych przez nie pod wodą szumów;

b. Technologie do remontów lub modyfikaCji

urządzeń Objętych kontrolą według pozycji

8J.\001 lub 8A002.b., 8A002.j., 8A002.o. lub

8.L\002.p.

UKŁADY NAPĘDOWE, POJAZDY KOS'.VIICZNE liCH WYPOSAŻENIE

Systemy, urządzenia i części

(Dla układów napędowych specjalnie skonstruowanych lub zabezpieczonych przed promieniowaniem neutronowym, lub przenikliwym promieniowaniem jonizującym sprawdź

także Listę Uzbrojenia)

9A001

SC

Poz. 915

Następujące

lotnicze silniki turbogazowe,

w których zastosowano jedną z technologii objętych kontrolą według pozycji 9E003.a.

N.8 .: sprawdź także pozycję 9A101.

a. f\Jie posi a dające certyfikatu na instalowanie

VII

okna ślonym

" samolocie cywilnym",

w kt óry m mają być zastosowane;

b .. Nie posiadające certyfikatu zezwalające.go

na ich użycie do zastosowań cywilnych, wydanego przez władze lotnicze "pańHtwa

uczestn iczącego";

C. Przeznaczone do lotów z prędkościarni powyżraj Mach 1,2 przez ponad 30 minut;

9A106

-

5087 -

Następujące systemy lub podzespoły, różne od

wymienionych w pozycji 9A006, nadające się

do stosowania w "pociskach rakietowych",

specjalnie przeznaczone do układów napędo­

wych rakiet na paliwo ciekłe

Poz. 915

a. Osłony do silników rakietowych, "wykładzi­

ny wewnętrzne" i "izolacja" do nich;

b. Dysze do silników;

c. Podzespoły do sterowania wektorem ciągu.

Uwaga techniczna

a. Wykładziny ablacyjne (ciepłochronne) do komór ciągu lub spalania;

b. Dysze wylotowe do rakiet;

Do sposobów sterowania wektorem ciągu

wymienionych w pozycji 9A 108.c. np.

c. Podzespoły do sterowania wektorem ciągu;

1. Dysza giętka;

Uwaga techniczna

2. Wtrysk dodatkowego pfynu lub gazu pomocniczego;

Do sposobów sterowania wektorem ciągu wymienionych w pozycji 9A 106.c. należą np.

3. Ruchomy silnik lub dysza;

4. Odchylanie strumienia gazów wylotowych (fopatki lub sondy strumieniowe);

albo

1. Dysza giętka;

2. Wtrysk dodatkowego pfynu lub gazu pomocniczego;

5. Używanie klapek oporowych.

3. Ruchomy silnik lub dysza;

4. Odchylanie strumienia gazów wylotowych

(fopatki lub sondy strumieniowe); albo

5. Używanie klapek oporowych.

d. Zespoły do sterowania przepływem płyn­

nych i zawiesinowych paliw napędowych

(w tym utleniaczy) oraz specjalnie przeznaczone do nich elementy, skonstruowane lub

zmodyfikowane pod kątem eksploatacji

w środowiskach, w których występują drgania o średniej wartości kwadratowej powyżej 10 g i o częstotliwości od 20 Hz do

2000 Hz.

9A109 Hybrydowe silniki rakietowe, nadające się do

"pocisków rakietowych", różne od wymienionych w pozycji 9A009, oraz specjalnie do nich

przeznaczone elementy.

N.B.: sprawdź także pozycję 9A119.

9A110

UWAGA: Jedynymi wymienionymi w pozycji 9A 106.d. serwozaworami i pompami elektrohydraulicznymi są wyfącznie

a. serwozawory o objętościowym

natężeniu przepfywu 24 litrów

na minutę lub większym przy ciśnieniu absolutnym 7 MPa lub

większym i czasie reakcji roboczej poniżej 100 ms;

b. pompy

N.B.: sprawdź także pozycje 1A002, 1C010

i 1C210.

do

paliw pfynnych

o prędkościach obrotowych na

wale 8000 lub więcej obrotów na

minutę lub o ciśnieniu wylotowym równym lub większym niż

7 MPa.

9A107 Silniki rakietowe na paliwo stałe nadające się

do kompletnych systemów rakietowych i bezzałogowych pojazdów latających o zasięgu co

najmniej 300 km, różne od wymienionych

w pozycji 9A007 i posiadające impuls całkowi­

ty 0,841 MNs lub większy.

UWAGA: Pozycja 9A 110 dotyczy wyfącznie

tych materiafów do prasowania laminatów zbrojonych wfóknami z tworzyw sztucznych, do których stosowane są żywice o temperaturze zeszklenia (Tg), po utrwaleniu, powyżej

418 K (145 °C), wedfug normy ASTM

04065 lub jej odpowiednika.

9A111 Pulsacyjne silniki odrzutowe nadające się do

"pocisków rakietowych" oraz specjalnie do

nich przeznaczone podzespoły.

.

N.B.: sprawdź także pozycję 9A119.

9A10S Następujące podzespoły, różne od wymienionych w pozycji 9A008, nadające się do "pocisków rakietowych", specjalnie przeznaczone do

układów napędowych do rakiet na paliwo stałe

Materiały kompozytowe, laminaty i wyroby

z nich, różne od wymienionych w pozycji

9A010, przeznaczone specjalnie do kosmicznych pojazdów nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub do rakiet meteorologicznych

wymienionych w pozycji 9A 104, lub podsystemów wymienionych w pozycjach 9A005,

9A007, 9Al05.a ., 9Al06 do 9Al08, 9Al16 lub

9A 119, oraz impregnowane za pomocą żywic

materiały z włókien do prasowania laminatów

zbrojonych oraz używane do nich przedformy

z włókien metalizowanych, wykonane na matrycy organicznej albo metalowej, wzmacnianej włóknami lub włókienkami, posiadające

wytrzymałość właściwą na rozciąganie więk­

szą od 7,62 x 10 4 m oraz moduł właściwy więk­

szy niż 3,18 x 10 6 m.

N.B.: sprawdź także pozycje 9A011 i 9A 118.

9A115

Następujące urządzenia i instalacje startowe,

przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do kosmicznych pojazdów nośnych

wymienionych w pozycji 9A004 lub do rakiet

-

-

-

- --

- - --

- - - - - --

Dziennik Ustaw Nr 142

-

a. aparatura i urządzenia do manipulacji , sterowania, uruchamiania lub odpalania ;

Poz. 915

silników turbogazowych, ich zespołów lub elem entów z zastosowa niem "technologii" obję­

tych kon t rolą wedł ug pozycji 9E003.a;

Następujące statki kosmiczne zdolne do lądo­

wania na ziemi nadające się do "pocisków rakietowych" oraz przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do nich podzespoły

98003 Urządzenia specjalnie przeznaczone do "produkcji " lub testowania uszczelnień szczotkowych w tur binach gazowych wirujących z pręd­

kośc i ami obrotowym i odpowiadającymi pręd ­

kośc i liniowej wierzc hołka łopatki powyżej

335 m/s i przy temperaturach p rzekraczających

773 K (500°C) o raz specjaln ie do nich przeznaczo ne części lub akceso ri a;

a. Statki kosmiczne zdolne do lądowania na ziemi;

98004

Op rzy rz ąd owan i e, matryce lub uchwyty do

zgrzewan ia dyf uzyjnego " nadstopu", tytanu

lub m ię d zyme ta liczn yc h połączeń profili łopat­

kowych z ta rczą, opisanych w pozycjach

9E003.a.3. lu b 9E003.a.6. dla turbin gazowych;

98005

Pracujące w t rybie bezpo śr e d nim (w czasie rzeczywi stym) syste my sterowania, oprzyrządo­

w ani e (włączn ie z czujn ikam i) lu b automatyczne sy st emy do zbiera nia i przetwarzania danych, specja lnie przeznaczone do stosowania

w jednym z wym ienionych poniżej tuneli lub

urząd z e ń aerodynam icznych

b. pojazdy do transportu, manipulacji, sterowania, uruchamiania i odpalania .

b. Osłony ciepłochronne i elementy do nich

wykonane z materiałów ceramicznych lub

ablacyjnych;

c. Urządzenia pochłaniające ciepło i elementy

do nich wykonane z lekkich materiałów

o wysokiej pojemności cieplnej;

d. Urządzenia elektroniczne specjalnie przeznaczone do statków kosmicznych zdolnych do

lądowania na ziemi.

9A117 Mechanizmy do łączenia stopni, mechanizmy

do rozłączania stopni oraz mechanizmy mię­

dzystopniowe, nadające się do "pocisków rakietowych" .

9A118

- - -

5088-

meteorologicznych wymienionych w pozycji

9A104

9A116

- ---

Urządzenia

do regulacji spalania w silnikach,

i do

silników wymienionych w pozycjach 9A011 lub

9A 111.

nadające się do "pocisków rakietowych"

9A119 Pojedyncze stopnie do rakiet, nadające się do

kompletnych systemów rakietowych i bezzało­

gowych pojazdów latających o zasięgu co najmniej 300 km, różne od wymienionych w pozycjach 9A005, 9A007, 9A009, 9A105, 9A107

i9A109.

98

Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

98001

Następujące specjalne urządzenia, oprzyrządo­

wanie i osprzęt do produkcji lub pomiaru wirujących i nieruchomych łopatek turbin lub ban daży do wirników

a. Urządzenia umożliwiające kierunkowe krzepnięcie lub wytwarzanie pojedynczych kryształów;

b. Rdzenie lub powłoki ceramiczne;

c. Urządzenia lub oprzyrządowanie do wytwarzania rdzeni ceramicznych;

d. Urządzenia do przygotowywania woskowych modeli powłok ceramicznych;

98002 Pracujące w trybie bezpośrednim (w czasie rzeczywistym) systemy sterowania, oprzyrządo­

wanie (włącznie z czujnikami) lub automatyczne systemy do zbierania i przetwarzania danych, specjalnie przeznaczone do "rozwoju"

N.8.: sprawdź także pozycję 98105.

a. Tunele aerod y namiczne do prędkości Mach

1,2 lub wyż szych ,

z wyjątk iem

Tuneli przeznaczonych do celów edukacyjnych i wyposażonych w przestrzeń pomiarową ( m i e rzon ą w kie runku poprzecznym)

o wymi arze p o n iż ej 250 mm;

Uwaga techniczna

" Wymiar przestrzen i pomiarowej" w pozycji 98005 oznacza średnicę okręgu lub bok

kwadratu, albo najdtuższy bok prostokąta

w najszerszym miejscu przestrzeni pomiarowej.

b. Urządzen i a sym u l u jące warunki przepływu

przy p r ę d kości ach powyżej Mach 5, włącz­

nie z impulsowym i tunelami hiperdźwięko ­

wymi , t unelami plazmowymi, rurami uderzeniowym i, tune lami gazowymi i rurami

uderzen iowym i na gazy lekkie;

c. Tunele lub urządzenia aerodynamiczne, róż­

ne od urządzeń z sekcjami dwuwymiarowymi, u m o żl iwiające symulację przepływów,

d la których wa rtość liczby Reynoldsa wynosi powyżej 25 x 10 6 ;

98006 Sprzęt do b a dań akustycznych i wibracyjnych,

w kt órym m oż na wytwarzać ciśnien i a akustyczne na poziom ie 160 dB lub wyższe (odpowiadające 20 m ikropaskalom) o mocy wyjściowej

4 kW lub wi ę kszej przy temperaturze w komorze pomiarowej powyżej 1273 K (1 OOO°C) oraz

specjalnie do niego przeznaczone grzejniki

kwarcowe;

N.8.: sprawdź także pozycję 98106.

-

Poz. 915

c. Kąt osi otworu równy lub mniejszy

niż 25°; lub

9. "FADEC" przeznaczonych do silników

turbogazowych lub silników o kombinowanym cyklu roboczym oraz do ich odpowiednich elementów diagnostycznych, czujników i specjalnie skonstruowanych elementów;

10.

Kanałów przepływowych o zmiennej

geometrii i odpowiednich układów sterowania do

a. Turbin do wytwornic gazów;

b. Turbin do napędu wentylatorów lub

energetycznych;

c. Dysz napędowych;

UWAGI

1. Do kanałów przepływowych

o zmiennej geometrii oraz odpowiednich układów do sterowania nimi, wymienionych

w pozycji 9E003.a. 10., nie zalicza się wlotowych łopatek

kierowniczych, wentylatorów

o zmiennym skoku, zmiennych stójek ani zaworów upustowych w sprężarkach.

2. Pozycja 9E003.a. 10. nie obejmuje kontrolą technologii do

"rozwoju" lub " produkcji"

kanałów o zmiennej geometrii opracowanych do odwracaczy ciągu.

11. Układów regulacji wielkości luzu wierzchołkowego według "technologii" obudowy z aktywną kompensacją, ograniczonych do baz danych dotyczących

projektowania i rozwoju;

12. Drążonych (pustych w środku) wentylatorowych łopatek o dużej cięciwie, nie

podpartych na części rozpiętości;

b. "Technologie" niezbędne do "rozwoju" lub

"produkcji"

1. Modeli lotniczych do tuneli aerodynamicznych wyposażonych w czujniki nieinwazyjne zdolne do przenoszenia danych z czujników do systemu gromadzenia i przetwarzania danych; lub

2. Wykonanych z materiałów "kompozytowych" łopat śmigieł lub śmigłowentyla­

torów zdolnych do rozwijania mocy

2 000 kW przy prędkościach lotu powyżej Mach 0,55;

c. "Technologie" niezbędne do "rozwoju" lub

"produkcji" elementów silników turbogazowych, w których zastosowano techniki wiercenia za pomocą "Iaserów", dysz wodnych

lub technik elektromechanicznych albo

elektroiskrowych

(ECM/EDM)

otworów

o jednym z poniższych zespołów parametrów

1. Wszystkie z poniższych

a. Głębokości czterokrotnie większe od

średnicy;

b. Średnice mniejsze od 0,76 mm; oraz

2. Wszystkie z poniższych

a. Głębokości pięciokrotnie większe od

średnicy;

b. Średnice mniejsze od 0,4 mm; oraz

c. Kąty osi otworu powyżej 25°;

Uwaga techniczna

Dla celów pozycji 9E003.c. kąt osi otworu

mierzy się od płaszczyzny stycznej do powierzchni profilu w punkcie, w którym oś

otworu przebija powierzchnię profilu.

d. "Technologie" niezbędne do

1. "Rozwoju" układów przenoszenia napę­

du w śmigłowcach lub układów przenoszenia napędu w "samolotach" z odchylanymi wirnikami lub skrzydłami; lub

2. "Produkcji" układów przenoszenia napędu w śmigłowcach lub układów przenoszenia napędu w "samolotach" z odchylanymi wirnikami lub skrzydłami;

e.

1. "Technologie" do "rozwoju" lub "produkcji" pojazdów naziemnych napędza­

nych wysokoprężnymi silnikami tłoko­

wymi o następujących parametrach

a. Objętość komory silnikowej 1,2 m 3

lub mniejsza;

b. Całkowita moc użyteczna powyżej

750 kW, określana według normy

80/1269/EEC, ISO 2534 lub ich krajowych odpowiedników; oraz

c. Gęstość mocy powyżej 700 kW/m 3

pojemności komory silnikowej;

Uwaga techniczna

Pojemność komory silnikowej: iloczyn trzech prostopadłych do siebie

wymiarów mierzonych w następują­

cy sposób

Długość: Długość wału korbowego

od kołnierza przedniego do czoła kota zamachowego;

Szerokość: Największy z następują­

cych wymiarów

a. Odległość zewnętrzna od pokrywy zaworu do pokrywy zaworu;

b. Wymiary zewnętrznych krawędzi gtowic cylindrów; lub

c. Średnica obudowy kota zamachowego;

Wysokość: Największy z następują­

cych wymiarów

a. Odlegtość osi watu korbowego od górnej płaszczyzny pokrywy zaworów (lub głowicy

cylindrów) plus podwójny

skok; lub

b. Średnica obudowy koła zamachowego.

-

5092-

Poz. 915

2. "Technologie" "niezbędne" do "produkcji" następujących specjalnych elementów przeznaczonych do wysokociśnie­

niowych silników wysokoprężnych

1. Objętość wtrysku powyżej 230 mm 3

na wtrysk na cylinder; oraz

2. Specjalnie skonstruowane elektroniczne zespoły sterujące, przeznaczone do automatycznego

przełączania, za pomocą odpowiednich czujników, charakterystyk regulacyjnych w zależności

od właściwości paliwa w ,celu

utrzymania tej samej charakterystyki momentu obrotowego;

a. "Technologie" "niezbędne" do "produkcji" instalacji silnikowych wyposażonych we wszystkie następujące

elementy wykonane z materiałów

ceramicznych objętych kontrolą według pozycji 1C007

1. Wkładki do cylindrów;

2. Tłoki;

3. Głowice cylindrów; oraz

4. Jeden albo więcej innych elemen-

3. "Technologie" "niezbędne" do "rozwoju" lub "produkcji" wysokociśnienio­

wych silników wysokoprężnych ze smarowaniem cylindrów za pomocą smarów stałych, z fazy gazowej lub filmu

cieczowego (lub metodą kombinowaną), umożliwiającym pracę silnika do

temperatur powyżej 723 K (450°C), mierzonych na ściance cylindra w górnym

położeniu górnego pierścienia tłokowe ­

go.

tów (włącznie ze szczelinami wylotowymi, turbodoładowarkami,

prowadnicami zaworów, zespoła­

mi zaworów lub izolowanymi

wtryskiwaczami paliwa);

b. "Technologie" "niezbędne" do "produkcji" układów do turbodoładowa­

nia, wyposażonych w sprężarki jednostopniowe, mające wszystkie następujące cechy charakterystyczne

1. Spręż (stopień sprężania) 4:1 lub

Uwaga techniczna

Wysokociśnieniowe silniki wysokoprężne

Silniki wysokoprężne (Diesla) o średnim ciśnieniu użytecznym 1,8 MPa lub wyższym

przy prędkościach obrotowych 2300 obrotów na minutę, pod warunkiem że ich pręd­

kość nominalna wynosi 2300 obrotów na

minutę lub więcej.

wyższy;

2. Wydatek (masowe natężenie przepływu) w zakresie od 30 do 130 kg

na minutę; oraz

3. Możliwość zmiany pola przepływu

w zespole sprężarki lub turbiny;

c. "Technologie" "niezbędne" do "produkcji" instalacji wtryskowych paliwa

ze specjalnymi układami wielopaliwowymi (np. wysokoprężnymi lub iskrowymi) w zakresie lepkości od paliw do

silników wysokoprężnych [2,5 cSt

w temperaturze 310,8 K (37,8°Cll do

paliw benzynowych [0,5 cSt w temperaturze 310,8 K (37,8°C)) i posiadające

wszystkie wymienione poniżej cechy

cha rakterystyczne

9E101

" Technologie" według Uwagi Ogólnej do Tech nologii do "rozwoju " lub "produkcji" wyrobów

wymienionych w pozycjach 9A101, 9A104 do

9A111 lub 9A115 do 9A119.

9E102 "Technologie" według Uwagi Ogólnej do Technologii do "użytkowania" kosmicznych pojazdów nośnych wymienionych w pozycji 9A004

lub wyrobów wymienionych w pozycjach

9A005 do 9A011, 9A101, 9A104 do 9A111,

9A115 do 9A119, 98105, 98106, 98115, 98116,

98117, 9D101 lub 9D103.

§ 2. Traci moc zarządzenie Ministra Wspótpracy Gospodarczej z Zagranicą z dnia 20 grudnia 1996 r. w sprawie ustalenia wykazów towarów i technologii objętych

szczególną kontrolą obrotu z zagranicą (Monitor Polski

Nr 84, poz. 750 i z 1997 r. Nr 45, poz. 443).

Załącznik nr 2

LISTA IMPORTOWA

WYKAZ TOWARÓW I TECHNOLOGII

O PODWÓJNYM ZASTOSOWANIU PRZYWOŻONYCH NA TERYTORIUM RZECZYPOSPOLITEJ POLSKIEJ

Każda z występujących w Liście kategorii jest podzielona na następujące grupy

A. Systemy, urządzenia i części

8. Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

C. Materiały

D. Oprogramowanie

E. Technologie

W cudzysłowach umieszczono terminy zdefiniowane

w "słowniku", wspólnym dla Listy eksportowo-tranzytowej i importowej .

Uwagę Ogólną do Technologii i Uwagę Ogólną do

Oprogramowania, umieszczone przy Liście eksportowo-tranzytowej, stosuje się odpowiednio w odniesieniu do importu towarów i technologii wymienionych

w Liście importowej.

5093-

MATERIAŁY, INSTALACJE I URZĄDZENIA JĄDROWE

KATEGORIA O -

OA

-

Systemy, urządzenia i części

nia UF 6 w procesach rozdzielania izotopów

metodą dyfuzji, ultrawirowania lub kaskady

Żadne.

aerodynamicznej;

f.

08

Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

08001

Następujące instalacje do separacji izotopów

z "uranu naturalnego" "uranu zubożonego"

i "specjalnych materiałów rozszczepialnych"

oraz urządzenia specjalnie do nich zaprojektowane lub wykonane

2. Pompy próżniowe specjalnie przeznaczone do pracy w atmosferze UF 6 ;

I

a. Następujące instalacje specjalnie przeznaczone do separacji izotopów "uranu naturalnego" "uranu zubożonego" oraz "specjalnych materiałów rozszczepialnych"

I

1. Instalacje do rozdzielania gazów metodą

wirowania;

08004

Następujące instalacje do produkcji lub stęża­

nia ciężkiej wody, deuteru i związków deuteru

oraz specjalnie do nich zaprojektowane i wykonane urządzenia

a. Następujące instalacje do produkcji ciężkiej

wody, deuteru i związków deuteru oraz specjalnie do nich zaprojektowane i wykonane

urządzenia

2. Instalacje do dyfuzyjnego rozdzielania

gazów;

1. Instalacje do produkcji metodą wymiany

woda - siarkowodór;

3. Instalacje do rozdzielania metodami aerodynamicznymi;

2. Instalacje do produkcji metodą wymiany

amoniak-wodór;

4. Instalacje do rozdzielania metodami wymiany chemicznej;

5. Instalacje do rozdzielania techniką wymiany jonów;

6. Instalacje do rozdzielania izotopów za

pomocą "Iaserów" na parach metali

(AVUS);

7. Instalacje do rozdzielania izotopów za

pomocą

"Iaserów"

molekularnych

(MUS);

8. Instalacje do rozdzielania metodami plazmowymi;

9. Instalacje do rozdzielania

elektromagnetycznymi;

08002

1. Próżniowe instalacje rur rozgałężnych lub

zbiorników o wydajności ssania wynoszącej 5 m 3 na minutę lub więcej; lub

metodami

Następujące specjalnie zaprojektowane lub

wykonane pomocnicze instalacje, urządzenia

i podzespoły do instalacji separacji izotopów

wymienionych w pozycji 08001, wykonane

z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF " lub chronione materiałami tego tys

pu

a. Autoklawy, piece lub instalacje do doprowadzania UF6 do instalacji do wzbogacania;

b. Desublimatory lub wymrażarki do odprowadzania UF6 z instalacji przetwórczych i dalszego jego transportu po ogrzaniu;

c. Instalacje do produktu lub frakcji końcowych

do transportu UF 6 do zbiorników;

b. Następujące urządzenia i podzespoły

1. Kolumnowe wymienniki typu woda siarkowodór wykonane z oczyszczonej

stali węglowej (np. ASTM A516), mają­

ce średnicę od 6 m do 9 m i zdolność do

pracy przy ciśnieniach równych lub

większych niż 2 MPa oraz posiadające

naddatek korozyjny o wartości 6 mm lub

większy;

2. Jednostopniowe, niskociśnieniowe (np.

0,2 MPa), odśrodkowe dmuchawy lub

kompresory wymuszające cyrkulację

gazowego siarkowodoru (tj. gazu zawierającego więcej niż 70% H2 S), o przepustowości

równej lub większej niż

56 m 3jsek podczas pracy przy ciśnie­

niach zasysania równych lub większych

niż 1,8 MPa, posiadające uszczelnienia

umożliwiające pracę w środowisku wilgotnego H2 S;

3. Kolumnowe wymienniki typu amoniak

- wodór o wysokości równej lub więk­

szej niż 35 m i średnicy od 1,5 m do

2,5 m, zdolne do pracy przy ciśnieniach

większych niż 15 MPa;

4. Konstrukcje wewnętrzne kolumn włącz­

nie z kontaktorami stopniowymi i pompami stopniowymi, w tym zanurzeniowymi, do produkcji ciężkiej wody w procesie wymiany amoniak - wodór;

d. Instalacje do skraplania lub zestalania stoso'wane do usuwania UF 6 z procesu wzbogacania drogą sprężania i przetwarzania UF 6

w ciecz lub ciało stałe;

5. Instalacje do krakowania amoniaku zdolne do pracy przy ciśnieniach równych

lub większych niż 3 MPa przy produkcji

ciężkiej wody w procesie wymiany amoniak - wodór;

e. Instalacje rurociągowe i zbiorniki specjalnie

przeznaczone do transportu i manipulowa-

6. Podczerwone analizatory absorpcyjne

zdolne do bieżącej (on-line) analizy

-

5095-

Poz. 915

nego ", jeżeli znajduje się w czujnikach instrumentów pomiarowych;

przystosowanych do wykorzystania w reaktorach jądrowych,

b. proszku grafitowego.

b. "Uranu zubożonego" specjalnie

wyprodukowanego z przeznaczeniem do wyrobu następujących

produktów cywilCwch spoza dziedziny jądrowej

2. W pozycji OC004 " ekwiwalent boru"

(BE) zdefiniowany jest jako suma

BEz dla domieszek (z pominięciem

BEc dla węgla, ponieważ węgiel nie

jest

uważany

za

domieszkę)

z uwzględnieniem boru, gdzie

1. Osfony;

2. Wypefnienia;

3. Balasty o masie nie przekracza-

BEz (ppm) = CF x stężenie pierwiastka Z określane w ppm (częściach na

milion),

jącej 100 kg;

4. Przeciwwagi o masie nie przekraczającej 100 kg;

gdzie CF jest wspófczynnikiem przeliczeniowym

c. Stopów zawierających mniej niż

5% toru;

d. Produktów ceramicznych zawierających tor, ale wykonanych do zastosowań poza dziedziną jądrową.

(J z Aa

CF = -=-:r

(Ja I-Iz

a (Ja i (Jz są przekrojami czynnymi

na wychwyt neutronów termicznych

(w barnach) odpowiednio dla boru

pochodzenia naturalnego i pierwiastka Z, a Aa i Az są masami atomowymi odpowiednio boru naturalnego i pierwiastka Z.

OC002 "Specjalne materiały rozszczepialne".

UWAGA: Pozycja OC002 nie obejmuje kontrolą

czterech "gramów efektywnych" lub

mniej, w przypadku ich stosowania

w czujnikach instrumentów pomiarowych.

OC003 Deuter, ciężka woda (tlenek deuteru) i inne

związki deuteru oraz ich mieszaniny i roztwory,

w których stosunek liczby atomów deuteru do

atomów wodoru jest większy niż 1 : 5 000.

OC004 Grafit klasy jądrowej, o stopniu zanieczyszczenia poniżej 5 części na milion "ekwiwalentu boru" oraz gęstości większej niż 1,50 g/cm 3 .

UWAGI: 1. Pozycja OC004 nie obejmuje kontrolą

a. wyrobów grafitowych o masie

mniejszej niż 1 kg, różnych od

specjalnie zaprojektowanych lub

KATEGORIA 1 1A

Oprogramowanie

00001 "Oprogramowanie " specjalnie opracowane

lub' zmodyfikowane z przeznaczeniem do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" towarów wymienionych w tej kategorii.

OE

OE001

Technologia

"Technologie" według Uwagi do Technologii

do "rozwoju", "produkcji" lub

"użytkowania" towarów wymienionych w tej

kategorii.

Jądrowej,

MATERIAŁY, SUBSTANCJE CHEMICZNE, "MIKROORGANIZMY" I "TOKSYNY"

Systemy, urządzenia i części

1A225 Katalizatory platynowe specjalnie opracowane

lub przygotowane do wspomagania reakcji

wymiany izotopów wodoru pomiędzy wodorem a wodą w celu separacji trytu z ciężkiej wody albo w celu produkcji ciężkiej wody.

1A226 Wyspecjalizowane wkłady do oddzielania cięż­

kiej wody od wody zwykłej, wykonane z siatek

z brązu fosforowego i przeznaczone do stosowania w próżniowych wieżach destylacyjnych .

1B

00

pracy z jednym lub wieloma źródłami jonów

zdolnymi do uzyskania wiązki jonów o całkowi ­

tym natężeniu rzędu 50 mA lub więcej, albo

wyposażone w takie źródło lub źródła.

UWAGA: Pozycja 1B226 obejmuje następujące

separatory

a. zdolne do wzbogacania izotopów

trwafych;

b. ze źródfami i kolektorami jonów

zarówno w polu magnetycznym,

jak i w takich instalacjach, w któ rych zespofy te znajdują się na zewnątrz pola.

Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

1B226 Elektromagnetyczne separatory izotopów,

skonstruowane z przeznaczeniem do współ-

1B227 Konwertery do syntezy amoniaku lub urządze­

nia do syntezy amoniaku, w których gaz do

syntezy (azot lub wodór) jest odprowadzany

-

5096-

z wysokociśnieniowej kolumny wymiennej

amoniakowo-wodorowej, a zsyntetyzowany

amoniak wraca do wspomnianej kolumny.

a. szczelne dla powietrza (tj. hermetycznie zamknięte);

b. do stężonych roztworów amidku potasu (1%

lub powyżej), z ciśnieniem roboczym

1,5-60 MPa (15-600 atmosfer); do rozcień­

czonych roztworów amidku potasu (poniżej

1%), z ciśnieniem roboczym 20-60 MPa

(200-600 atmosfer); oraz

18228 Kolumny do kriogenicznej destylacji wodoru posiadające wszystkie wymienione poniżej cechy

a. skonstruowane z przeznaczeniem do pracy

przy temperaturach wewnętrznych 35 K

(-238°C) lub mniejszych;

b. skonstruowane z przeznaczeniem do pracy

przy ciśnieniach wewnętrznych od 0,5 do

5 MPa (5 do 50 atmosfer);

c. o wydajności powyżej 8,5 m 3/godz.

18231

c. skonstruowane z drobnoziarnistych stali nierdzewnych klasy 300 o niskiej zawartości

siarki lub równoważnych materiałów kriogenicznych dostosowanych do działania

w atmosferze H2 S; oraz

d. o średnicach wewnętrznych 1 m lub więk­

szych i długościach efektywnych 5 m lub

b. Następujące podzespoły urządzeń lub instalacji do obróbki trytu

1. urządzenia do chłodzenia wodoru lub

helu zdolne do chłodzenia do temperatury 23 K (-250°C) lub poniżej, o wydajności odprowadzania ciepła powyżej

150 watów; lub

Uwaga techniczna

W pozycji 18228 " drobnoziarniste stale nierdzewne " oznaczają drobnoziarniste nierdzewne stale austenityczne o rozmiarze ziarna 5 lub

większym wedfug norm ASTM lub równoważ­

nych.

UWAGI

1. W przypadku kolumn specjalnie

skonstruowanych lub spreparowanych do produkcji ciężkiej wody

patrz 08004.

2. Kontaktory wewnętrzne w kolumnach są segmentowymi pófkami

o zespofowej średnicy roboczej

1,8 m lub większej, skonstruowanymi w sposób ufatwiający kontakt

czynników w przeptywie przeciwprą ­

dowym, wykonanymi z materiafów

odpornych na korozję w wyniku dziafania mieszanki siarkowodoru z wodą . Mogą one mieć postać pófek sitowych, pófek zaworowych, pófek

dzwonowych lub rusztowych.

3. W pozycji 18229 "drobnoziarnista

stal węglowa" oznacza stal austenityczną o rozmiarze ziarna 5 lub więk­

szym wedfug norm ASTM lub równowaźnych.

4. W pozycji 18229 "materiafy odporne

na korozję w wyniku dziafania mieszanki siarkowodoru z wodą" oznaczają stale nierdzewne o zawartości

węgla 0,03% lub mniejszej.

18230 Pompy do przetłaczania roztworów katalizatora z amidku potasu rozcieńczonego lub stężo­

nego w ciekłym amoniaku (KNH 2/NH 3 ), posiadające wszystkie wymienione poniżej cechy

Następujące urządzenia i instalacje do obróbki

trytu lub ich podzespoły

a. Urządzenia lub instalacje do produkcji, odzyskiwania, ekstrakcji, stężania lub manipulowania trytem;

większych.

18229 Kolumny półkowe do wymiany typu wodasiarkowodór oraz kontaktory wewnętrzne do

nich, wykonane z drobnoziarnistej stali węglo­

wej o średnicy 1,8 m lub większej z przeznaczeniem do pracy przy ciśnieniu nominalnym

2 MPa lub wyższym.

Poz. 915

2. instalacje do magazynowania i oczyszczania izotopów wodoru za pomocą wodorków metali jako środków do magazynowania lub oczyszczania.

1C

Materiały

1C001

Następujące materiały specjalnie opracowane

z przeznaczeniem na pochłaniacze fal elektromagnetycznych albo polimery przewodzące

samoistnie

a. Materiały pochłaniające fale o częstotliwo­

ściach powyżej 2 x 108 Hz, ale poniżej

3 x 10 12 Hz;

UWAGA: 1. Pozycja le001.a. nie obejmuje

kontrolą

a. Pochfaniaczy typu wfosowego, wykonanych z wtókien naturalnych albo syntetycznych,

w których pochfanianie osiąga

się innym sposobem niż magnetyczny;

b. Pochfaniaczy nie wykazują­

cych strat magnetycznych

oraz takich,

których powierzchnia, na którą pada promieniowanie, nie jest pIanarna, w tym ostrosfupów, stoż­

ków, klinów i powierzchni zwichrowanych;

c. Pochfaniaczy planarnych posiadających wszystkie poniż­

sze cechy

1. Wykonanie z jednego z poniższych materiafów

a. ze spienionych tworzyw

sztucznych (elastycznych

-

5097-

albo

nieelastycznych)

wzmacnianych węglem,

albo z ma te ria fó w organicznych, wfącznie z materiafami wiążącymi, dających

więcej niż 5%

echa w porównaniu z metalami, w paśmie o szerokości wyższej o ±15%

od częstotliwości centralnej padającej fali, i nieodpornych na temperatury przekraczające 450 K

(17rC); lub

b. z materiafów ceramicznych dających ponad 20%

echa więcej w porównaniu z metalami, w paśmie

Poz. 915

Uwaga techniczna

Objętościową przewodność elektryczną

oporność powierzchniową należy

określać zgodnie z normą ASTM 0-257 al-

oraz

bo jej odpowiednikami.

lC232 Hel-3 lub hel wzbogacony w izotop helu-3, mieszanki zawierające hel-3 lub wyroby i urządze ­

nia zawierające dowolny z wyżej wymien ionych produktów;

z wyjątkiem

Wyrobów lub urządzeń zawierających poniżej

1 g helu-3.

lC233 Lit wzbogacony w izotop 6 (6Li) do stężenia powyżej 7,5% udziału atomowego, stopy, związki

lub mieszaniny zawierające lit wzbogacony

o szerokości wyższej

o ±15% od częstotliwości

w izotop 6, lub produkty albo urządzenia zawierające dowolny z wymienionych wyrobów;

centralnej padającej fali,

i nieodpornych na temperatury przekraczające

800 K (527°C);

z wyjątkiem

2. Posiadających

wytrzymafość na rozciąganie poniżej

7 x 10B N/m 2 ; oraz

3. Posiadających

wytrzymafość na ściskanie poniżej

14 x 10B N/m 2 ;

d. Pochfaniaczy planarnych wykonanych ze spieku ferrytowego, charakteryzującego się

Dozymetrów termoluminescencyjnych.

Uwaga techniczna

Udziaf atomowy izotopu 6 w licie występują­

cym w przyrodzie wynosi 7,5%.

lC234 Cyrkon z zawartością wagową hafnu mniejszą

niż 1 część hafnu na 500 części cyrkonu, w postaci metalu, stopów zawierających wagowo

powyżej 50% cyrkonu oraz jego związków lub

wyrobów z tych materiałów;

z wyjątkiem

1. Ciężarem wfaściwym powyżej 4,4; oraz

Cyrkonu w postaci folii o grubości nie większej

niż 0,10 mm.

2. Maksymalną temperaturą

roboczą 548 K (275°C);

UWAGA: Pozycja 1C234 dotyczy również odpadów i zfomu zawierającego cyrkon

w podanych tu proporcjach.

2. Żadne sformufowąnie w pozycji

1C001.a. nie zwalnia materiafów

magnetycznych używanych jako

pochfaniacze fal w farbach.

b. Materiały pochłaniające fale o częstotliwo­

ściach w zakresie od 1,5 x 10 14 Hz do

3,7 X 10 14 Hz i nieprzezroczyste dla promieniowania widzialnego;

c. Materiały polimerowe przewodzące samoistnie, o objętościowej przewodności elektrycznej powyżej 10 000 Sim (simensów na

metr) albo oporności powierzchniowej poniżej 100 omów1m 2 , których podstawowym

składnikiem jest jeden z następujących polimerów

lC235 Tryt, związki trytu i mieszanki zawierające tryt,

w których stosunek atomów trytu do wodoru

wynosi 1 część na 1000 oraz wyroby lub urzą­

dzenia zawierające te materiały;

z wyjątkiem

Wyrobu lub urządzenia zawierającego nie wię­

cej niż 1,48 x 103 GBq (40 Ci) trytu w dowolnej

postaci.

lC236 Radionuklidy emitujące cząstki alfa o okresie

połowicznego rozpadu 10 dni lub dłuższym, ale

poniżej 200 lat, związki lub mieszanki zawierające dowolny z radionuklidów tego typu o cał­

2. Polipirol;

kowitej radioaktywności alfa 37 GBq/kg (1 kiur

na kilogram) lub większej oraz wyroby lub

urządzenia zawierające te materiały;

3. Politiofen;

z wyjątkiem

1. Polianilina;

4. Polifenylenowinylen; lub

5. Politienylenowinylen.

Wyrobów lub urządzeń zawierających radionuklidy o radioaktywności alfa poniżej 3,7 GBq

(100 milikiurów).

-

5098 -

1C237 Rad-226, związki radu-226, mieszaniny zawierające rad-226 oraz wyroby lub urządzenia za wierające dowolny z tych materiałów; z wyjąt­

kiem

a. Aplikatorów medycznych;

b. Wyrobów lub urządzeń zawierających nie

więcej n i ż 0,37 GBq (10 milikiurów) radu -226 w dowolnej postaci.

1C238 Trifluorek chloru (CIF3) .

1C239

1C350

Materiały wybuchowe kruszące, różne od wymienionych w Liśc i e uzbrojenia, albo substan cje lub mieszanki zawierające materiały tego

typu w ilości powyżej 2%, o gęstości krystalicznej powyżej 1,8 gm na cm 3 i mające prędkość

detonacji powyżej 8000 m/s.

Następujące substancje chemiczne, które moż­

na stosować jako prekursory do wyrobu toksycznych związków chemicznych

N.B.: sprawdź także Listę Uzbrojenia i pozycję

1 C450.

(Cyfry w nawiasach oznaczają numery CAS)

1. Tiodiglikol [sulfid di(2-hydroksyetylowy)1

(111 -48-8)

2. Tlenochlorek fosforu (10025-87-3)

4. Difluorek metylofosfonowy (676-99-3)

Dla tego związku sprawdź Listę Uzbrojenia.

6. Fosfonian dimetylu (868-85-9)

7. Trich lorek fosforu (7719-12-2)

8. Fosforyn trimetylu (121 -45-9)

9. Chlorek tionylu (7719-09-7)

13. 3-chinuklidynol (1619-34-7)

19. Fosfonian dietylu (762-04-9)

28. Alkohol pinakolinowy (3,3 -dimetyI0-2-butanol) (464-07-3)

29 . 0 -etylometylofosfinin 2-diizopropyloaminoetylu (57856- 11 -8)

Dla tego związku sprawdź Listę Uzbrojenia.

30. Fosforyn trietylu (122-52-1)

31 . Trichlorek arsenu (7784-34-1)

32. Kwas benzilowy (76-93-7)

38. Pentachlorek fosforu (10026-13-8)

46. Trietanoloamina (102-71-6)

51. Dichlorek disiarki (10025-67 -9)

52 . Dichlorek siarki (10545-99-0).

1C351 Substancje wywołujące choroby u ludzi , choroby przenoszone przez zwierzęta i "toksyny"

d. Następujące " toksyny" i ich " podjednostki

toksyn"

4. Rycyna (9009-86-3)

5. Saksytoksyna (35523-89-8)

1C450 Następujące toksyczne związki chemiczne

i prekursory toksycznych związków chemicznych

Poz. 915

N.B.: sprawdź także pozycje 1C350, 1C351 .d.

i Listę Uzbrojenia.

a. Następujące toksyczne związki chemiczne

1. Am iton: fosforotiolan O,O-dietylo-S-[2-(dietyloamino)etylul i odpowiednie alkilowane lub protonowane sole (78-53-5)

2. PFIB

1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(trifluorometylo)prop-1-en (382-21-8)

3. Sprawdź Listę Uzbrojenia dla BZ: Benzilan chinuklidyn-3-ylu (6581 -06-2)

4. Fosgen : dichlorek karbonylu (75-44-5)

5. Chlorocyjan (506-77 -4)

6. Cyjanowodór (74-90-8)

7. Chloropikryna: trichloronitrometan

(76-06-2)

b. Następujące prekursory toksycznych związ­

ków chemicznych

1. Związki chemiczne, różne od wymienionych w Liście uzbrojenia lub w pozycji

1C350, posiadające atom fosforu, z którym związ ana jest jedna grupa metylowa, etylowa, propylowa lub izopropylowa, lecz nie grupa licząca więcej atomów

węgla,

z wyjątkiem

Fonofosu

etylofosfonotionotionianu

O-etylo-S-fenylu (944-22-9),

2. Dihalogenki N,N-dialkilo (metylo, etylo,

propylo tub izopropylo) fosforoamidowe,

3. N,N -dialkilo (metylo, etylo, propylo lub

izopropylo) fosforoamidany dialkilu

(metylu, etylu , propylu lub izopropylu)

różne od N,N-dimetylofosforoamidanu

dietylu wymienionego w pozycji 1C350,

4. Chlorki 2-[N,N-dialkilo (metylo, etylo,

propylo lub izopropylo) aminoletylu i odpowiednie protonowane sole, inne niż

chlorek N,N-diizopropylo - (~) - aminoety­

lowy lub chlorek chlorowodorku N,N-diizopropylo - (~)-aminoetylowego,

5. 2-[N,N -dialkilo (metylo, etylo, propylo lub

izopropylo) aminoletanole i odpowiednie

protonowane

sole

różne

od

2-(N,N-diizopropyloamino)

etanolu

(96-80-0) i dietyloaminoetanolu (100-37-8),

wymienionych w pozycji 1C350,

z wyjątk i em

a. N,N-dimetyloaminoetanolu (108-01 -0) i odpowiednich protonowanych soli,

b. N,N-dietyloaminoetanolu (100-37-8) i odpowiednich protonowanych soli,

6. 2-[N ,N-dialkilo (metylo, etylo, propylo lub

izopropylo) aminoletanotiole i odpowiednie protonowane sole, inne niż N,N -diizopropylo - (~)-aminoetylotiol,

7.

-

Etylodietanoloamina: bis(2 -hydroksyetylo)etyloamina (139-87 -7),

10

8. Metylodietanoloamina: bis(2-hydroksyetylo)metyloam ina (105-59-9);

1E

KATEGORIA 2 2A

5099 -

Poz. 915

Oprogramowanie

Żadne .

Technologie

Żadne.

PRZETWÓRSTWO MATERIAŁÓW

Systemy, urządzenia i części

ramię

Żadne.

Mogą one mieć sterowanie

robocze i uchwyt

końcowy.

mechaniczne oraz przez joystick lub klawiaturę·

28

Urządzenia testujące,

kontrolne

produkcyj-

ne

28225

Następujące zdalnie sterowane manipulatory,

któ re mogą być stosowane do zdalnego wykony vania prac podczas rozdzielania rad iochemicznego oraz do wykonywania prac w komorach gorących

a. Posiadające możliwość wykonywania opera cji przez ścianę osłonową komory gorącej

o grubości 0,6 m lub więcej (dla operacji wykonywanych przez ścianę); lub

2C

b. Posiadające możliwość wykonywania operacji ponad górną krawędzią ściany osłonowej

komory gorącej (tzw. mostkowania) o grubości 0,6 m lub większej (dla operacji wykonywanych ponad ścianą) .

20

UWAGA: Zdalnie

sterowane manipulatory

przeksztafcają dziafanie czfowieka na

KATEGORIA 3 3A

28232 Wielostopniowe wyrzutn ie gazowe lub inne

urządzenia do wyrzucania obiektów z wysoką

prędkością (cewkowe,

elektromagnetyczne,

elektrotermiczne lub inne nowoczesne systemy tego typu) zdolne do przyspieszania poci sków do prędkości 2 km/s lub większej .

Systemy, urządzenia i części

Żadne.

2E

Technologie

Żadne.

ELEKTRONIKA

30

Oprogramowanie

Żadne .

Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

Żadne .

3C

Oprogramowanie

Żadne.

Żadne .

38

Materiały

3E

Technologie

Żadne.

Materiały

Żadne .

KATEGORIA 4 4A

Systemy, urządzenia i części

4A001

Następujące

nia według Kategorii 5 (Część 2 Informacji") .

" Ochrona

komputery elektroniczne i towa-

rzyszące im urządzenia oraz specjalnie do nich

przeznaczone "zespoły" i elementy

b. Mające cechy charakterystyczne lub realizu jące działania wykraczające poza ogran icze-

A

KOMPUTERY

4A003 Następujące "komputery cyfrowe" , "zespoły

elektroniczne" i urządzenia im towarzyszące

oraz specjalnie dla nich przeznaczone elemen ty

-

5100 -

UWAGI

7. Pozycja 4A003 obejmuje

a. procesory wektorowe,

b. procesory tablicowe,

c. cyfrowe procesory sygnafowe,

d. procesory logiczne,

e. urządzenia przeznaczone do "udoskonalania obrazów" ,

f. urządzenia przeznaczone do "przetwarzania sygnafów" .

2. Status kontroli " komputerów cyfrowych" i towarzyszących im urządzeń

według pozycj i 4A003 wynika ze statusu kontroli innych urządzeń lub

systemów, pod warunkiem, że

a. "Komputery cyfrowe" lub towarzyszące im urządzenia mają zasadnicze znaczenie dla dziafania tych innych urządzeń lub systemów;

b. "Komputery cyfrowe " lub towarzyszące im urządzenia nie są

"podstawowym elementem " tych

innych urządzeń lub systemów;

oraz

UWAGA

7. Status kontroli urządzeń do " przetwarzania sygnafów" lub " udoskonalania obrazów" specjalnie przeznaczonych do innych urządzeń,

i ograniczonych funkcjonalnie do

wymogów pracy tych urządzeń, wynika ze statusu kontroli tych innych

urządzeń, nawet gdy wykracza to poza kryterium " podstawowego elementu".

2. W przypadku statusu kontroli "komputerów cyfrowych" lub towarzyszą­

cych im urządzeń, przeznaczonych

do sprzętu telekomunikacyjnego,

patrz Kategoria 5 (Część 7 - Urzą­

dzenia telekomunikacyjnej . .

c." Technologię" w odniesieniu do "komputerów cyfrowych " i towarzyszących im

urządzeń ujęto w pozycji 4E.

spóf w taki sposób, że w razie

awarii jednej z aktywnych jednostek centralnych dziafania

związane z kontynuacją pracy

systemu może przejąć bliźnia­

cza jednostka centralna, znajdująca się do tej chwili na biegu jafowym;

3. Pofączenie dwóch jednostek

centralnych szynami danych

albo poprzez wykorzystywaną

wspólnie pamięć w celu

umożliwienia danej jednostce

centralnej wykonywania innych dziafań do czasu awarii

drugiej jednostki centralnej,

co

spowoduje

przejęcie

wszystkich prac związanych

z funkcjonowaniem systemu

przez pierwszą jednostkę centralną; lub

4. Synchronizację dwóch jednostek centralnych za pomocą

"oprogramowania" w taki

sposób, że jedna z nich rozpoznaje awarię drugiej i przejmuje w takiej sytuacji jej zadania.

b. "Komputery cyfrowe" o "teoretycznej mocy

kombinowanej" (CTP) powyżej 10000 milionów teoretycznych operacji kombinowanych na sekundę (Mtops);

4A004

2. Pofączenie dwóch "komputerów cyfrowych" w jeden ze-

lo

Następujące komputery i specjalnie dla nich

przeznaczone urządzenia towarzyszące, "zespoły elektroniczne" i elementy do nich

b. "Komputery neuronowe"

c. "Komputery optyczne".

48

Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

Żadne.

4C

Materiały

Żadne.

a. "Odporne na uszkodzenia" dzięk i specjalnej

konstrukcji lub odpowiednio zmodyfikowane;

UWAGA: Dla celów pozycji 4A003.a., " komputery cyfrowe" i towarzyszące

im urządzenia nie są uważane za

" odporne na uszkodzenia" dzięki

specjalnej konstrukcji lub odpowiedniej modyfikacji, jeżeli zastosowano w nich

7. Algorytmy wykrywania albo

korekcji bfędów w "pamięci

operacyjnej";

Poz. 915

40

Oprogramowanie

40003

Następujące "oprogramowanie" specjalne

c. "Oprogramowanie" o cechach lub możli­

wościach realizacji funkcj i wykraczających

poza ograniczenia wymienione w pozycjach Kategorii 5 (Część 2 - "Ochrona Informacji");

4E

Technologie

Żadne.

·Dziennik Ustaw Nr 142

KATEGORIA 5 Część 1 -

-

5101 -

Poz. 915

TELEKOMUNIKACJA I "OCHRONA INFORMACJI"

URZĄDZENIA TELEKOMUNIKACVJNE

•

5A 1

Systemy, urządzenia i części

5A101

Urządzenia do zdalnego przekazywania wyni-

ków pomiarów i do zdalnego sterowania znajzastosowanie w "pociskach rakietowych".

dujące

UWAGA: Pozycja 5A 101 nie obejmuje kontrolą

urządzeń specjalnie przeznaczonych

do zdalnego sterowania modelami samolotów, statków lub pojazdów i wytwarzających pole elektryczne o natę­

żeniu nie przekraczającym 200 mikrowoltów na metr w odległości 500 metrów.

5B1

Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

Żadne.

rzystaniem technik cyfrowych do "ochrony informacji";

2. Przeznaczone

albo

zmodyfikowane

z przeznaczeniem do realizacji funkcji

kryptog raficznych;

3. Przeznaczone albo zmodyfikowane w celu zastosowania "kryptografii" z wykorzystaniem technik analogowych do

"ochrony informacji";

UWAGA: Pozycja 5A002.a.3. nie obejmuje kontrolą poniżej wymienionych urządzeń

1. Urządzenia do szyfrowania

pasmowego ze "stafym

wzorcem", nie posiadające

więcej niż 8 pasm, w których

transpozycje zmieniają się

nie częściej niż raz na sekundę;

5C1

Materiały

Żadne.

5D1

Oprogramowanie

Żadne.

5E1

Technologie

Żadne.

Część 2 -

"OCHRONA INFORMACJI"

U WAGA: W niniejszej Kategorii określono status kontroli urządzeń, "oprogramowania", systemów, sposobów wykorzystania specjalnych

" zespołów elektronicznych", modułów, ukła­

dów scalonych, elementów, technologii lub

funkcji opisanych w Kategorii 5, część 2 , nawet jeśli stanowią one elementy lub "zespoły elektroniczne" innych urządzeń.

5A2

Systemy, urządzenia i części

5A002 a. Następujące systemy, urządzenia, sposoby

wykorzystania specyficznych "zespołów

elektronicznych", moduły i układy scalone

związane z "ochroną informacji" oraz inne

specjalne elementy do nich

N.B. dla celów kontroli urządzeń odbiorczych globalnych satelitarnych systemów nawigacji zawierających lub wykorzystujących dekryptaż (np. GPS lub .

GLONASS) sprawdź także pozycję

7A005.

1. Przeznaczone albo zmodyfikowane w celu zastosowania "kryptografii" z wyko-

2. Urządzenia do szyfrowania

pasmowego ze "stałym

wzorcem ", posiadające wię­

cej niż 8 pasm, w których

transpozycje zmieniają się

nie częściej niż raz na dziesięć sekund;

3. Urządzenia do szyfrowania

za pomocą inwersji często­

tliwości ze "stałym wzorcem", w których transpozycje zmieniają się nie czę­

ściej niż raz na sekundę;

4. Urządzenia symilograficzne

(telegrafii kopiowej);

5. Urządzenia radionadawcze

dla ograniczonej liczby odbiorców;

6. Cywilne

zyjne;

urządzenia

telewi-

4. Przeznaczone

albo

zmodyfikowane

z przeznaczeniem do wygaszania przypadkowego przekazywania sygnałów

przenoszących tajne informacje;

UWAGA: Pozycja 5A002.a.4. nie obejmuje kontrolą urządzeń specjalnie

opracowanych albo zmodyfikowanych z przeznaczeniem

do wygaszania sygnałów ze

względów zdrowotnych i bezpieczeństwa pracy.

5. Przeznaczone albo zmodyfikowane w celu wykorzystania technik kryptograficz-

J

;.

-

nych do gene rowan ia kodu rozpraszają­

cego dla "widm a rozproszonego" lub kodu rozrzucającego (hopp ing) dla systemów z " regulacją czę stot l i wQŚci ";

Poz. 915

e. Funkcji rozszyfrowujących specjalnie

opracowanych w ten sposób, że umoż­

liwiają dziafanie "oprogramowania "

zabezpieczonego przed kopiowaniem,

pod warunkiem, że użytkownik nie ma

dostępu do funkcji rozszyfrowujących;

6. Przeznaczone al bo zmodyf ikowane w celu zapewnienia uwierzytelnionego albo

wymagającego uwierzyteln ienia " w ielopoziomowego systemu ochrony" lub

wyodrębnien i a u ż ytkownika na poziomie

powyżej Klasy 8 2 wed ł ug Kryteriów

Oszacowan ia Poufnych Systemów Komputerowych (Trusted Com p uter System

Evaluation Crite ria - TCSEC) lub równo-

f.

ważnych ;

7. Instalacje kabli

telekomunikacyjnych

przeznaczone lub zmod yf ikowane za pomocą elementów mecha niczn ych , elektrycznych lub elekt ro nicznych w celu wykrywania niepo wołan ych pod łączeń do

systemów.

jątkiem

h. Urządzeń kryptograficznych specjalnie

skonstruowanych z przeznaczeniem do

stosowania w maszynach do realizacji

operacji bankowych lub gotówkowych, takich jak automatyczne terminale bankowe, samoobsfugowe drukarki zadaniowe lub terminale w punktach sprzedaży, przeznaczonych wyfącznie do tego typu zastosowań;

1. Brak możliwości kodowania ruchu

telegraficznego lub kodowania danych dostarczan ych p rzez użytkow­

nika albo p okrewnych funkcji zarzą­

dzania kluczem d o nich; lub

582

1. Rozwoju urządzeń lub funkcji objętych

kontrolą w pozycjach 5A002, 58002,

50002 lub 5E002, w tym urządzeń pomiarowych lub do testowania;

wych, pfatnej te lewizji lub podobnych

systemó w te lewizyj n ych typ u konsumenckiego o og raniczonym zasięgu,

nie pos iadających kodowania cyfrowego oraz, w których kodowanie cyfrowe

j est wykorzystywa ne tylko do funkcji

audiowizyjn ych lub zarządzających;

l

Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

58002 a. Urządzenia specjalnie przeznaczone do

c. Urządzeń odb io rcz ych dla stacji radio-

d. Przewożnych lub przenośnych radiotelefonów do zastoso wań cywilnych,

(np . do użytkowania w cywilnych systemach radiokomunikacji terytorialnej), w których n ie ma możliwości szyfrowa n ia przez abonentów końcowych

(szyfrowanie typ u " end-to-end " );

związanych

g. Urządzeń do identyfikacji danych, obliczających Kod Autentyczności Komunikatu (MAC) lub podobny wynik, uniemożliwiający zmianę tekstu, ale nie pozwalających na kodowanie danych,

tekstu lub innych mediów różnych od

niezbędnych do identyfikacji;

a. " Inteligentn ych kart osobistych " lub

specjaln ie dla nich opracowanych

urządzeń mających jedn ą z poniższych

cech

b. Urządzeń, w których zastosowano

" niezmienne " tech niki kompresji lub

kodowania danych;

bezpośredn i o

z ochroną hasfa lub PIN;

UWAGA: Pozycja 5A002 nie obejmuje kontrolą

2. Ograniczen ie do stoso w an ia w urzą­

dzeniach lub systemach wyfączo­

nych spod kontroli w punktach od 1

do 6 Uwagi do p ozycji 5A002.a.3. lub

w punktach od b. d o h. niniejszej

Uwagi;

Urządzeń kontroli dostępu, takich jak

automatyczne terminale bankowe,

samoobsfugowe drukarki zadaniowe

lub terminale w punktach sprzedaży,

chroniące hasfo lub osobisty numer

identyfikacyjny (PIN) albo podobne

dane w celu uniemożliwienia dostę ­

pu do tych instalacji osobom nie upo ważnionym , ale nie pozwalające na

kodowanie plików ani tekstów, z wy-

2. Produkcji urządzeń lub funkcji objętych

kontrolą w pozycjach 5A002, 58002,

50002 lub 5E002, w tym urządzeń pomiarowych, do testowania, napraw lub

produkcji;

b. Urządzenia pomiarowe specjalnie przezna czone do oceny i analizy funkcji dotyczących

"ochrony informacji" objętych kontrolą według pozycji 5A002 lub 50002 .

5C2

Materiały

Żadne.

,

-

5103 -

Poz. 915

UWAGA: Pozycja 50002 nie obejmuje kontrolą

a. " Oprogramowania" "niezbędne­

go" do "użytkowania" urządzeń

nie objętych kontrolą na mocy

Uwagi do pozycji 5A002;

Oprogramowanie

50002 a. "Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do

"rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania"

urządzeń lub "oprogramowania" objętego

kontrolą według pozycji 5A002, 58002 lub

5D002;

b. "Oprogramowania" umożliwiają­

cego realizację dowolnej funkcji

urządzeń wyfączonych z kontroli na

mocy Uwagi do pozycji 5A002.

b. "Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane w celu wspierania

"technologii" objętych kontrolą według pozycji 5E002;

5E2

c. Następujące "oprogramowanie" specjalne

Technologia

5E002 Technologie według Uwagi Ogólnej do Technologii, przeznaczone do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" urządzeń lub "oprogramowania" ujętych w pozycjach 5A002, 58002

lub 5D002.

1. "Oprogramowanie" mające właściwości

albo realizujące lub symulujące funkcje

urządzeń objętych kontrolą według pozycji 5A002 lub 58002;

2. "Oprogramowanie" do uwierzytelniania

"oprogramowania" objętego kontrolą

według pozycji 5D002.c.1.;

KATEGORIA 6 -

6A

CZUJNIKI I LASERY

1. Częstotliwość nośna poniżej 10 kHz;

Systemy, urządzenia i części

2. Poziom

powyżej

a. Następujące okrętowe systemy akustyczne,

urządzenia albo specjalnie do nich przeznaczone elementy

1. Następujące systemy aktywne (nadajniki albo nadajniki-odbiorniki), urządzenia

lub specjalnie do nich przeznaczone elementy

UWAGA: Pozycja 6A001.a.1. nie obejmuje kontrolą

a. sond do pomiaru gfęboko­

ści pracujących w pionie

pod aparaturą, nie mają­

cych możliwości przeszukiwania w zakresie powyżej

±20°, których dziafanie jest

ograniczone do pomiaru

gfębokości wody, odległo­

ści do zanurzonych lub zatopionych obiektów albo

do wykrywania ławic ryb;

b. następujących pław lub

staw akustycznych

1. akustycznych pfaw lub

staw ostrzegawczych;

2. sonarów impulsowych

specjalnie

przeznaczonych do przemieszczenia

się lub powrotu do pofożenia podwodnego.

b. Systemy do wykrywania lub lokalizacji obiektów posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych

ciśnienia

akustycznego

224 d8 (co odpowiada

1 mikropaskalowi na 1 m) wodniesieniu do urządzeń z częstotliwo­

ścią roboczą w paśmie od 10 kHz do

24 kHz włącznie;

6A001 Czujniki akustyczne

3. Poziom ciśnienia akustycznego powyżej 235 d8 (co odpowiada 1 mikropaskalowi na 1 m) w odniesieniu do urządzeń z częstotliwością

roboczą w paśmie od 24 kHz do

30 kHz;

4. Kształtujące wiązki o kącie rozproszenia poniżej 1° względem dowolnej osi i posiadające częstotliwość

roboczą poniżej 100 kHz;

5. Umożliwiające pomiar odległości

do obiektów w zakresie powyżej

5120 m;

6. Skonstruowane w ten sposób, że

w normalnych warunkach pracy są

wytrzymałe na ciśnienia na głębo­

kości większej niż 1000 m i są zaopatrzone w przetworniki

a. Z dynamiczną kompensacją ciśnienia; lub

b. W których elementem przetwarzającym nie jest cyrkonian/tytanian ołowiu;

6A002 Czujniki optyczne

Żadne .

-

5104-

stycznych oraz specjalnie do nich przeznaczone elementy

6A003 Kamery filmowe

Żadne.

Żadne.

6A004 Elementy optyczne

Żadne.

6B

Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

Żadne.

6AOO5 "Lasery"

Żadne.

6C

6AOO6 Magnetometry

Materiały

Żadne.

Żadne.

6AOO7 Następujące grawimetry i mierniki gradientu

6D

Oprogramowanie

Żadne.

pola grawitacyjnego

Żadne.

6AOOS Systemy, urządzenia i zespoły radarowe o jed-

6E

Żadne.

nej z wymienionych poniżej cech charaktery-

KATEGORIA 7 7A

NAWIGACJA I AWIONIKA

Systemy, urządzenia i części

7D

Żadne.

7B

Oprogramowanie

Żadne.

Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

Żadne.

7C

Technologie

7E

Technologie

Żadne.

Materiały

Żadne.

KATEGORIA S SA

SA001

URZĄDZENIA OKRĘtOWE

Systemy, urządzenia i części

Następujące

pływające

jednostki podwodne

lub nawodne

a. Załogowe pojazdy podwodne na UWięZI

przeznaczone do działania na głębokościach

większych niż 1 000 m;

b. Załogowe, autonomiczne pojazdy podwodne posiadające jedną z poniższych cech

1. Przeznaczenie do "działań autonomicznych" i nośność stanowiącą jednocześnie

a. 10% lub więcej ich wagi w powietrzu;

oraz

b. 15 kN lub więcej;

2. Przeznaczenie do działania na głęboko­

ściach większych niż 1 000 m; lub

3. Posiadanie wszystkich

właściwości

.l

następujących

a. Przeznaczenie dla załogi czteroosobowej lub liczniejszej;

b. Przeznaczenie do "autonomicznego

działania" przez 10 lub więcej godzin;

c. "Zasięg" 25 lub więcej mil morskich;

o~az

d. Długość 21 m lub mniejszą;

Uwagi techniczne

1. Dla potrzeb pozycji BA001.b. termin "dziafanie autonomiczne" dotyczy dziafań prowadzonych przez pojazd podwodny (posiadający ukfad napędowy pracujący pod

wodą albo nad wodą) w cafkowitym zanurzeniu, bez chrap, przy wszystkich systemach pracujących i krążenia z minimalną

prędkością, przy której pojazd podwodny

może bezpiecznie regulować dynamicznie gfębokość zanurzenia za pomocą wyfącznie sterów gfębokości, bez korzysta-

-

5105 -

nia z pomocy nawodnej jednostki plywającej, ani bazy nawodnej, na dnie lub brze-

gu morza.

2. Dla potrzeb pozycji BADD1 .b. "zasięg"

oznacza polowę maksymalnego dystansu, jaki pojazd podwodny może pokonać.

c. Bezzałogowe pojazdy podwodne na uwię ­

zi przeznaczone do działania na głęboko­

ściach większych niż 1 000 m, posiadają­

ce jedną z poniższych cech charakterystycznych

1. Przeznaczenie

do

manewrowania

z własnym napędem za pomocą silni ków napędowych lub silników odrzu towych objętych kontrolą według pozycji 8A002 .a.2; lub

2. Światłowodowe

danych;

kanały

przesyłania

d . Bezzałogowe pojazdy podwodne bez

uwięzi (swobodne), posiadające jedną

z poniższych cech charakterystycznych

1. Możliwość

decydowania o kursie

dowolnego systemu geograficznego bez bieżącej (w czasie rzeczywistym) pomocy człowieka;

względem

2. Wyposażen i e w akustyczne kanały

przesyłania danych lub poleceń; lub

3. Wyposażenie

w

dłuższe

niż

1000 m światłowodowe kanały przesyłania danych lub poleceń;

8A002

Następujące układy lub urządzenia

b. Systemy specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do automatycznego sterowania ruchem urządzeń do

pojazdów podwodnych objętych kontrolą

według pozycji 8A001, korzystające z danych nawigacyjnych i wyposażone w serwomechanizmy sterujące ze sprzężeniem

zwrotnym w celu umożliwienia pojazdowi

1. Poruszania się w słupie wody w zasięgu

10 m od ściśle określonego punktu;

2. Utrzymania położenia w słupie wody

w zasięgu 10 m od określonego punktu;

lub

3. Utrzymania położenia w zasięgu do

10 m od kabla leżącego na dnie albo

znajdującego się pod dnem morza;

f. Elektroniczne systemy tworzenia obrazów,

specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania pod wodą, mające możliwość zapamiętania w postaci cyfrowej ponad 50 naświetlonych obrazów;

h. "Roboty" (manipulatory) specjalnie przeznaczone do pracy pod wodą, zarządzane za po-

Poz. 915

mocą dedykowanego komputera "ze sterowaniem zaprogramowanym w pamięci",

mające jedną z poniższych cech

1. Wyposażenie w układy sterujące "robotem" dzięki informacjom z czujników

mierzących siły lub momenty działające

na obiekty zewnętrzne albo odległość

do zewnętrznego obiektu, lub czujników

dotykowych "robota" wyczuwających

obiekt zewnętrzny; lub

2.

Możliwość działania

z siłą 250 N lub

albo momentem 250 Nm lub

większym, i do których budowy zastosowano stopy na osnowie tytanowej albo

materiały "kompozytowe" na osnowie

"włókien lub włókienek";

większą

j. Następujące układy napędowe niezależne od

dopływu powietrza, specjalnie przeznaczone do działania pod wodą

1. N iezależne od powietrza systemy napę­

dowe z silnikami pracującymi według

obiegu Braytona (Joula) lub Rankina,

wyposażone w jeden z wymienionych

poniżej układów

a. Chemiczne układy oczyszczające lub

absorpcyjne, specjalnie przeznaczone do usuwania dwutlenku węgla,

tlenku węgla i cząstek stałych zawieszonych w gazie wydechowym z sil nika pracującego w obiegu z recyrkulacją;

b. Specjalne układy przystosowane do

pracy na gazach jednoatomowych;

c. Urządzenia lub obudowy specjalnie

przeznaczone do tłumienia pod wodą szumów o częstotliwościach poniżej 10 kHz, lub specjalne urządze­

nia mocujące, osłabiające skutki

wstrząsów; lub

d. Układy specjalnie przeznaczone do

1. Prasowania produktów reakcji albo do regeneracji paliw;

2. Składowania produktów reakcji;

oraz

3. Usuwania

produktów

reakcji

w warunkach ciśnienia zewnętrz­

nego 100 kPa lub większego;

2. Niezależne od powietrza systemy napę ­

dowe z silnikami wysokoprężnymi

(obieg Diesla) wyposażone w jeden

z wymienionych poniżej układów

a. Chemiczne układy oczyszczające lub

absorpcyjne, specjalnie przeznaczone do usuwania dwutlenku węgla,

tlenku węgla i cząstek stałych zawieszonych w gazie wydechowym z silnika pracującego w obiegu z recyrkulacją;

-

5106 -

Poz. 915

b. Specjalne układy przystosowane do

pracy na gazach jednoatomowych;

c. Urządzenia lub obudowy specjalnie

przeznaczone do tłumienia pod wodą szumów o częstotliwościach poniżej 10 kHz, lub specjalne urządze­

nia mocujące osłabiające skutki

wstrząsów; lub

d. Specjalne układy wydechowe o nieciągłym odprowadzaniu produktów

spalania;

3. Niezależne od powietrza układy energetyczne na ogniwach paliwowych o mocy powyżej 2 kW, wyposażone w jeden

z wymienionych poniżej układów

a. Urządzenia lub obudowy specjalnie

przeznaczone do tłumienia pod wodą szumów o częstotliwościach poniżej 10 kHz, lub specjalne urządze­

nia mocujące, ' osłabiające skutki

wstrząsów; lub

b. Układy specjalnie przeznaczone do

1. Prasowania produktów reakcji albo do regeneracji pal iw;

2. Składowania produktów reakcji ;

oraz

3. Usuwania

produktów

reakcji

w warunkach ciśnienia zewnętrz­

nego 100 kPa lub większego;

4. Niezależne od powietrza systemy napę ­

dowe z silnikami pracującymi według

obiegu Stirlinga, wyposażone we

wszystkie z poniższych układów

a. Urządzenia lub obudowy specjalnie

przeznaczone do tłumienia pod wodą szumów o częstotliwościach poniżej 10 Hz, lub specjalne urządzenia

mocujące , osłabiające skutki wstrzą­

sów; oraz

KATEGORIA 9 9A

b. Specjalne układy wydechowe do

usuwania produktów spalania w warunkach clsnlenia zewnętrznego

100 kPa lub większego;

8B

Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

Żadne.

8C

Materiały

8C001 Pianka syntaktyczna (porowata) do użytku pod

wodą mająca obie poniższe cechy

a. Przeznaczenie do stosowania na głębokościach większych niż 1 000 m; oraz

b. Gęstość mniejszą niż 561 kg/m 3 .

Uwaga techniczna

Pianka syntaktyczna sktada się z pustych

w środku kuleczek z tworzywa sztucznego lub

szkta osadzonych w matrycy z żywicy.

80

Oprogramowanie

Żadne.

8E

Technologie

8E002

Następujące inne technologie

a. Technologie do " rozwoju", "produkcji" , napraw, remontów lub modyfikacji (ponownej

obróbki skrawaniem) śrub specjalnie w celu

tłumienia generowanych przez nie pod wodą szumów;

b. Technologie do remontów lub modyfikacji

urządzeń objętych kontrolą według pozycji

8AOOl lub 8A002.

UKŁADY NAPĘDOWE, POJAZDY KOSMICZNE I ICH WYPOSAŻENIE

Systemy, urządzenia i części

9A005 Rakietowe systemy napędowe na paliwo ciekłe

zawierające jeden z systemów lub elementów

wymienionych w pozycji 9A006 Listy eksportowo-tranzytowej;

9A007 Systemy napędowe rakiet na paliwo stałe o następujących parametrach

N.B.: sprawdź także pozycję 9A119.

a. Impuls całkowity powyżej 1,1 MNs;

b. Impuls właściwy 2,4 kNs/kg lub większy

w sytuacji wypływu z dyszy do otoczenia

w warunkach istniejących na poziomie morza przy ciśnieniu w komorze wyregulowanym na poziomie 7 MPa;

&

c. Udział masowy stopnia powyżej 88% i procentowy udział składników stałych w paliwie powyżej 86%;

d. Zawierające dowolne elementy objęte kontrolą według pozycji 9A008; lub

e. Wyposażone w układy izolacyjne i wiążące

paliwo, w których zastosowano bezpośred­

nio poł ączone konstrukcje silnikowe zapewniające " silne połączenia mechaniczne" lub

elementy barierowe uniemożliwiające migrację chemiczną pomiędzy paliwem stałym a stanowiącym osłonę materiałem izolacyjnym;

Uwaga techniczna

Dla celów pozycji 9A007.e. "silne pofączenie

mechaniczne" oznacza wytrzymafość wiąza-

-

5107 -

nia równą lub większą niż wytrzymafość paliwa.

9A009 Hybrydowe systemy napędowe rakiet o nastę­

pujących parametrach

9C

Poz. 915

Materiały

Żadne.

90

Oprogramowanie

a. Impuls całkowity powyżej 1,1 MNs; lub

b. Ciąg powyżej 220 kN w warunkach próżni na

wylocie;

9AOll Silniki strumieniowe, naddźwiękowe silniki

strumieniowe lub silniki o cyklu kombinowanym oraz specjalnie do nich opracowane elementy.

9Alll Pulsacyjne silniki odrzutowe nadające się do

" pocisków rakietowych " oraz specjalnie do

nich przeznaczone podzespoły.

9A 119 Pojedyncze stopnie do rakiet, nadające się do

" pocisków rakietowych" o zasięgu 300 km lub

większym, różne od wym ienionych w pozycjach podkategorii 9A.

9B

Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne

Żadne.

90001 "O"programowanie" specjalnie opracowane

lub zmodyfikowane do "rozwoju" urządzeń objętych kontrolą według pozycji podkategorii

9A;

90103 "Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone

do modelowania, symulowania lub integrowania konstrukcyjnego systemów lub podsystemów wymienionych w pozycjach podkategorii

9A.

9E

Technologia

9EOOl

"Technologie" według Uwagi Ogólnej do Technologii do "rozwoju " urządzeń lub "oprogramowania " objętego kontrolą według pozycji

podkategorii 9A;

9E002 "Technologie " według Uwagi Ogólnej do Technologii do "produkcji" urządzeń wymienionych w pozycjach podkategorii 9A;